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2014.03.28
マレーシアにおける特許出願書類（本記事は、2023/4/20に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/34333/マレーシアでは、特許出願書類として、願書、明細書、クレーム、図面、要約書等が必要である。
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2014.03.21
マレーシアにおける優先権主張を伴う特許出願マレーシアにおける特許出願において優先権を主張する場合、出願時の願書において、優先権を主張する旨を宣誓する必要がある。基礎出願の出願書類の謄本は必ずしも出願時に提出する必要はないが、登録官から提出を求められた日から3ヵ月以内に提出しなければならない。優先権主張の期間は基礎出願から12ヶ月以内であり、部分優先や複数優先も認められる。
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2014.03.21
台湾における専利法の紹介「台湾模倣対策マニュアル」（2013年3月、交流協会）一、（一）1.では、台湾専利法に関し、特許、実用新案及び意匠の各保護対象、保護を受けるための要件、出願手続及び手数料等について、表やフローチャート等を用いて詳細に説明されている。また、六には、手数料表や委任状フォーム等の添付資料も掲載されている。
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2014.03.06
サウジアラビアにおける商標制度本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。
「模倣対策マニュアル 中東編」（2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課）第２部第２章第３節では、サウジアラビアにおける商標制度について紹介されている。具体的には、商標の定義、出願、団体商標、記載事項、優先権、商標局による審査、拒絶理由、公告、異議申し立て、登録の流れ、更新、譲渡、質入れ等について紹介されている。
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2014.03.05
サウジアラビアにおける半導体回路配置および意匠制度本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。
「模倣対策マニュアル 中東編」（2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課）第２部第２章第２節では、サウジアラビアにおける半導体回路配置及び意匠制度について紹介されている。サウジアラビアでは、回路配置及び意匠は、「特許、集積回路の回路配置、植物品種及び工業意匠に関する法律」によって保護されるが、本節では、意匠における登録要件、出願、優先権主張及び新規性喪失の例外、並びに、集積回路の回路配置における登録要件、譲渡、実施許諾及び強制実施権等について紹介されている。
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2014.02.20
韓国における商標制度「模倣対策マニュアル 韓国編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第II編第５章では、韓国の商標制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持、異議申立、各種商標審判手続、審決取消訴訟、マドリッド議定書による出願等について紹介されている。
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2014.02.19
韓国におけるデザイン保護制度（本記事は、2020/2/13に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18280/「模倣対策マニュアル 韓国編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第II編第４章では、韓国のデザイン保護制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持、デザイン無審査登録異議申立、デザイン審判手続等について紹介されている。韓国のデザイン登録出願は物品により、実体審査を経ないで登録になるものと、実体審査を経て登録になるものがある。「デジタル社会におけるデザイン保護に即した意匠制度の在り方に関する調査研究」（2012年2月、知的財産研究所）II．２．（３）では、表示器等の物品に表示された、物品の部分としての画面デザインの保護について紹介されている。
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2014.02.17
韓国における特許制度「模倣対策マニュアル 韓国編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第II編第２章では、韓国の特許制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持、各種の特許審判、PCT出願手続等が紹介されている。
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2013.12.27
ベトナムにおける意匠登録制度及びその運用実態（2022年5月13日訂正：
本記事のソース「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」（2013年2月、日本国際知的財産保護協会）II．２では、ベトナムにおける意匠登録制度及びその運用実態について紹介されている。具体的には、法令整備状況、意匠登録制度の所管部局、意匠登録出願及び登録件数の統計情報、意匠制度、審査業務内容、意匠権に係る審決例等について紹介されている。ベトナムには、部分意匠制度や秘密意匠制度は存在しない。
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2013.12.20
シンガポールにおける意匠登録制度及びその運用実態（2022年5月13日訂正：
本記事のソース「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」（2013年2月、日本国際知的財産保護協会）II．５、III．５では、シンガポールにおける意匠登録制度全般について詳しく説明されている。具体的には、意匠登録制度の法令、規則等の整備状況や、管轄部局の組織図、出願書類、登録要件、権利の効力範囲、裁判例等が説明され、資料編では、ガイドラインや審査フロー図等が掲載されている。