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■ 全177件中、141150件目を表示しています。

  • 2015.02.19

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    タイにおける特許・小特許・意匠出願の審査迅速化のための対応

    タイにおける特許・小特許・意匠の出願から登録までに要する期間は統計データから平均して3~5年程度と考えられているが、現在のタイ知的財産局(Department of Intellectual Property : DIP)の審査滞貨数を考慮すると、登録までに要する期間はさらに長くなることが予測される。このため方式審査および実体審査おいて、審査迅速化のために出願人ができる対応について紹介する。

  • 2014.12.26

    • アジア
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 意匠

    インドネシアにおける産業意匠の取得

    (本記事は、2018/11/20に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16142/

    「模倣対策マニュアル インドネシア編」(2008年3月、日本貿易振興機構)2(4)では、インドネシアにおける産業意匠の取得について、産業意匠法の概要、出願に必要な書類、産業意匠権の効力、出願費用、出願・登録状況に関する統計等について紹介され、出願から登録までの手続きがフローチャートを交えて説明されている。また、添付資料として産業意匠法全文、産業意匠出願様式、模倣意匠の同一性に関する判決例も紹介されている。

  • 2014.12.22

    • アジア
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    インドネシアにおける特許の取得

    (本記事は、2018/11/15に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16141/

    「模倣対策マニュアル インドネシア編」(2008年3月、日本貿易振興機構)2(3)では、インドネシアにおける特許の取得について、特許法の概要、出願に必要な書類、特許権の効力、出願費用、出願・登録状況に関する統計等について紹介され、出願から登録までの手続きがフローチャートを交えて説明されている。また、添付資料として特許法全文及び特許出願様式も紹介されている。

  • 2014.07.01

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾税関における水際措置

    (本記事は、2018/3/8に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/14619/

    「台湾模倣対策マニュアル」(2013年3月、交流協会)三、(一)では、台湾税関における水際措置、具体的には、登録制度と必要書類、侵害疑義物品の輸出入差止め手続について、表やフローチャートを用いて説明されている。

  • 2014.07.01

    • アジア
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • 特許・実用新案

    (中国)発明の三要素を明確に記載することの重要性(「洗浄容易な多機能豆乳機」に係る無効審判)

    計8回の無効審判を請求されながらも、有効性が維持されてきた特許「洗浄容易な多機能投入機」の明細書の記載、それに関する審決の内容等を参考に、出願書類に発明の三要素(解決しようとする課題、課題を解決するための技術手段(改良)、それによる有利な効果)を明確に記載することの重要性について紹介する。

  • 2014.05.27

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許出願書類

    (2022年9月22日訂正:
    本記事のソース「特許出願願書フォーム(様式1)」「宣誓書フォーム(様式8)」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)

    シンガポールでは、特許出願書類として、願書、明細書、クレーム、図面、要約書が必要であり、出願手続は英語で行わなければならない。

  • 2014.05.16

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    中国における証明商標制度

    「商標法における認証・証明マークの保護の在り方に関する調査研究報告書」(2012年2月、知的財産研究所)II.7(4)、「地理的表示・地名等に係る商標の保護に関する調査研究報告書」(2011年2月、知的財産研究所)II.4(6)では、中国における証明商標制度について紹介されている。具体的には、証明商標の定義、証明商標制度における主体要件、提出書類、使用管理規則の審査等が紹介されている。

  • 2014.04.11

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 商標

    韓国における証明商標制度

    「商標法における認証・証明マークの保護の在り方に関する調査研究報告書」(2012年2月、知的財産研究所)II.7(5)、及び「地理的表示・地名等に係る商標の保護に関する調査研究報告書」(2011年2月、知的財産研究所)II.4(7)では、韓国における証明標章制度について、提出書類及び使用規則の記載項目等が紹介されている。

  • 2014.03.28

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 商標

    台湾における商標法の紹介

    「台湾模倣対策マニュアル」(2013年3月、交流協会)一、(一)2.では、台湾商標法に関し、保護対象となる商標、登録要件、出願手続、更新手続、手数料等について、表やフローチャート等を用いて詳細に説明されている。六には、添付資料として手数料表や委任状のフォーム等が掲載されている。

  • 2014.03.21

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    台湾における専利法の紹介

    「台湾模倣対策マニュアル」(2013年3月、交流協会)一、(一)1.では、台湾専利法に関し、特許、実用新案及び意匠の各保護対象、保護を受けるための要件、出願手続及び手数料等について、表やフローチャート等を用いて詳細に説明されている。また、六には、手数料表や委任状フォーム等の添付資料も掲載されている。