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2014.01.17
マレーシアの特許公報の調べ方（本記事は、2018/8/2に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/15612/マレーシアの特許公報は、マレーシア知的財産公社（Malaysian IP Office (MyIPO)）のウェブサイトに掲載されている。英語のサイトが用意されており、検索も英語で行うことができる。
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2014.01.17
中国における機能・特性等により表現されたクレームの解釈の運用（本記事は、2021/10/28に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/21043/「特許性判断におけるクレーム解釈に関する調査研究報告書」（2013年2月、知的財産研究所）III．４では、中国における機能・特性等により表現されたクレームの解釈の運用について審査指南の記載が説明されており、審決例も紹介されている。
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2014.01.14
ブラジルにおける特許・実用新案公報の調べ方―ブラジル知財庁（INPI）の調査サイト（本記事は、2019/9/24に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/17736/ブラジルの特許公報及び実用新案公報の無料検索サイトとして、ブラジル知財庁（INPI）が提供するウェブサイト（ポルトガル語のみ）があり、出願人名、発明者名、要約等を対象にして検索することができる。
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2014.01.14
韓国でのクレームにおける用語の定義の参酌の運用（本記事は、2021/10/28に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/21043/「特許性判断におけるクレーム解釈に関する調査研究報告書」（2013年2月、知的財産研究所）II．５では、韓国でのクレーム中にある用語の定義の参酌の運用について、審査指針や審決例等を示した上で紹介されている。
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2014.01.14
中国における職務発明制度「我が国、諸外国における職務発明に関する調査研究報告書」（2013年3月、知的財産研究所）II．４では、中国の職務発明制度について説明されている。具体的には、職務発明や発明者の定義、職務発明についての権利の帰属、発明者への奨励・報酬等の職務発明制度の概要が紹介され、企業における職務発明の運用や外国企業が留意すべき点等についても説明されている。
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2014.01.10
韓国における知的財産権侵害に対する行政的救済方法「特許侵害対応マニュアル 韓国編」（2013年3月、日本貿易振興機構））第II編第４章では、韓国において特許権が侵害された場合の行政的救済方法として、審判制度、審決取消訴訟、不公正貿易行為に対する貿易委員会（KTC）による救済制度、産業財産権紛争調停委員会について紹介している。特許に加え、他の知的財産を侵害された場合の行政的救済措置（例えば税関による国境（水際）措置等）については、「模倣対策マニュアル 韓国編」（2012年3月、日本貿易振興機構）第III編第２章で紹介されている。
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2014.01.07
ブラジル特許情報検索ミニガイド「ブラジル特許情報検索ミニガイド」（2013年2月、発明推進協会）では、主にブラジル国家産業権庁（ブラジル知財庁、INPI）が運営するデータベースを利用したブラジル特許の検索方法（ポルトガル語）及びEspacenetを利用したブラジル特許の検索方法（英語）が紹介されている。
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2014.01.07
台湾における商標及びトレードドレス保護に関する法律「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」（2013年3月、交流協会）Ａ．第二章では、台湾における商標及びトレードドレスの保護に関わる法律や、トレードドレスとその他の知的財産権の比較結果が紹介されている。
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2014.01.07
中国における並行輸入の問題（本記事は、2021/9/21に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20866/「模倣対策マニュアル 中国編」（2013年3月、日本貿易振興機構）第７章第３節 では、中国における並行輸入の問題について説明されている。中国では、専利法第69条で国際消尽を認めているため、専利製品の並行輸入は専利権侵害とはならない。一方、商標権及び著作権については、並行輸入に関する規定は設けられておらず、裁判所においては個別の実情に応じて判断されている。
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2013.12.27
シンガポールにおける新しいタイプの商標（非伝統的商標）の保護「視覚で認識することができない新しいタイプの商標に関する各国の制度・運用についての調査研究報告書」（2012年6月、日本国際知的財産保護協会）５-２-４では、シンガポールの2004年の商標法改正で導入された新しいタイプの商標の出願手続、登録要件等について説明され、願書記載例も紹介されている。また、各国の制度比較の一覧表も掲載されている。