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■ 全244件中、171180件目を表示しています。

  • 2014.04.18

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    韓国における先使用権制度

    「先使用権制度に関する調査研究報告書」(2011年3月、日本国際知的財産保護協会)III.1「2」では、韓国における発明の先使用権制度について紹介されている。具体的には、先使用権の成立要件、先使用権者が実施できる範囲及び移転等に関して、Q&A形式で紹介されている。

  • 2014.04.15

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • 特許・実用新案

    シンガポール特許のライセンス・オブ・ライト(実施許諾用意)制度

    シンガポールでも特許をライセンス許諾することができるが、ライセンス・オブ・ライト制度(実施許諾用意制度)を利用すれば、更新手数料を半額にすることができる。

  • 2014.03.13

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾企業とのアライアンスによる中国進出について

    「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」(2013年3月、交流協会)B.第五章では、台湾企業との連携による中国への進出に関し、進出形態や施策、法令や支援等の制度、知的財産分野の日台アライアンスによる中国進出の事例等が紹介されている。また、中国進出の際の留意点として、台湾企業とのアライアンスによる中国進出の規制や紛争への対策等についても説明されている。

  • 2014.03.11

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾進出の実例と留意点

    「商標とトレードドレスによる権利保護 台湾進出における知的財産戦略」(2013年3月、交流協会)B.第四章では、知的財産権の侵害や技術盗用について、外食産業、IT産業、コンテンツ産業及び製造業において、台湾進出の際に実際に起きた事例が挙げられ、リスクとその対処法について説明されている。

  • 2014.03.07

    • 中東
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 商標

    湾岸諸国協力会議(GCC)

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第3部では、湾岸諸国協力会議(GCC)における特許制度や商標制度について紹介されている。GCCは共通特許制度(域内出願人及び国際出願人に対し、一度の出願で、GCC加盟国の全ての同盟国における特許保護を付与する制度)を実行しているが、統一GCC商標法は、全てのGCC加盟国が批准しておらず、本マニュアル作成時では、効力を生じていない。

  • 2014.03.07

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • その他

    サウジアラビアにおける著作権制度

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第2部第2章第4節では、サウジアラビアにおける著作権制度について紹介されている。具体的には、対象となる著作物、著作権の登録、著作権侵害の告訴の受理等を行う著作権部、著作者、利用許諾、譲渡等について紹介されている。サウジアラビアは、文学的及び美術的著作物の保護に関するベルヌ条約の加盟国だが、当該条約の著作権対象著作物であったとしても、同国内の関連する規則及び法律、特にイスラム法に適合する著作物でなければ、保護されない。

  • 2014.03.06

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 商標

    アラブ首長国連邦における商標制度

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第1部第2章第3節では、アラブ首長国連邦(UAE)における商標制度について紹介されている。具体的には、商標制度、登録手続き、必要書類、手数料、登録の取消、周知商標の保護、譲渡及び使用許諾等について紹介されている。UAEでは、商品及び役務の区分はニース協定の国際分類に対応し、商標出願は1区分ごとに行う。商標権の存続期間は出願日から10年である。

  • 2014.03.06

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 商標

    サウジアラビアにおける商標制度

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第2部第2章第3節では、サウジアラビアにおける商標制度について紹介されている。具体的には、商標の定義、出願、団体商標、記載事項、優先権、商標局による審査、拒絶理由、公告、異議申し立て、登録の流れ、更新、譲渡、質入れ等について紹介されている。

  • 2014.03.05

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    イランにおける商標制度

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第4部第2章第3節~第4節では、イランにおける商標制度について紹介されている。具体的には、外国案件の出願、審査、不登録事由、拒絶に対する抗告、登録異議申し立て、存続期間、不使用取消、使用許諾契約、刑事罰、商号等について紹介されている。

  • 2014.03.05

    • 中東
    • 出願実務
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 意匠
    • その他

    サウジアラビアにおける半導体回路配置および意匠制度

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第2部第2章第2節では、サウジアラビアにおける半導体回路配置及び意匠制度について紹介されている。サウジアラビアでは、回路配置及び意匠は、「特許、集積回路の回路配置、植物品種及び工業意匠に関する法律」によって保護されるが、本節では、意匠における登録要件、出願、優先権主張及び新規性喪失の例外、並びに、集積回路の回路配置における登録要件、譲渡、実施許諾及び強制実施権等について紹介されている。