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2014.06.17
シンガポールにおける意匠の登録事由と不登録事由シンガポールにおいて意匠登録が認められるためには新規性が必要であるが、一定の要件を満たす場合にグレースピリオドが認められる。また、公序良俗に反する意匠、コンピュータ・プログラム、彫刻品等については、意匠登録が認められていない。なお、シンガポールにおける意匠出願の審査は方式審査のみであり、方式審査において審査されるのは方式要件のみのため、方式審査において新規性の有無や不登録事由該当性等に関する判断が行われるわけではない。ただし、出願書類上明らかに不登録事由に該当する場合等は登録が拒絶され得る。
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2014.05.27
シンガポールにおける特許出願書類シンガポールでは、特許出願書類として、願書、明細書、クレーム、図面、要約書が必要であり、出願手続は英語で行わなければならない。
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2014.05.20
シンガポールにおける優先権主張を伴う特許出願シンガポールもパリ条約締結国であるため、優先権主張に伴う特許出願が認められる。優先権主張期間は基礎出願日から12ヶ月以内であり、部分優先や複数優先も認められる。
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2014.05.13
シンガポールにおける英語以外の言語を含む商標の出願（本記事は、2021/6/29に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/20345/シンガポールにおいて、日本語で使われる文字（ひらがな、カタカナ、漢字）等、ローマ字以外の文字や英語以外の言語より構成される、又はこれらを含む商標の出願を行う場合、願書に当該文字、言語の英語翻訳等を記載する必要がある。
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2014.05.07
シンガポールにおいて意匠出願人となる者シンガポールでは、原則として、意匠登録を受ける権利は創作者に原始的に帰属するが、雇用期間中に従業者により創作された場合等は、創作者に帰属しない旨が定められている。
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2014.04.15
シンガポール特許のライセンス・オブ・ライト（実施許諾用意）制度シンガポールでも特許をライセンス許諾することができるが、ライセンス・オブ・ライト制度（実施許諾用意制度）を利用すれば、更新手数料を半額にすることができる。
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2014.04.08
シンガポールにおける特許出願公開制度シンガポールでは、特許出願後18ヶ月経過後に出願内容が公開されるが、早期公開制度もある。特許出願の公開を止めるためには、公開準備完了前に出願を取り下げる必要があるが、公開準備が完了する時期は厳密に決まっているわけではないため、出願後、可及的速やかに出願を取り下げるのが望ましい。
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2014.03.28
シンガポールの審決へのアクセス方法シンガポール知財庁（IPOS）のウェブサイトには、1999年から現在までの知的財産関連の審決が英語で掲載されている。2009年までの審決は概要の閲覧が可能であり、2010年以降の審決は全文の閲覧が可能である。
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2014.03.21
シンガポールの判決等へのアクセス方法シンガポールの判決は、知的財産関連の判決を含め、直近3か月の判決のみSingapore Law Watchのウェブサイトにて無料で閲覧可能である（3ヵ月を経過すると、同じくSingapore Law Watchが運営する有料サイトLawNetに移管される）。また、著作権仲裁所の裁定は、シンガポール知財庁（IPOS）のウェブサイトにて閲覧できる。
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2014.02.25
シンガポールを指定した商標国際登録出願手続について本コンテンツは、2010年2月時点の情報に基づくものである。
「マドリッド協定議定書に基づく国際商標出願に関する各国商標法制度・運用－暫定的拒絶通報を受領した場合の手続を中心に－」平成21年度報告書（2010年2月、特許庁）５では、日本が本国官庁である基礎出願又は基礎登録についてシンガポールを領域指定して国際登録出願をする場合の願書への記入に関する留意点、実体審査の流れ（フローチャート含む）、拒絶通報に対する応答の流れ等について記載されている。