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■ 全173件中、131140件目を表示しています。

  • 2015.06.12

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    日本とブラジルにおける特許出願書類の比較

    (本記事は、2019/9/26に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17742/

    主に日本で出願された特許出願を優先権の基礎としてブラジルに特許出願する際に、必要となる出願書類についてまとめた。日本とブラジルにおける特許出願について、出願書類と手続言語についての規定および優先権主張に関する要件を比較した。

  • 2015.03.31

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    ベトナムにおける特許出願に関する方式審査上の拒絶理由通知

    ベトナムでは、特許出願後、公式な受理通知が発行される前に、方式審査が実施される。方式上の拒絶理由通知には、当該出願においてクレームされた発明が方式上受理を拒否された理由や、方式上具備しなければならない要件が記載される。方式上の拒絶理由通知に対し回答書を提出する期限は、当該拒絶理由通知の署名日から1ヶ月間であるが、この期間は延長できる。

  • 2015.03.31

    • 欧州
    • 出願実務
    • 意匠

    ロシアにおける意匠の出願制度

    ロシアでは、物品の外観を決定する、工業的にまたは職人により製造された当該物品の審美的表現およびデザイン表現に対して意匠権が与えられる。保護期間は5年で、5年毎に4回の更新が可能(最大保護期間は25年間)である。出願された意匠については、方式審査および実体審査が行われる。新規性については、絶対的新規性が採用されているが、一定の条件を満たす出願日前の開示については、当該開示から12ヶ月以内(グレースピリオド)に意匠出願を行うことにより、新規性喪失の例外が適用される。

  • 2015.03.31

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    韓国における意匠の新規性要件と新規性喪失の例外

    韓国における意匠登録出願については、韓国デザイン保護法(日本における意匠法に相当。)第33条に規定する新規性要件を満たさなければならない。ただし、デザイン保護法第36条によると、その出願前に新規性を喪失した場合、その新規性を喪失した日から6ヶ月以内に意匠出願をする場合には、その出願意匠の審査においてその公知意匠を公知でないものと見なす新規性喪失の例外規定が設けられている。原則として、意匠の新規性喪失に至った方法や理由にかかわらず、この新規性喪失の例外規定が適用される。

  • 2015.03.31

    • アジア
    • 統計
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    台湾における特許の早期権利化の方法

    (本記事は、2023/12/26に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/37984/

    台湾において、発明特許出願を早期審査する二つの方法として、「発明特許早期審査の運用方案(AEP)」と台日特許審査ハイウェイ(PPH MOTTAINAI)について、両制度の要件や事由、その効果を紹介する。

  • 2015.03.18

    • アジア
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    中国における早期審査のための「特許審査ハイウェイ(PPH)」活用

    (本記事は、2018/7/24に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/15548/

    中国における特許出願の早期審査を請求する方法として、「特許審査ハイウェイ(Patent Prosecution Highway: PPH)」の活用が挙げられる。出願に含まれる少なくとも一以上のクレームが第一出願庁(Office of First Filing: OFF)により登録可能であると判断された場合、一定の申請条件を満たしていれば、中国知識産権局を第二出願庁(Office of Second Filing: OSF)として、必要書類とともに「特許審査ハイウェイ」に基づく早期審査を請求することができる。

  • 2015.02.19

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    タイにおける特許・小特許・意匠出願の審査迅速化のための対応

    タイにおける特許・小特許・意匠の出願から登録までに要する期間は統計データから平均して3~5年程度と考えられているが、現在のタイ知的財産局(Department of Intellectual Property : DIP)の審査滞貨数を考慮すると、登録までに要する期間はさらに長くなることが予測される。このため方式審査および実体審査おいて、審査迅速化のために出願人ができる対応について紹介する。

  • 2014.12.26

    • アジア
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    • 統計
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    • 審決例・判例
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 意匠

    インドネシアにおける産業意匠の取得

    (本記事は、2018/11/20に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16142/

    「模倣対策マニュアル インドネシア編」(2008年3月、日本貿易振興機構)2(4)では、インドネシアにおける産業意匠の取得について、産業意匠法の概要、出願に必要な書類、産業意匠権の効力、出願費用、出願・登録状況に関する統計等について紹介され、出願から登録までの手続きがフローチャートを交えて説明されている。また、添付資料として産業意匠法全文、産業意匠出願様式、模倣意匠の同一性に関する判決例も紹介されている。

  • 2014.12.22

    • アジア
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    インドネシアにおける特許の取得

    (本記事は、2018/11/15に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16141/

    「模倣対策マニュアル インドネシア編」(2008年3月、日本貿易振興機構)2(3)では、インドネシアにおける特許の取得について、特許法の概要、出願に必要な書類、特許権の効力、出願費用、出願・登録状況に関する統計等について紹介され、出願から登録までの手続きがフローチャートを交えて説明されている。また、添付資料として特許法全文及び特許出願様式も紹介されている。

  • 2014.07.01

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    台湾税関における水際措置

    (本記事は、2018/3/8に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/14619/

    「台湾模倣対策マニュアル」(2013年3月、交流協会)三、(一)では、台湾税関における水際措置、具体的には、登録制度と必要書類、侵害疑義物品の輸出入差止め手続について、表やフローチャートを用いて説明されている。