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■ 全16件中、1116件目を表示しています。

  • 2015.03.27

    • アジア
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    インドネシアにおける特許の早期権利化

    (本記事は、2021/6/22に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/20273/

    インドネシアでは、特許法に基づき、特許庁が出願人による実体審査請求を受領した日から特許については36ヶ月、小特許(日本における実用新案に相当。)については24ヶ月で特許付与または拒絶査定を下すこととなっているが、滞貨案件が理由で、通常は登録まで3~6年を要する。審査手続を促進させるには、方式要件を満たした出願を行い、早期公開請求および実体審査請求とともに、特許審査ハイウェイ(Patent Prosecution Highway : PPH)プログラムとASEAN特許審査協力(ASEAN Patent Examination Co-operation : ASPEC)プログラムを活用することが考えられる。その他、修正実体審査請求を活用することも審査手続の促進に有用である。

  • 2014.12.18

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 意匠

    フィリピンにおける意匠

    「模倣対策マニュアル フィリピン編」(2010年3月、日本貿易振興機構)Ⅱ-3では、フィリピンにおける意匠について、意匠の定義、登録の必須条件、方式要件、等について説明され、付属資料として意匠登録願の書式や出願登録手続のフローチャートも紹介されている。

  • 2014.12.17

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 特許・実用新案

    フィリピンにおける発明の特許と実用新案の登録

    「模倣対策マニュアル フィリピン編」(2010年3月、日本貿易振興機構)Ⅱ-2では、フィリピンにおける発明の特許と実用新案の登録について、特許出願の方式要件、特許出願手続、実用新案の方式審査と公告、職務発明の規定、特許強制実施許諾、侵害事件における立証責任の転換、発明特許の譲渡およびライセンシング等について説明されている。また、付属資料として特許出願に関する各種書式やフローチャートも紹介されている。

  • 2014.12.10

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 商標

    フィリピンにおける商標とサービスマーク

    「模倣対策マニュアル フィリピン編」(2010年3月、日本貿易振興機構)Ⅱ-1では、フィリピンにおける商標とサービスマークについて、商標の定義、知的財産庁のウェブサイトを通じた商標調査、登録のための方式要件、方式審査及び実体審査の内容、登録の有効期間、出願及び登録の維持、更新、当事者系事件、商標の譲渡・ライセンシング等について説明されている。また、付属資料として商標出願に関する各種書式やフローチャートも紹介されている。

  • 2014.05.30

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    ベトナムにおける意匠出願の公開

    ベトナムでは、日本とは異なり、意匠にも出願公開制度がある。そのため、方式要件を満たしていれば、実体審査前であっても、出願から2ヵ月後に公開される。この制度があることに伴って、出願公開後の意見の提示や仮保護の制度も存在する。

  • 2014.02.25

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 商標
    • その他

    シンガポールを指定した商標国際登録出願手続について

    本コンテンツは、2010年2月時点の情報に基づくものである。

    「マドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する各国商標法制度・運用-暫定的拒絶通報を受領した場合の手続を中心に-」平成21年度報告書(2010年2月、特許庁)5では、日本が本国官庁である基礎出願又は基礎登録についてシンガポールを領域指定して国際登録出願をする場合の願書への記入に関する留意点、実体審査の流れ(フローチャート含む)、拒絶通報に対する応答の流れ等について記載されている。