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■ 全21件中、1120件目を表示しています。

  • 2015.08.18

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    台湾における意匠出願に係る新規性喪失の例外規定【その1】

    2013年1月1日より施行された改正台湾専利法(日本における特許法、実用新案法、意匠法に相当。)において、意匠出願における新規性喪失の例外に関しては、従来の例外事項に加え、「刊行物で発表されたため」という適用対象が新たに導入され、適用対象が拡大された。しかし、日本の意匠法における「出願人の行為に起因した」公開にまでは拡大されておらず、適用の違いも存在する。

    台湾における意匠出願に係る新規性喪失の例外規定について、理律法律事務所 弁護士 李文傑氏が全2回のシリーズにて解説しており、本稿は【その1】である。

  • 2015.07.24

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 意匠

    日本とインドにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較

    (本記事は、2019/10/1更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17762/

    インドでは、中央政府に承認された展示会での開示や意匠権者の意に反する開示について、新規性喪失の例外が認められている。展示会での開示に関しては、開示日から6ヶ月以内に意匠出願する必要がある。

  • 2015.07.10

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    日本とインドネシアにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較

    インドネシアにおいて、意匠出願の新規性喪失の例外規定に関する条文上の記載は少なく、その要件も厳しい。意匠法第3条で、例外規定が認められる行為については、政府主催による展示会での開示または学術的な目的での、創作者による開示などに限定されており、日本のように新聞などでの創作者自らの開示などに対しては、新規性喪失の例外規定は使用できない。

  • 2015.06.26

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 意匠

    日本と中国における意匠の新規性喪失の例外に関する比較

    (本記事は、2019/1/24に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16447/

    日本および中国いずれにおいても意匠の新規性喪失の例外規定は存在し、ともに例外が認められる期間は6ヶ月間である。ただし日本においては、意匠登録を受ける権利を有する者(創作者または承継人)の行為に基づく公知行為自体は限定されていないのに対し、中国においては公知行為自体に限定が設けられている。

  • 2015.06.12

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    日本とブラジルにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較

    ブラジルにおける意匠の新規性喪失の例外規定は、公開日から180日間の猶予が与えられている。日本と同様に発明者自身による開示も新規性喪失の例外規定の適用対象となっている。証明書の提出は義務ではないが、ブラジル知財庁(Instituto Nacional da Propriedade Industrial : INPI)の判断で、開示した証拠を求められる場合がある。

  • 2015.01.07

    • アジア
    • 統計
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    中国からASEAN各国への模倣品流通

    「ASEANにおける模倣品及び海賊版の消費・流通実態調査」(2014年3月、日本貿易振興機構バンコク事務所知的財産部)二の3では、中国からASEAN各国への模倣品流通に関して、中国からASEAN諸国への模倣品の流入の状況及びその流れ等について、税関統計や事例を交えて紹介されている。また、中国からASEAN諸国への模倣品流出の防止策について、法的措置や法的措置の前提となる調査についても紹介されている。

  • 2014.08.01

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    韓国におけるライセンス概要

    (本記事は、2021/9/7に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20830/

    「韓国ライセンスマニュアル」(2011年3月、日本貿易振興機構)「序章」~「ライセンスの基本用語」では、韓国におけるライセンス概要について紹介されている。具体的には、ライセンス相手企業の選定基準、ライセンス条件の例及び注意点(ライセンスの範囲、地域、裁判管轄等)、関連法規、ロイヤルティの算定及び管理等について紹介されている。

  • 2014.04.15

    • アジア
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    中国における模倣品対応事例

    「模倣品海外拡散防止マニュアル」(2012年3月、日本貿易振興機構上海事務所知識産権部)第五章では、中国における模倣品対応事例について紹介されている。具体的には、実際にあった事例として、展示会の調査・取締事例、インターネットの調査・削除事例、税関での調査・差止事例、外国人バイヤーの摘発事例が、写真等を用いて紹介され、救済を受けるために必要な事前登録(工商登記、税関登録)等についても紹介されている。

  • 2014.03.13

    • アジア
    • 統計
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    中国における模倣品の拡散ルートについて

    「模倣品海外拡散防止マニュアル」(2012年3月、日本貿易振興機構上海事務所知識産権部)第二章では、中国における模倣品の拡散ルートについて紹介されている。具体的には、展示会(見本市)、インターネット、卸売問屋街での外国人買い付けバイヤー、電子メール等による売り込み、チャイナタウンでの販売が、模倣品が拡散するルートとして挙げられている。

  • 2014.02.14

    • アジア
    • 制度動向
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    韓国の各政府機関の動き(法改正の動向等)

    「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第I編第5章では、韓国の法改正の動向等、各政府機関の動きが紹介されている。具体的には、各政府機関として、特許庁、関税庁、文化体育観光部(著作権関連)の政策・施策について説明されている。