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■ 全228件中、181190件目を表示しています。

  • 2014.05.20

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける優先権主張を伴う特許出願注目コンテンツ

    シンガポールもパリ条約締結国であるため、優先権主張に伴う特許出願が認められる。優先権主張期間は基礎出願日から12ヶ月以内であり、部分優先や複数優先も認められる。

  • 2014.03.28

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 商標

    台湾における商標法の紹介注目コンテンツ

    「台湾模倣対策マニュアル」(2013年3月、交流協会)一、(一)2.では、台湾商標法に関し、保護対象となる商標、登録要件、出願手続、更新手続、手数料等について、表やフローチャート等を用いて詳細に説明されている。六には、添付資料として手数料表や委任状のフォーム等が掲載されている。

  • 2014.03.28

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    マレーシアにおける特許出願書類注目コンテンツ

    マレーシアでは、特許出願書類として、願書、明細書、クレーム、図面、要約書等が必要である。

  • 2014.03.21

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    マレーシアにおける優先権主張を伴う特許出願注目コンテンツ

    マレーシアにおける特許出願において優先権を主張する場合、出願時の願書において、優先権を主張する旨を宣誓する必要がある。基礎出願の出願書類の謄本は必ずしも出願時に提出する必要はないが、登録官から提出を求められた日から3ヵ月以内に提出しなければならない。優先権主張の期間は基礎出願から12ヶ月以内であり、部分優先や複数優先も認められる。

  • 2014.03.21

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    台湾における専利法の紹介注目コンテンツ

    「台湾模倣対策マニュアル」(2013年3月、交流協会)一、(一)1.では、台湾専利法に関し、特許、実用新案及び意匠の各保護対象、保護を受けるための要件、出願手続及び手数料等について、表やフローチャート等を用いて詳細に説明されている。また、六には、手数料表や委任状フォーム等の添付資料も掲載されている。

  • 2014.03.17

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    韓国における当事者系審判の運用注目コンテンツ

    「欧米韓における当事者系審判等の運用実態に関する調査研究」(2012年3月、日本国際知的財産保護協会)第2章VII.3では、韓国における当事者系審判、具体的には、無効審判、権利範囲確認審判等の手続の運用実態について説明されている。

  • 2014.03.14

    • 中南米
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    ブラジルにおける特許の早期権利化の方法注目コンテンツ

    ブラジルでは特許審査の遅れが指摘されており、ファーストアクションまで十数年かかることもあるが、所定の要件を満たす場合には、優先審査を請求することができる。

  • 2014.03.11

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    マレーシアにおける特許の単一性要件と分割出願注目コンテンツ

    マレーシアにおいて、特許出願人は、所定の期間内であれば、出願が単一性の要件を満たさない場合、その不備を是正する手段として分割出願することができるほか、自発的に分割出願を行うことも可能である。ただし、分割できる時期は制限されており、原出願の明細書に記載された範囲を超えてはならない。

  • 2014.03.06

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 商標

    サウジアラビアにおける商標制度注目コンテンツ

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第2部第2章第3節では、サウジアラビアにおける商標制度について紹介されている。具体的には、商標の定義、出願、団体商標、記載事項、優先権、商標局による審査、拒絶理由、公告、異議申し立て、登録の流れ、更新、譲渡、質入れ等について紹介されている。

  • 2014.03.05

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 意匠
    • その他

    サウジアラビアにおける半導体回路配置および意匠制度注目コンテンツ

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第2部第2章第2節では、サウジアラビアにおける半導体回路配置及び意匠制度について紹介されている。サウジアラビアでは、回路配置及び意匠は、「特許、集積回路の回路配置、植物品種及び工業意匠に関する法律」によって保護されるが、本節では、意匠における登録要件、出願、優先権主張及び新規性喪失の例外、並びに、集積回路の回路配置における登録要件、譲渡、実施許諾及び強制実施権等について紹介されている。