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■ 全14件中、1114件目を表示しています。

  • 2014.02.25

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 商標
    • その他

    シンガポールを指定した商標国際登録出願手続について

    本コンテンツは、2010年2月時点の情報に基づくものである。

    「マドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する各国商標法制度・運用-暫定的拒絶通報を受領した場合の手続を中心に-」平成21年度報告書(2010年2月、特許庁)5では、日本が本国官庁である基礎出願又は基礎登録についてシンガポールを領域指定して国際登録出願をする場合の願書への記入に関する留意点、実体審査の流れ(フローチャート含む)、拒絶通報に対する応答の流れ等について記載されている。

  • 2013.12.10

    • アジア
    • 統計
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    シンガポールにおける知的財産権取得の流れ

    「アセアン・インド知財保護ハンドブック」(2013年3月、日本貿易振興機構)第2章5では、シンガポールにおける特許、意匠、商標の出願から権利の取得までの流れがフローチャートを用いて説明され、6年分の出願件数等の統計情報も掲載されている。また、著作権、機密情報、集積回路レイアウトデザインの保護の概要についても説明されている。

  • 2013.11.05

    • アジア
    • その他参考情報
    • その他

    シンガポールにおける政府による各種優遇・支援制度

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第2章2.7では、シンガポールにおける知的財産権や研究開発に関連する税制優遇制度について、具体的には、知的財産権に関する自動減価償却控除制度、自由化研究開発(R&D)課税控除制度、R&D課税控除(RDA)制度、新興企業向けR&Dインセンティブ(RISE)、生産性・技術革新控除制度(PIC)について、紹介されている。

  • 2013.09.06

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける技術移転

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第2章2.5には、技術移転についての留意点、技術移転の専門組織とネットワーク等について説明されている。また、2.8には、政府直属の専門調査機関であるA-STARについて説明されている。また、「ASEANにおける技術情報輸出規制に関する調査報告書」(2013年4月、日本貿易振興機構バンコク事務所知的財産部)には、技術情報の移転及び技術輸出の制限、許可について説明されている。