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2016.04.11
メキシコにおける指令書への応答期間と期間延長（本記事は、2024/4/30に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/38757/メキシコ特許出願における指令書（方式審査指令書、実体審査指令書および認可通知）への応答期間と期間延長について説明する。指令書への応答期間は、方式審査指令書、実体審査指令書ともに、通常2ヶ月で、一回のみ2ヶ月の期間延長が可能である。期間延長は自動的に与えられ、事前の申請は必要ない。
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2016.04.11
シンガポールにおける証明標章制度証明標章は、それが付されている商品またはサービスの性質または出所を証明するものである。そのような対象として、地域、場所もしくは原産地、製造もしくは提供の方法もしくは方式、品質保証、商品もしくはサービスの精度、または商品もしくはサービスの定義可能な特性が含まれる。また、組合その他の組織のメンバーによる製造またはサービスの提供が一定の水準であるという証明にもなる。
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2016.04.08
インド国内で生まれた発明の取扱い―インド国外への特許出願に対する制限（本記事は、2019/9/26に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17745/インド国内で生まれた発明をインド国外へ特許出願する場合、インド特許法第39条の規定を順守する必要がある。この規定によれば、インド国外出願の6週間以上前にインドで出願され、かつ同出願に対する秘密保持の指示が出されなかった場合、または事前に外国出願許可を得ている場合を除き、インド居住者によるインド国外への特許出願が制限される。
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2016.04.08
メキシコにおける「商標の使用」と使用証拠（本記事は、2019/10/3に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17771/メキシコの産業財産法（商標法を含む）では、商標の使用は登録の要件ではない。したがって、メキシコにおいては、世界中のどこにおいても使用されていない商標であっても、登録可能である。しかし、出願日以前にメキシコで使用されている商標については、願書においてその使用開始日を記載することが重要である。願書を提出した後に使用開始日を追記することはできない。
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2016.04.08
南アフリカにおけるTMマークおよびRマーク「Ⓡ」の使用商標の所有者は、常に自己の商標権を保護し強化する必要があるが、南アフリカでは、商標であることを示すRマーク「Ⓡ」やTMマークを使用することは、法的に要求されていない。ただし、商標が既に登録されていることを示すRマーク「Ⓡ」、または未登録でも商標として使用されていることを示すTMマークを使用することは、公衆への認知、さらには模倣に対する抑止効果として望ましい。
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2016.04.08
タイにおける指定商品、役務に関わる留意事項タイ知的財産局（Department of Intellectual Property : DIP）商標局は、2013年3月1日付で発効したニース分類(国際分類)第10版を一般的な指針として利用しているが、厳密に従っているわけではない。広範な指定商品および指定役務の記載は認容されないことから、指定商品および指定役務に関しては、明瞭かつ具体的な記述が要求される。
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2016.04.06
オーストラリア商標制度概要（本記事は、2024/11/28に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/40245/オーストラリアにおける商標の登録は、1995年商標法（連邦法）（「商標法」）および商標規則に準拠している。また、コモンローの国であるため、商標の所有者は、コモンロー上の詐称通用を根拠として訴訟を起こすことができる。商標の所有者は、オーストラリアにおいて最初に商標を使用する者または最初に商標出願を申請する者のうち、いずれか早い方である。
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2016.04.06
アラブ首長国連邦（UAE）における知的財産権侵害の現状と市況報告「アラブ首長国連邦における知的財産権侵害の現状と市況報告」（2015年4月、日本貿易振興機構ニューデリー事務所）では、アラブ首長国連邦(UAE)を構成する７首長国（アブダビ、ドバイ、シャルジャ、アジュマン、ウンム・アル・クウェイン、ラス・アル・ハイマ、フジャイラ）における知的財産権の侵害に対する取り組みと、市場の現状について概要をまとめている。具体的には、法制度、知的財産権の行使として行政摘発、刑事訴訟、民事訴訟、税関対応など。さらに各首長国の市況が報告されている。
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2016.04.06
タイにおける特許出願の補正（本記事は、2025/2/18に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/40592/PCTまたはパリ条約ルートによりタイ特許出願を行った日から、特許査定通知の発行日まで、出願人は省令に定められた規則および手続に従い、自己の特許出願を補正することができる。ただし、補正は出願当初の発明の範囲を拡大するものであってはならない。
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2016.04.05
エジプトにおける先使用権制度「先使用権制度に関する調査研究報告書」（平成23年3月、日本国際知的財産保護協会）Ⅲ-3-「1」では、エジプトにおける先使用権制度について、先使用権制度の有無と条文規則、先使用権の成立要件、基準日、先使用権の対象となる行為、実施と新規性の関係、先使用権者が実施できる範囲、先使用権の移転に関わる問題等が、Q&A形式で説明されている。