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■ 全284件中、231240件目を表示しています。

  • 2014.05.02

    • アジア
    • その他参考情報
    • その他

    台湾における著作権法の紹介

    「台湾模倣対策マニュアル」(2013年3月、交流協会)一、(一)3.では、台湾著作権法に関し、保護対象となる著作物、保護要件、著作権・著作隣接権・出版権等の内容、インターネット・サービス・プロバイダーの責任、著作権の信託管理等について詳細に説明されている。台湾はWTOに加盟しているため、日本国民の著作物は台湾著作権法で保護される。

  • 2014.04.22

    • 中東
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    サウジアラビアにおける商号、植物品種育成者権、ドメインネーム等の保護制度

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第2部第2章第5節~第6節では、サウジアラビアにおける、特許、実用新案、意匠、回路配置、商標及び著作権以外の知的財産関連制度について紹介されている。具体的には、商号、地理的表示、原産地表示、植物品種育成者権、ドメインネーム、営業秘密及びノウハウの保護等について紹介されている。

  • 2014.04.22

    • アジア
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    中国における地理的表示保護制度と運用

    「諸外国の地理的表示保護制度及び同保護を巡る国際的動向に関する調査研究」(2012年3月、日本国際知的財産保護協会)第III部3‐3では、中国における地理的表示保護制度と運用について紹介されている。具体的には、商標法、地理的表示製品保護規定及び農産品地理的表示管理規則に基づく保護について、保護を受けるための手続や水際規制等について紹介されている。また、地理的表示の実際の使用例及び地理的表示の登録例についても紹介されている。

  • 2014.04.08

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許出願公開制度

    (2022年9月26日訂正:
    本記事のソース「シンガポール知的財産庁ウェブサイト」「早期公開申請フォーム(様式9)」「取下書フォーマット(様式CM9)」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)

    シンガポールでは、特許出願後18ヶ月経過後に出願内容が公開されるが、早期公開制度もある。特許出願の公開を止めるためには、公開準備完了前に出願を取り下げる必要があるが、公開準備が完了する時期は厳密に決まっているわけではないため、出願後、可及的速やかに出願を取り下げるのが望ましい。

  • 2014.04.04

    • アジア
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    韓国におけるブランドの保護

    「未登録の技術・ブランドの保護の在り方に関する調査研究報告書」(2012年2月、知的財産研究所)III.4(6)では、韓国における公的な証明用の印章等のブランド保護として、パリ条約6条の3に基づくWIPOへの通知に関する運用について紹介されている。具体的には、WIPOへの通知実績、国際機関の標章等が通知された場合の保護規定(使用の禁止、商標法における不登録事由等)について記載されている。

  • 2014.04.01

    • アジア
    • 制度動向
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    韓国における地理的表示保護制度と運用

    「諸外国の地理的表示保護制度及び同保護を巡る国際的動向に関する調査研究」(2012年3月、日本国際知的財産保護協会)第III部3‐4では、韓国における地理的表示保護制度と運用が紹介されている。具体的には、地理的表示保護制度を法域ごとに整理して、定義、手続、異議申立等が紹介されている。また、「地理的表示・地名等に係る商標の保護に関する調査研究報告書」(2011年2月、知的財産研究所)III.4.(2)(vii)では、韓国商標法における国内外の周知な地名の保護が紹介されている。

  • 2014.03.28

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 商標

    台湾における商標法の紹介

    「台湾模倣対策マニュアル」(2013年3月、交流協会)一、(一)2.では、台湾商標法に関し、保護対象となる商標、登録要件、出願手続、更新手続、手数料等について、表やフローチャート等を用いて詳細に説明されている。六には、添付資料として手数料表や委任状のフォーム等が掲載されている。

  • 2014.03.21

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    台湾における専利法の紹介

    「台湾模倣対策マニュアル」(2013年3月、交流協会)一、(一)1.では、台湾専利法に関し、特許、実用新案及び意匠の各保護対象、保護を受けるための要件、出願手続及び手数料等について、表やフローチャート等を用いて詳細に説明されている。また、六には、手数料表や委任状フォーム等の添付資料も掲載されている。

  • 2014.03.05

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 意匠
    • その他

    サウジアラビアにおける半導体回路配置および意匠制度

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第2部第2章第2節では、サウジアラビアにおける半導体回路配置及び意匠制度について紹介されている。サウジアラビアでは、回路配置及び意匠は、「特許、集積回路の回路配置、植物品種及び工業意匠に関する法律」によって保護されるが、本節では、意匠における登録要件、出願、優先権主張及び新規性喪失の例外、並びに、集積回路の回路配置における登録要件、譲渡、実施許諾及び強制実施権等について紹介されている。

  • 2014.03.03

    • 中東
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    イランにおける知的財産法制度

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第4部第1章では、イランにおける知的財産法制度について紹介されている。2008年以前にも産業財産権法は存在していたが、特許と商標についてのみ規定しており、2008年のイラン特許・工業意匠・商標登録法(略称 産業財産権法)によって、新たに工業意匠と実用新案の登録について規定が設けられた。ここでは、法の制定状況、国際条約への加盟状況等について紹介されている。