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■ 全301件中、231240件目を表示しています。

  • 2014.11.12

    • アジア
    • 法令等
    • 統計
    • 制度動向
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    インドにおける知的財産をめぐる環境の変化

    「特許行政 年次報告書 2014年版」 第3部 第2章8では、インドと日本との関係、国家イノベーション評議会の設置や国家知的財産権戦略の草案発表、現行法下で初となる強制実施権の発動等の近年の知的財産政策の動向、審査処理促進に向けた取組をはじめとするインド特許意匠商標総局の取組について説明されている。また、インド特許意匠商標総局による審査情報の積極的な公開についてのコラムも紹介されている。

  • 2014.10.17

    • アジア
    • 法令等
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • その他

    香港における著作権保護の概要

    「模倣対策マニュアル 香港編」(2014年3月、日本貿易振興機構)第2章第4節では、香港における著作権保護について説明がされている。具体的には、著作物の種類、著作権者の権利、保護期間等について説明されている。

  • 2014.10.14

    • アジア
    • 法令等
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • その他

    タイにおける遺伝資源の出所開示の制度・運用・実施状況

    「知的財産と遺伝資源の保護に関する各国調査研究報告書」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅳ部4.25では、特許法に基づく遺伝資源の出所表示の明示はタイでは義務付けられていないが植物品種保護法に基づく品種登録に際しては出所表示義務があること、関連条文、開示義務違反に対する措置・罰則、遺伝資源へのアクセス承認機関、「地域的な国内の植物品種」を試験研究の目的で入手しようとする者に要求される当該植物品種に関する利益シェアリング契約等について説明されている。

  • 2014.10.01

    • アジア
    • 法令等
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • その他

    フィリピンにおける遺伝資源の出所開示に関する制度・運用・実施状況

    「知的財産と遺伝資源の保護に関する各国調査研究報告書」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会) 第Ⅳ部4.24では、フィリピンにおける生物多様性条約に基づく遺伝資源の出所開示要件に関する法制度について説明されている。また、同法制度の運用状況等についても説明されている。

  • 2014.10.01

    • アジア
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • 審決例・判例
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 意匠

    香港における意匠制度の概要

    (本記事は、2021/9/28に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20887/

    「模倣対策マニュアル 香港編」(2014年3月、日本貿易振興機構)第2章第3節では、香港における意匠制度の説明がされている。具体的には、意匠出願・登録件数の統計、登録要件、出願手続、手続に係る手数料等についての説明がされている。

  • 2014.09.19

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    台湾における意匠の表現に関する制度・運用

    「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部では、台湾における意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、台湾の意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠の表現例等について、海外アンケートと海外ヒアリングの結果と共に紹介されている。

  • 2014.09.05

    • アジア
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    中国における被権利行使時の対応策(先手型対策・後手型対策)

    「実用新案活用法と他社権利行使への対応に関する調査報告書」(2012年3月、日本貿易振興機構上海事務所知的財産部)第2章2.1及び2.2では、中国における実用新案権に基づく権利行使を受けた時の対応策を、権利行使される前に対応策を検討して対応していく先手型の対応方法と、権利行使された時点で対応策を検討して対応していく後手型の対応方法に分け、それぞれについて紹介されている。

  • 2014.09.02

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • その他

    韓国における著作権ライセンス

    (本記事は、2021/9/7に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20830/

    「韓国ライセンスマニュアル」(2011年3月、日本貿易振興機構)第5編第2章では、韓国における著作権ライセンスについて紹介されている。具体的には、著作権ライセンスについて、ライセンスの種類、韓国著作権法上の利用許諾に関する規定、著作権ライセンス契約作成時の注意事項及び契約条項等が紹介されている。

  • 2014.08.26

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    中国における意匠の表現に関する制度・運用

    各国における意匠の表現に関する調査研究報告書(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部、第IV部では、中国における意匠の開示方法や意匠の表現に関する願書記載事項に加え、中国における意匠制度全般、意匠の保護客体、意匠の補正等の考え方、意匠の単一性の考え方、意匠権の効力範囲、判例等について紹介されている。

  • 2014.08.22

    • 欧州
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    ロシアにおける意匠の表現に関する制度・運用

    ロシアにおいて、意匠の表現は、図面のほか写真若しくはCGによる特定が可能である。図面について必要最小図面数の限定や提出可能図面数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する図面、即ち斜視図、正面図、背面図、上面図、底面図、左側面図、右側面図を提出しなければならない。提出図面の大きさはA4サイズという制約があり、拡大図の提出も可能である。写真についても必要最小写真数の限定や提出可能写真数の制限はないが、物品の外形を全て詳細に表現する写真の提出が求められており、写真は鮮明なものである必要がある(白黒/カラーいずれでも良い)。CGによる意匠の特定は静止状態のもののみ認められる(他の条件は写真と同様)。