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2019.06.25
インドネシアにおける特許出願制度概要インドネシアにおける特許出願手続は、主に（1）出願、（2）方式審査、（3）出願公開、（4）実体審査請求および実体審査、（5）特許証の発行の手順で進められる。特許は、出願日から起算して20年間付与される。
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2019.06.25
タイにおける商標出願制度概要タイにおける商標の出願手続は、主に、(1)出願、(2)審査、(3)公告、(4)登録の手順で進められる。商標登録出願の公告日から60日以内に異議申立てをすることができ、異議申立てがなかった場合は、登録証が発行される。商標権の存続期間は、出願日から10年であり、10年毎に更新が可能である。
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2019.06.20
タイにおける特許出願制度概要タイにおける特許の出願手続は、主に、(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)審査請求、(5)実体審査、(6)登録の手順で進められる。審査請求は、出願公開から5年以内にする必要がある。また、特許権の存続期間は、出願日から20年である。
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2019.06.18
ミャンマーにおける新たな商標出願制度の概要ミャンマーにおいて、最近公開された新知的財産法案に基づく商標登録出願の手続は、主に出願、方式審査（第1の審査）、公開、異議申立て（第2の審査）、登録（拒絶）の手順で進められる。権利期間は出願の日から10年間存続し、10年毎に何度でも更新することができる。
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2019.06.13
インドにおける特許出願制度概要インドにおける特許出願制度での発明者・出願人の要件、所轄庁、出願に必要な書類、出願の流れ、審査、異議、審判等を紹介する。インド特有の制度として、国内実施報告制度があり、特許権者および実施権者は実施の状況を報告する義務があり、これを怠る、または虚偽の報告を行うと、処罰の対象となる。特許権の存続期間は出願日またはもっとも古い優先日から20年である。
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2019.06.13
インドにおける意匠出願制度概要インドにおける意匠出願制度での出願人の要件、所轄庁、出願に必要な書類、図面の要件、出願の流れ、審査、審判等を紹介する。インドの意匠権の存続期間は登録日から10年であるが、登録日とは優先日またはインド出願日の早い方とされる。また、追加手数料を支払うことで存続期間を5年延長できる。
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2018.12.11
ロシアにおけるライセンス契約締結後の手続きロシアでは、ロシア特許庁に登録されない発明、実用新案、工業意匠または商標等にかかるライセンス契約は無効になる。「ロシア・ライセンスマニュアル」（2018年3月、日本貿易振興機構知的財産課モスクワ事務所）「6」では、ライセンス契約締結後のこれら登録やその他の手続きについて紹介している。具体的には、「6.1」で、管轄するロシア政府機関への報告に関する、知的財産物の使用権を付与するための登録手続きに関する一般条項、国家登録に関する情報（申請方法、登録条件、手続きのフローチャート、手数料、日程、書類の様式および書式、登録の要件が満たされない場合に生じる問題、が紹介されている。「6.2」で、ロイヤルティの支払手続き、「6.3」で、ライセンス契約に違反した場合の対応について、違反の種類、予防措置、証拠の収集、暫定的救済、専門家との協議、が紹介されている。
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2018.11.27
冒認商標が韓国で出願されたときに利用できる規定と手続き「韓国冒認商標対応マニュアル」（2018年3月、ジェトロソウル）第3章では、冒認商標が韓国で出願されたときに利用できる規定と手続きが紹介されている。具体的には、第1節では、冒認商標の登録前の対応措置として情報提供や異議申立に関する制度やその手続き、冒認商標が登録された場合の対応措置として、取消審判や無効審判に関する制度やその手続きが紹介されている。第2節では、冒認商標の拒絶および無効に適用される規定および要件分析、第3節では、日本企業が請求した無効審判の勝敗原因の分析、第4節では、周知性の立証方法について紹介している。
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2018.11.22
インドネシアにおける知的財産権侵害行為に対する法的救済「模倣対策マニュアル インドネシア編」（2018年3月、日本貿易振興機構知的財産・イノベーション部知的財産課シンガポール事務所知的財産部）第2章では、知的財産権侵害行為に対する法的救済について紹介している。具体的には、第1節から第4節において、模倣品･海賊版の摘発件数等の実情、日本企業が直面する模倣品被害の状況、知的財産権行使の制度の概要、および、民事訴訟の件数や手続きの流れについて紹介している。第5節では、刑事的対抗手段に関する情報として、刑罰一覧、所管警察組織、刑事告発に必要な書類や手続きの流れ、第6節では、行政的救済手段として、税関による国境措置やウェブサイト閉鎖に関する制度や差止までの流れなどが紹介されている。
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2018.11.22
インドネシアにおける商標権の取得「模倣対策マニュアル インドネシア編」（2018年3月、日本貿易振興機構知的財産・イノベーション部知的財産課シンガポール事務所知的財産部）第1章第4節では、商標権の取得に関する情報が紹介されている。具体的には、商標法の概要、出願から登録までの手続き、出願･登録件数等の統計、商標権の効力、商標審判制度の概要、出願費用、公開情報検索の方法、登録取消訴訟の概要や統計について紹介されている。