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■ 全259件中、221230件目を表示しています。

  • 2013.12.17

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    韓国における代理人(業務領域・留意点等)

    「特許侵害対応マニュアル 韓国編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第Ⅰ編第6章では、韓国の弁護士や弁理士の業務領域や代理人を選任する場合の留意点等について紹介している。弁護士は法律全般(民事、刑事等)に対する弁護及び代理権が認められているが、弁理士の代理業務は特許等の出願、登録、維持、管理業務であり、弁理士の訴訟代理権が認められるのは審決取消訴訟だけで、侵害訴訟の代理権は認められていない。

  • 2013.12.13

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    韓国における裁判機関と捜査機関

    「特許侵害対応マニュアル 韓国編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第Ⅰ編第4章では、韓国における裁判機関と捜査機関について紹介されている。韓国の裁判機関としては、大法院、高等法院、地方法院及び支院、特許審判院の審決等に対する不服の訴えを行う特許法院がある。捜査機関としては、控訴提起の権限を持つ検察、検事の指揮を受け犯罪を捜査する権限を持つ一般司法警察、特定の犯罪に関してのみ捜査権を有する警察(特別司法警察)がある。「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第III編第2章9では、知的財産権に関する特別司法警察である商標権特別司法警察が紹介されている。

  • 2013.12.10

    • アジア
    • 法令等
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    韓国における知的財産権訴訟に関する法律体系

    「特許侵害対応マニュアル 韓国編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第I編第3章では、韓国における知的財産権訴訟に関する法律体系について、具体的には、特許法及び実用新案法の概要、特許権に関連する訴訟手続について説明し、特許に関連する機関も紹介している。意匠法、商標法、不正競争防止法等を含めた知的財産法全般の概要については、「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II編第1章で紹介されている。

  • 2013.12.06

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    ベトナムにおける産業財産権出願代理人制度

    「ASEAN各国における産業財産権出願代理人制度とその実態調査」(2013年4月、日本貿易振興機構バンコク事務所知的財産部)第2調査結果 10では、ベトナムにおける産業財産権出願の代理人制度の概要が説明されている。特許、実用新案、意匠又は商標の出願人がベトナム国内に住所又は居所を有さない場合、現地の産業財産権出願代理人を通じて出願しなければならない。民事裁判手続、行政手続及び刑事手続は、弁護士が代理資格を有する。添付資料として、ベトナムの主な代理人事務所が紹介されている。

  • 2013.12.06

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    シンガポールにおける産業財産権出願代理人制度

    「ASEAN各国における産業財産権出願代理人制度とその実態調査」(2013年4月、日本貿易振興機構バンコク事務所知的財産部)第2調査結果 8では、シンガポールにおける産業財産権出願の代理人制度の概要が説明されている。シンガポールでは、特許出願の代理業務は特許代理人の資格保有者又は弁護士のみが行うことができるが、商標出願及び意匠出願には代理人制度がないため、資格がなくても、これらの出願代理を行うことができる。なお、実用新案制度は存在しない。また、添付資料として、シンガポールの主な代理人事務所が紹介されている。

  • 2013.11.27

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • その他

    インドにおける裁判審理の迅速化

    インド知的財産レポート2011年第2号「インドにおける裁判審理の迅速化」(2011年12月、日本貿易振興機構)では、インドの裁判審理の迅速化について紹介されている。具体的には、インド司法制度の概略や訴訟件数、迅速な訴訟解決に向けた取組、日本企業へのアドバイス等が、紹介されている。

  • 2013.11.22

    • アジア
    • 法令等
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    シンガポール国境での知的財産権侵害の取締り

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第3章3.7には、模倣品の国境での税関等による取締りについて説明されている。

  • 2013.11.12

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    マレーシアにおける産業財産権出願代理人制度

    「ASEAN各国における産業財産権出願代理人制度とその実態調査」(2013年4月、日本貿易振興機構バンコク事務所知的財産部)第2調査結果 5では、マレーシアにおける産業財産権出願代理人制度について紹介されている。マレーシアで特許、商標又は意匠の出願を代理人を通じて行う場合、マレーシア知的財産公社で登録されている特許代理人、商標登録出願代理人又は意匠登録出願代理人を通じて行う。マレーシアに居住しない出願人は、これらの代理人を通じてのみ出願できる。特許代理人等は特許権等の権利行使の代理はできず、弁護士を代理人に指名する必要がある。

  • 2013.11.08

    • アジア
    • 統計
    • 審判・訴訟実務
    • 商標
    • その他

    シンガポールにおける模倣対策

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第3章3.1から3.3では、著作権及び商標権を侵害する模倣対策に係る統計、模倣対策に取組む政府機関、司法機関について説明されている。

  • 2013.11.05

    • アジア
    • その他参考情報
    • その他

    シンガポールにおける政府による各種優遇・支援制度

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第2章2.7では、シンガポールにおける知的財産権や研究開発に関連する税制優遇制度について、具体的には、知的財産権に関する自動減価償却控除制度、自由化研究開発(R&D)課税控除制度、R&D課税控除(RDA)制度、新興企業向けR&Dインセンティブ(RISE)、生産性・技術革新控除制度(PIC)について、紹介されている。