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■ 全244件中、181190件目を表示しています。

  • 2014.03.05

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 意匠

    アラブ首長国連邦における意匠及び工業モデル制度

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第1部第2章第2節では、アラブ首長国連邦(UAE)における意匠及び工業モデル制度について紹介されている。具体的には、新規性喪失の例外適用期間、意匠登録出願手続き、意匠および工業モデル登録の効果、譲渡、救済措置等、意匠及び工業モデル制度全般について紹介されている。

  • 2014.03.04

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    イランにおける特許・実用新案及び意匠制度

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第4部第2章第1節~第2節では、イランにおける特許・実用新案及び意匠制度について紹介されている。具体的には、どのようなものが発明に該当し、特許権が付与されるのか、特許出願に必要な書類、不服申立、無効請求(特許登録後のイラン官報発行後)、存続期間、手数料、強制実施権等について紹介されている。なお、実用新案及び意匠登録についての具体的な運用についての情報は見当たらない。

  • 2014.02.27

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾進出において有効な知財戦略

    「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」(2013年3月、交流協会)B.第三章第三節では、技術優位、ブランド上位にある状況を有効活用する知財戦略について説明されており、また、将来の中国進出の準備として、台湾と中国の制度の違いについても説明されている。

  • 2014.02.21

    • アジア
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • その他

    韓国における著作権制度

    (本記事は、2020/2/18に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18302/

    「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II編第6章では、韓国における著作権制度が紹介されている。具体的には、著作権法の概要、保護対象、著作者の権利、保護期間、著作隣接権、登録手続、著作権委託管理等について説明されている。

  • 2014.02.20

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾進出における技術流出防止策

    「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」(2013年3月、交流協会)B.第三章第二節では、日本企業の台湾における子会社、支社、合弁会社及び関連企業の管理、並びに対外取引において持つべき知的財産権の管理意識及び設立すべき管理制度について説明されている。具体的には、従業員への教育訓練、秘密保持条項を含む契約の締結及び機密文書の取扱い等について説明されている。

  • 2014.02.18

    • アジア
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾進出における知的財産関連の留意事項

    「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」(2013年3月、交流協会)B.第三章第一節では、台湾進出おける知的財産関連の留意事項について説明されている。具体的には、特許、実用新案、意匠、商標の権利化の具体的な費用の額を示すと共に、出願手続のフローチャートを用いて知的財産権取得の際の検討事項を説明し、ライセンス契約時の留意点やロイヤリティ等にも説明している。

  • 2014.01.31

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • 審決例・判例
    • 特許・実用新案
    • その他

    中国の技術標準の実施における特許権侵害救済及びその権利制限

    「技術標準の実施における特許権侵害救済及びその権利制限についての研究報告書」(2012年12月、日本貿易振興機構北京事務所知識産権部)では、中国における技術標準に対する反競争的規制、差止命令による特許権侵害の救済、技術標準関連の中国の判例について説明されている。また、標準実施における権利行使の懈怠、強制ライセンス制度とその適用、技術標準における特許権侵害に対する賠償金額の算定、黙示のライセンス規則等についても解説されている。

  • 2014.01.14

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • その他

    中国における職務発明制度

    「我が国、諸外国における職務発明に関する調査研究報告書」(2013年3月、知的財産研究所)II.4では、中国の職務発明制度について説明されている。具体的には、職務発明や発明者の定義、職務発明についての権利の帰属、発明者への奨励・報酬等の職務発明制度の概要が紹介され、企業における職務発明の運用や外国企業が留意すべき点等についても説明されている。

  • 2013.12.13

    • アジア
    • 法令等
    • ライセンス・活用
    • 審決例・判例
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • その他

    中国における営業秘密の保護

    (本記事は、2021/9/21に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20866/

    「模倣対策マニュアル 中国編」(2013年3月、日本貿易振興機構)第3章では、中国における営業秘密について、具体的には、営業秘密の構成要件、営業秘密の漏洩ルートや防止手段、営業秘密漏洩に対する救済手段、先使用権確保による保護等について説明されている。「未登録の技術・ブランドの保護の在り方に関する調査研究報告書」(2012年2月、一般財団法人知的財産研究所)II.3(3)では、営業秘密の侵害に対する刑事責任を定めた関連規定や、営業秘密に関する3つの重要事件が紹介されている。

  • 2013.11.27

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    インドにおける特許技術のライセンス供与

    インド知的財産レポート2011年第4号「インドにおける特許技術のライセンス供与」(2012年3月、日本貿易振興機構)では、インドにおける特許ライセンス供与について、説明されている。具体的には、ライセンスの種類、外国企業に科せられる義務及び制約、特許技術ライセンス契約の提出義務、ライセンス契約が契約法上満たすべき要素やライセンス料の送金に関する留意点等について、説明されている。