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  • 2015.03.31

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 意匠

    韓国における意匠出願の補正

     意匠出願に関する書類の方式、または手数料などに関する手続き上の不備が見つかり、特許庁から手続きに関する補正指令書が発行されることがある。この場合、簡略な補正手続きを行い、手続き上の軽微な不備を修正することができる。しかし、出願意匠の実質的な内容に関する不備があった場合には、その補正において留意しなければならない点がある。具体的には、補正の時期が制限されること、最初の意匠登録出願の要旨を変更しない範囲でなされなければならず、最初の出願要旨を変更する補正は認められないことなどである。

  • 2015.03.31

    • アジア
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    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    タイにおける特許公報へのアクセス方法

    (本記事は、2018/7/24に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/15449/

     タイにおける特許に関する調査は、タイ知的財産局(Department of Intellectual Property:DIP)のウェブサイト(http://www.ipthailand.go.th/en/)が無償で提供しているデータベースを利用して実施することが可能である。検索には英語およびタイ語の双方を使用することができるが、英訳が用意されている情報は圧倒的に少なく、検索結果に大きな差が生じるのが現状である。

  • 2015.03.31

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    台湾における意匠出願の補正

    台湾では、専利法(日本における特許法、実用新案法、意匠法に相当。)に基づき、意匠出願の補正は査定書が送達されるまでであれば、いつでも行うことができるが、中国語(台湾語)による意匠説明書または図面に開示された範囲を超えないことが求められる。なお、外国語書面による出願の場合は、出願時の外国語書面に基づき誤訳の訂正を請求できる。

  • 2015.03.31

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    • 特許・実用新案

    韓国における一括審査制度について

    韓国特許庁は、一つの製品や融合技術・複合技術に関連した複数の特許・実用新案出願について、出願人が希望する時点に合わせ一括で審査する企業戦略に即した一括審査制度(日本における事業戦略対応まとめ審査に相当。)を施行している。2013年12月から、特許・実用新案の出願に対して一括審査が適用されており、2014年4月からは、商標および意匠にもその適用が拡大された。一括審査制度は、新製品の発売に合わせて多様な知的財産権を一度に権利化することができるという点で、企業の知財戦略の確立とタイムリーな知的財産権の保護に役立つことが期待される。

  • 2015.03.31

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    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許審査迅速化の方法

    (本記事は、2019/10/17に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17822/

    シンガポール特許出願、またはシンガポールに国内移行したPCT出願において、特許を早期に取得するためにはいくつかの方法がある。これらの方法について2014年2月14日に施行された改正特許法により導入された3種類の審査オプションに基づき説明する。

  • 2015.03.31

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    • 意匠

    インドにおける意匠出願の補正

    インドの意匠出願手続きでは、長官の裁量による補正または出願人による自発的補正を行うことができる。長官の裁量による補正とは、図面、物品名および名称、ディスクレーマー(権利不要求)、新規性に関する陳述、物品の性質および目的等に関して拒絶理由を発見した場合に要求される補正であり、出願人による自発的補正とは、誤記や宛先の訂正・変更やその他長官が妥当と判断する事項について出願人が自発的に行う補正である。

  • 2015.03.31

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    • 特許・実用新案

    中国における専利局の審査体制および審査状況

    (本記事は、2018/7/24に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/statistics/15568/

    中国国家知識産権局(中国特許庁)のホームページ上で公開された情報、および元審査官へのインタビューにより得られた情報に基づき、専利局の内部機構、各内部機構の役割、審査体制、審査が行われる地域の決定に関する規則、品質評価体制、審査状況等を紹介する。

  • 2015.03.31

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    • 特許・実用新案

    台湾における特許出願の補正・訂正

    (本記事は、2022/10/27に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/26853/

    台湾では、出願人と公益とのバランスおよび先願主義と将来取得する権利の安定性の両立のため、各国の特許制度と同じく特許出願の補正および権利付与後の訂正(日本における訂正審判に相当。)が認められている。台湾特許実務における特許出願の補正および訂正について説明するとともに留意事項を紹介する。

  • 2015.03.30

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠

    韓国における意匠の不登録事由

    韓国において意匠登録を受けるためには、デザイン保護法(日本における意匠法に相当。以下、「デザイン保護法」。)第33条に定める登録要件を備えるとともに、デザイン保護法第34条に定める不登録事由(国旗等と同一または類似の意匠、公共の秩序や善良な風俗を乱す恐れのある意匠、他人の業務に関連した物品と混同をもたらす恐れのある意匠、物品の機能を確保するのに不可欠な形状のみからなる意匠)に該当してはならない。無審査登録対象である物品に関する意匠登録出願であっても、韓国特許庁は不登録事由に該当するか否かについて審査している。

  • 2015.03.27

    • アジア
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    • 特許・実用新案

    インドネシアにおける特許の早期権利化

    (本記事は、2021/6/22に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/20273/

    インドネシアでは、特許法に基づき、特許庁が出願人による実体審査請求を受領した日から特許については36ヶ月、小特許(日本における実用新案に相当。)については24ヶ月で特許付与または拒絶査定を下すこととなっているが、滞貨案件が理由で、通常は登録まで3~6年を要する。審査手続を促進させるには、方式要件を満たした出願を行い、早期公開請求および実体審査請求とともに、特許審査ハイウェイ(Patent Prosecution Highway : PPH)プログラムとASEAN特許審査協力(ASEAN Patent Examination Co-operation : ASPEC)プログラムを活用することが考えられる。その他、修正実体審査請求を活用することも審査手続の促進に有用である。