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■ 全218件中、191200件目を表示しています。

  • 2013.12.27

    • アジア
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 商標

    シンガポールにおける新しいタイプの商標(非伝統的商標)の保護注目コンテンツ

    「視覚で認識することができない新しいタイプの商標に関する各国の制度・運用についての調査研究報告書」(2012年6月、日本国際知的財産保護協会)5-2-4では、シンガポールの2004年の商標法改正で導入された新しいタイプの商標の出願手続、登録要件等について説明され、願書記載例も紹介されている。また、各国の制度比較の一覧表も掲載されている。

  • 2013.12.27

    • アジア
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 意匠

    ベトナムにおける意匠登録制度及びその運用実態注目コンテンツ

    「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)II.2では、ベトナムにおける意匠登録制度及びその運用実態について紹介されている。具体的には、法令整備状況、意匠登録制度の所管部局、意匠登録出願及び登録件数の統計情報、意匠制度、審査業務内容、意匠権に係る審決例等について紹介されている。ベトナムには、部分意匠制度や秘密意匠制度は存在しない。

  • 2013.12.24

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    中国におけるドメインネームの保護注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル 中国編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第7章第1節では、中国におけるドメインネームの保護に関して、登録手続やドメインネームに係る紛争の救済手段等ついて説明されている。

  • 2013.12.20

    • アジア
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 意匠

    シンガポールにおける意匠登録制度及びその運用実態注目コンテンツ

    「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)II.5、III.5では、シンガポールにおける意匠登録制度全般について詳しく説明されている。具体的には、意匠登録制度の法令、規則等の整備状況や、管轄部局の組織図、出願書類、登録要件、権利の効力範囲、裁判例等が説明され、資料編では、ガイドラインや審査フロー図等が掲載されている。

  • 2013.12.20

    • アジア
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 意匠

    マレーシアにおける意匠登録制度及びその運用実態注目コンテンツ

    「ASEAN諸国の意匠登録制度及びその運用実態に関する調査研究」(2013年2月、日本国際知的財産保護協会)II.4では、マレーシアにおける意匠登録制度及びその運用実態について紹介されている。具体的には、法令整備状況、意匠登録制度の所管部局、意匠登録出願及び登録件数の統計情報、意匠制度、審査業務内容、意匠権に係る判例等について紹介されている。

  • 2013.12.17

    • アジア
    • 審決例・判例
    • 商標
    • その他

    シンガポールにおける昨今の法執行事例

    「アセアン・インド知財保護ハンドブック」(2013年3月、日本貿易振興機構)第4章5では、シンガポールにおける商標権及び著作権に係る法執行の事例として、周知商標についての事例2件と、著作権の事例1件を紹介している。周知商標の1例目は周知性を認めたが、2例目は立証不足を指摘し、周知性を認めなかった。著作権の事例は、公衆の利益と著作権保護とのバランスの観点から判断を下した最高裁判決である。

  • 2013.12.10

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    中国における商標権の取得注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル 中国編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第2章第2節では、中国における商標権の取得について説明されている。具体的には、商標権の保護対象、登録要件、登録手続、拒絶通知を受けた場合の対応(不服審判請求)、異議申立制度、無効審判請求、不使用取消請求、馳名商標と著名商標の認定ルートと相違点等について、フローチャートや表を用いて記載されている。

  • 2013.09.20

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    インドにおける知的財産制度注目コンテンツ

    本コンテンツは、2008年3月時点の情報に基づくものである。

    模倣対策マニュアル インド編(2008年3月、日本貿易振興機構)では、インドにおける知的財産権制度全般について紹介されている。具体的には、特許、意匠、商標、著作権の権利取得及び権利行使、更には、詐称通用、技術移転及びロイヤリティーの支払い並びに営業秘密等について、説明されている。

  • 2013.09.20

    • アジア
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 意匠

    ベトナムにおける意匠制度について注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル ベトナム編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II章A.II第3節は、ベトナムの意匠制度について解説している。ベトナムにおいて、「工業意匠」とは形状・線・色彩又はこれらの結合で表わされた物品の外観であり、新規性、創作性、工業上利用可能性を有するものが保護される。先願主義を採用し、ベトナムに現在の常居所、駐在員事務所又は実際の営業所を有する出願人は、国家知的財産庁(NOIP)に直接又はベトナム国内の適格な代理人を通じて意匠登録を出願することができる。保護期間は出願日から5年間であり、5年間ずつ2回更新可能である。加えて本節では、出願に必要な書類や意匠特許出願の審査手続のフロー図(p.128)等が紹介されている。

  • 2013.09.20

    • アジア
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • その他

    ベトナムにおける半導体集積回路の回路配置の保護について注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル ベトナム編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II章A.II第7節4は、ベトナムにおける半導体集積回路の回路配置の保護について解説している。ベトナム知的財産法によると、「半導体集積回路の回路配置」(以下「回路配置」という)とは、半導体集積回路における素子とその相互接続の立体的配置をいい、回路配置が独創性及び商業的新規性を有する場合に保護を受けることができる。半導体集積回路により実行される原則、プロセス等は回路配置として保護されない。回路配置の出願は方式審査のみで、実体審査はない。回路配置の保護期間は、出願日若しくは世界のいずれかの場所における回路配置の最初の商業利用の日から10年間、又は回路配置の創出日から15年間のいずれか早い方となる。登録の一連の流れをまとめた「回路配置登録手続フローチャート」が掲載されている(p.161)。