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■ 全17件中、1117件目を表示しています。

  • 2014.02.20

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 商標

    韓国における商標制度

    「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II編第5章では、韓国の商標制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持、異議申立、各種商標審判手続、審決取消訴訟、マドリッド議定書による出願等について紹介されている。

  • 2014.02.19

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • アーカイブ
    • 意匠

    韓国におけるデザイン保護制度

    (本記事は、2020/2/13に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18280/

    「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II編第4章では、韓国のデザイン保護制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持、デザイン無審査登録異議申立、デザイン審判手続等について紹介されている。韓国のデザイン登録出願は物品により、実体審査を経ないで登録になるものと、実体審査を経て登録になるものがある。「デジタル社会におけるデザイン保護に即した意匠制度の在り方に関する調査研究」(2012年2月、知的財産研究所)II.2.(3)では、表示器等の物品に表示された、物品の部分としての画面デザインの保護について紹介されている。

  • 2014.02.18

    • アジア
    • 制度動向
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    韓国における実用新案制度

    (本記事は、2020/2/13に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18278/

    「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II編第3章では、韓国の実用新案制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持等について紹介されている。韓国の実用新案法は2006年10月1日付の改正により、審査前登録制度から審査後登録制度に変更され、技術評価制度が廃止されるなど、特許制度により近い制度となった。

  • 2014.02.17

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案

    韓国における特許制度

    「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II編第2章では、韓国の特許制度が紹介されている。具体的には、登録要件、出願手続、権利取得と維持、各種の特許審判、PCT出願手続等が紹介されている。

  • 2014.01.10

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    韓国における知的財産権侵害に対する行政的救済方法

    「特許侵害対応マニュアル 韓国編」(2013年3月、日本貿易振興機構))第II編第4章では、韓国において特許権が侵害された場合の行政的救済方法として、審判制度、審決取消訴訟、不公正貿易行為に対する貿易委員会(KTC)による救済制度、産業財産権紛争調停委員会について紹介している。特許に加え、他の知的財産を侵害された場合の行政的救済措置(例えば税関による国境(水際)措置等)については、「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第III編第2章で紹介されている。

  • 2013.09.06

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 審決例・判例
    • 意匠

    シンガポールにおける意匠権の管理(譲渡・ライセンス、権利行使、侵害への対応等)

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第2章2.3には、意匠権の譲渡又はライセンス、更新、権利行使、侵害の主張に対する対応についての概要や留意点が説明されている。

  • 2013.09.06

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許権の管理(特許権の所有、譲渡・ライセンス、権利行使、侵害への対応等)

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第2章2.2には、従業員による発明の帰属、特許権の譲渡又はライセンス、強制ライセンス、権利行使、侵害対応についての概要や留意点が説明されている。