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2014.10.01
タイにおけるハーグ協定のジュネーブ改正協定加盟に向けた課題「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)Ⅲ-1では、タイのハーグ協定のジュネーブ改正協定加盟に向けた課題として、複数意匠一括出願制度、公開繰り延べ制度、拒絶通報期間、秘密の写しの受理、新規性喪失の例外、関連意匠制度、意匠の簡潔な説明及び請求の範囲、見本による意匠の表現、方式審査、国際登録簿等に関するタイの現状について説明されている。
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2014.10.01
インドネシアにおける意匠権の効力範囲及び侵害が及ぶ範囲「各国・地域の意匠権の効力範囲及び侵害が及ぶ範囲に関する調査研究報告書」(2014年2月、日本国際知的財産保護協会) 第Ⅱ部12では、インドネシアにおける意匠制度の枠組み、意匠権設定前後の運用、著作権との関係、意匠権侵害、意匠権侵害の救済、税関・警察等での取締り等について、法律上の規定に加えて、判例等の具体的な事例、願書等への記載内容に関してインドネシア特許庁担当者の回答並びにインドネシア実務者から得た見解を交えて詳細に説明されている
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2014.09.19
中国における実用新案権の無効宣告請求と訴訟対応の留意点「実用新案活用法と他社権利行使への対応に関する調査報告書」(2012年3月、日本貿易振興機構上海事務所知的財産部)第2章2.3では、中国における実用新案権の無効宣告請求と訴訟対応の留意点について紹介されている。具体的には、新規性、進歩性等の無効理由、無効宣告段階の修正、無効宣告段階の口頭審理、訴訟提起時の評価報告書提出の要否等について紹介されている。
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2014.08.22
ロシアにおける意匠の表現に関する制度・運用ロシアにおいて、意匠の表現は、図面のほか写真若しくはCGによる特定が可能である。図面について必要最小図面数の限定や提出可能図面数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する図面、即ち斜視図、正面図、背面図、上面図、底面図、左側面図、右側面図を提出しなければならない。提出図面の大きさはA4サイズという制約があり、拡大図の提出も可能である。写真についても必要最小写真数の限定や提出可能写真数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する写真の提出が求められており、写真は鮮明なものである必要がある(白黒/カラーいずれでも良い)。CGによる意匠の特定は静止状態のもののみ認められる(他の条件は写真と同様)。
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2014.08.15
ベトナムにおける意匠の登録要件・不登録事由ベトナム知的財産法においては、意匠の登録要件と不登録事由が定められている。登録要件としては、新規性、創作性、産業上の利用可能性が規定されているが、通達(circular)において、創作性の要件を満たさず登録が受けられない場合について比較的具体的に記載されているため、ベトナムにおける意匠の登録可能性を検討するにあたって参考になる。
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2014.07.29
ベトナム特許におけるグレースピリオドベトナムにおいては、特許要件として新規性が要求されるが、一定の要件の下、6ヶ月のグレースピリオドも認められている。
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2014.07.25
中国におけるコンピュータ・ソフトウエア及びビジネスモデル関連等における保護の現状(本記事は、2019/1/8に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16381/「コンピュータ・ソフトウエア関連およびビジネス分野等における保護の在り方に関する調査研究報告書」(2010年3月、日本国際知的財産保護協会)I.第1章、第7章1では、中国におけるコンピュータ・ソフトウエア(CS)関連およびビジネスモデル(BM)関連等における保護の現状について紹介されている。具体的には、特許要件を紹介した上で、CS関連発明及びBM関連発明の特許可能性、特許性ガイドライン、クレームの形式等について紹介されている。また、「コンピュータ・ソフトウエア関連およびビジネス分野等における保護の在り方に関する調査研究報告書(参考資料編)」(2010年3月、日本国際知的財産保護協会)には、参考となる論説が掲載されている。
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2014.07.22
マレーシアにおける特許の新規性について(本記事は、2023/11/21に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/37762/1995年8月1日より後に適用された法律では、マレーシア特許出願は、刊行物、口頭の開示、使用等の開示により新規性を失い特許権の付与が認められない。しかし、マレーシアも、国際慣例に鑑み、一定の猶予期間に限って、定められた行為についてのみグレースピリオド(開示無視)が認められる。
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2014.06.24
韓国意匠法全面改正(2014年7月1日施行)の概要韓国のデザイン保護法(意匠法)が2013年5月28日付で全面改正され、2014年7月1日から施行される。今回の改正においては、条文を体系的に再配置して、意匠創作者の権利保護強化のための制度改善、意匠登録出願人の便宜増進のための制度改善、ヘーグ協定に伴う国際出願及び国際意匠登録出願手続を導入する等の改正が行われている。
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2014.06.20
韓国における特許を受ける権利を有する者の権利保護「特許を受ける権利を有する者の適切な権利の保護の在り方に関する調査研究報告書」(2010年3月、日本国際知的財産保護協会)第3章Vでは、韓国における特許を受ける権利を有する者の権利保護について紹介されている。具体的には、冒認出願が冒認を理由に拒絶されると、冒認出願後になされた正当な権利者の出願は、冒認出願の出願日に特許出願したものとみなされる規定(韓国特許法第34条)等について紹介されている。