■ 全32件中、11～20件目を表示しています。
-
2022.01.18
中国におけるコンピュータプログラムに関わる特許出願中国においてコンピュータプログラムに関わる特許出願を行う場合、方法、装置としてクレームすれば特許を受けることができるが、コンピュータプログラム自体が記録された記録媒体の場合は、特許を受けることはできない。コンピュータプログラムのフローが記録された記録媒体の場合は、特許を受けることができる。
-
2022.01.06
中国専利法第4次改正について2020年10月17日の第13回全国人民代表大会常務委員会第22回会議において専利法の改正が承認され、2021年6月1日に施行されている。本稿では、専利法の改正の経緯、および改正のポイントについて紹介する。
-
2021.11.25
中国におけるパリルート出願とPCTルート出願の手続の相違点（本記事は、2024/10/15に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/40070/外国出願人が中国に専利出願を行う際、パリ優先権を主張して出願する方法（以下、「パリルート出願」という。）、PCT出願の中国国内段階への移行によって中国に出願する（以下、「PCTルート出願」という。）方法がある。パリルート出願とPCTルート出願の手続上の相違点は、以下のとおりである。
-
2021.10.26
中国での中小企業のビジネス展開における専利権のリスクマネジメント「中小企業中国展開における知的財産権リスクマネジメント（中国ビジネス初級者向け）」（2020年3月、日本貿易振興機構北京事務所知的財産権部）第2章 専利出願・登録では、中小企業が特許、実用新案および意匠を中国に事業展開することを検討する際に必要となる情報を紹介している。具体的には、出願・登録制度概要、出願の重要性、冒認出願の対策、専利権および営業秘密により保護する場合のリスク、出願のタイミング、出願手続について紹介している。
-
2021.09.21
中国における模倣対策マニュアル「中国模倣対策マニュアル」（2021年3月、日本貿易振興機構北京事務所知的財産権部）では、中国における模倣品対策における基本的な情報から最新の法改正の情報まで幅広い内容を紹介している。具体的には権利取得、模倣品対策における行政、司法救済および刑事対応、営業秘密の保護等について紹介している。
-
2021.05.25
中国における特許/実用新案の同日出願について中国では、同一の発明創作には1つの専利権のみが付与されるが、同一の出願人が同一の発明創作について特許と実用新案を同日に出願する場合（以下、「特実同日出願」という。）、出願人は、先に取得した実用新案特許権が終了する前に当該実用新案権を放棄すれば、特許出願について権利付与を受けることができ、特許出願の内容を修正すれば、特許と実用新案との両方を維持することもできる。
-
2021.05.18
中国における特許制度のまとめ－実体編（本記事は、2023/9/26に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/37360/中国における特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
-
2021.05.18
中国における特許制度のまとめ－手続編（本記事は、2023/9/28に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/37364/中国における特許制度運用について、その手続き面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
-
2020.08.25
中国において専利権を受けることができる客体とできない客体中国専利法の第2条、第5条および第25条には、専利権（日本の特許権、実用新案権、意匠権に対応する権利を含む）の付与対象である客体について規定されている。専利法第2条では、専利権を受けることができる客体について概括的に規定されており、専利法第5条、第25条では、専利権を受けることができない客体が列挙されている。また、第20条には「専利権を付与しない」場合が規定されている。本稿では、上記条文について解説する。
-
2020.03.17
中国における特許出願制度概要（本記事は、2024/10/24に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/40114/（2021年4月13日訂正：
本記事のソースにおいて「特許庁委託事業 外国産業財産権侵害対策等支援事業」のURLを記載しておりましたが、リンク切れとなっていたため、URLを修正いたしました。 ）中国特許出願の流れ
特許の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)実体審査、(5)登録・公告の手順で進められる。特許権の存続期間は出願日から20年。