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■ 全13件中、1113件目を表示しています。

  • 2013.12.10

    • アジア
    • 法令等
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    韓国における知的財産権訴訟に関する法律体系

    「特許侵害対応マニュアル 韓国編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第I編第3章では、韓国における知的財産権訴訟に関する法律体系について、具体的には、特許法及び実用新案法の概要、特許権に関連する訴訟手続について説明し、特許に関連する機関も紹介している。意匠法、商標法、不正競争防止法等を含めた知的財産法全般の概要については、「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II編第1章で紹介されている。

  • 2013.11.30

    • アジア
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    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    韓国の知財関連の法令等へのアクセス方法

    (本記事は、2018/12/20に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16342/

    韓国の知財関連の法令等は、韓国特許庁(KIPO)ウェブサイトから確認することができる。

  • 2013.09.06

    • 欧州
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    • その他

    ロシアにおける半導体配置設計の保護

    (本記事は、2017/7/18に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/13902/

    「模倣対策マニュアル ロシア編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第1章第6節(3)では、ロシアにおける半導体配置設計の保護について記載されている。配置設計は、最初に使用されてから2年以内であればロシア特許庁(Rospatent)に登録できる。当該配置設計に対する権利の存続期間は、最初に使用された時又は登録された時のいずれか早い方から10年間である。配置設計が登録されている場合、譲渡、ライセンス付与、担保権設定契約及び契約によらない配置設計の譲渡(組織再編等)は、登録しなければ無効になる。