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■ 全21件中、1120件目を表示しています。

  • 2018.10.25

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    韓国における意匠登録出願の公開制度

    意匠登録出願は設定登録後に公開されるが(意匠法第90条3項)、設定登録前でも出願人が公開申請をすれば、公開される(意匠法(韓国語「デザイン保護法」)第52条)。公開申請により公開されれば、自身の意匠登録出願と同一または類似した意匠を業として実施した者に対して警告をすることができ、追って意匠登録されれば補償金の支払いを請求することができる(意匠法第53条)。しかし、公開されることによる不利益もあるので、不利益を考慮して申請するか否かを判断する必要がある。

  • 2018.07.26

    • アジア
    • 統計
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    インドにおける知財統計へのアクセス方法(CGPDTM年報)

    インドにおける出願件数等の統計情報は、インド特許意匠商標総局(Office of the Controller General of Patents, Designs & Trade Marks;以下、「CGPDTM)のウェブサイト上に掲載されている年報において、知的財産関連の統計資料にて確認することができる。

  • 2018.06.28

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 特許・実用新案

    インドネシアにおける共同特許出願および共有特許権に関する留意事項

    インドネシアにおいては、共同特許出願および共有特許権の数は少なく、共同特許出願および共有特許権について規定する法規も限られている。共有特許出願および共有特許権に関するあらゆる手続きは、特許一般登録簿に記載された全ての出願人または特許権者の同意がなければ進めることができない。

    本稿では、インドネシアにおける共同特許出願および共有特許権に関する留意事項について、ACEMARK事務所の弁護士Ms. Yenny Halimが解説する。

  • 2018.06.21

    • 欧州
    • 統計
    • 特許・実用新案

    ロシアにおける特許および実用新案に関する統計

    過去10年間(2007年から2016年)のロシアにおける特許出願および実用新案出願に関する統計を説明する。

  • 2018.06.05

    • アジア
    • 法令等
    • 特許・実用新案

    フィリピンにおける特許権の共有および共同出願

    フィリピン知的財産法(知財法)によれば、複数の者が共同で発明をなした場合、当該発明に関する特許権はそれら複数の発明者に帰属し、それらの者の共有となる。別段の事実が立証されない限り、個々の共有者に帰属する共同所有権の持分は均等と推定される。
    本稿では、かかる特許出願および特許権の共有に関する留意点について、E.B. Astudillo & Associatesの弁護士Enrico B. Astudillo氏、弁護士Asteria I. Mercado氏が解説する。

  • 2018.04.03

    • アジア
    • 法令等
    • 特許・実用新案

    マレーシアにおける共同特許出願および特許権

    企業は商業上および経済上の様々な理由から、特許権を共有し、共同利用する。提携する企業は、このような共有の条件について合意を図る必要がある。マレーシアでは、当事者間で合意された共有規定がない場合には、1983年マレーシア特許法に定められた標準規定が適用される。
    本稿では、マレーシアにおける共同特許出願および特許権について、ZICO IPのパートナーで東南アジア地域IP代表のLinda Wangが解説している。

  • 2015.10.02

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールにおける特許分割出願に関する時期的要件の比較

    (本記事は、2019/10/10に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17786/

    日本およびシンガポールにおいては、それぞれ所定の期間、特許出願について分割出願を行うことができる。シンガポールにおいては、(i)原出願の登録料の納付、(ii)原出願の拒絶、放棄または取下げのいずれかの前まで分割出願を行うことができる。

  • 2015.02.05

    • アジア
    • 統計
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    インドにおける知財統計へのアクセス方法(CGPDTM年報)

    (本記事は、2018/7/26に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/statistics/15553/

    インドにおける出願数等の統計情報は、インド特許庁(the Office of the Controller General of Patents, Designs & Trade Marks (CGPDTM))のウェブサイト上に掲載されている年報において、知的財産関連の統計資料にて確認することができる。

  • 2014.04.08

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許出願公開制度

    (2022年9月26日訂正:
    本記事のソース「シンガポール知的財産庁ウェブサイト」「早期公開申請フォーム(様式9)」「取下書フォーマット(様式CM9)」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)

    シンガポールでは、特許出願後18ヶ月経過後に出願内容が公開されるが、早期公開制度もある。特許出願の公開を止めるためには、公開準備完了前に出願を取り下げる必要があるが、公開準備が完了する時期は厳密に決まっているわけではないため、出願後、可及的速やかに出願を取り下げるのが望ましい。

  • 2013.08.06

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 商標

    台湾における商標関連手続に必要な書類

    (本記事は、2019/1/29に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/16465/

    商標の手続きは、出願、取り下げ、補完、変更出願、登録延長、商標権異動、争議処理等に分けることができ、商標出願人又は商標権者は、それぞれの手続において関連法律条文により定められた書類を提出しなければならない。