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■ 全168件中、151160件目を表示しています。

  • 2013.11.12

    • アジア
    • 法令等
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    シンガポール著作権法及び商標法における模倣行為に関する規定

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第3章3.4では、著作権及び商標権を侵害する模倣品の刑事責任等について説明されている。具体的には、著作権法では無許可の複製物の商取引及び商用利用並びに著作権を保護する技術的措置の迂回行為、商標法では模倣品商取引が、それぞれ禁止されている。

  • 2013.11.08

    • アジア
    • 統計
    • 審判・訴訟実務
    • 商標
    • その他

    シンガポールにおける模倣対策

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第3章3.1から3.3では、著作権及び商標権を侵害する模倣対策に係る統計、模倣対策に取組む政府機関、司法機関について説明されている。

  • 2013.11.08

    • アジア
    • 法令等
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    シンガポールの法令へのアクセス方法―AGCウェブサイト

    (本記事は、2019/6/11に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17408/

    シンガポールにおける全ての現行の法令は、シンガポール司法長官室(Attorney General’s Chambers: AGC)のウェブサイトにて検索閲覧が可能である。サイトは英語で運営されている。

  • 2013.11.05

    • アジア
    • その他参考情報
    • その他

    シンガポールにおける政府による各種優遇・支援制度

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第2章2.7では、シンガポールにおける知的財産権や研究開発に関連する税制優遇制度について、具体的には、知的財産権に関する自動減価償却控除制度、自由化研究開発(R&D)課税控除制度、R&D課税控除(RDA)制度、新興企業向けR&Dインセンティブ(RISE)、生産性・技術革新控除制度(PIC)について、紹介されている。

  • 2013.11.01

    • アジア
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • その他

    シンガポールにおける企業秘密保護

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第2章2.6では、技術と企業秘密の漏洩についての概要や留意点、漏洩を防ぐための法的手段について説明されている。また、「ASEANにおける特許権、意匠権、商標権などの産業財産権登録に拠らない発明、意匠、商標の保護に関する調査」(2013年4月、日本貿易振興機構バンコク事務所知的財産部)第9章1及び2(1)では、営業秘密としてのノウハウの保護について説明されている。

  • 2013.09.20

    • アジア
    • 統計
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    シンガポールの知的財産権関連統計へのアクセス方法―出願関係

    シンガポールにおける知的財産に係る統計は、シンガポール知財庁(IPOS)のウェブサイトで掲載されている。商標・特許・意匠の出願数・登録数、シンガポールへの出願数上位10社、国別出願数・登録数、国際分類ごとの出願数(又は比率)の統計が閲覧可能である。

  • 2013.09.20

    • アジア
    • 法令等
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    シンガポールの知的財産権の法令へのアクセス方法―IPOSウェブサイト

    シンガポールにおける知的財産に係る法令は、シンガポール知財庁(IPOS)のウェブサイトに掲載されている。ウェブサイトは英語で運営されており、改正の履歴等もわかりやすく掲載されている。

  • 2013.09.06

    • アジア
    • 統計
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • 商標

    シンガポールにおける商標出願

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第1章1.3には、商標権に係る統計、登録基準、出願手続、権利の確保に関する判例等が紹介されている。

  • 2013.09.06

    • アジア
    • 出願実務
    • 制度動向
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許出願手続

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第1章1.1.3、1.1.4では、特許出願手続及び審査、申請料、更新等について解説されている。

  • 2013.09.06

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    シンガポール特許出願時の翻訳(英訳)提出について

    「模倣対策マニュアル シンガポール編(簡易版)」(2012年3月、日本貿易振興機構)第1章1.1.5では、国内特許出願とPCT国内段階特許出願に分けて、特許出願時の翻訳(英訳)の提出等について解説している。