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  • 2016.02.05

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    マレーシアにおける特許審査基準関連資料

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部6では、マレーシアにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.05

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    インドにおける意匠の表現に関する制度・運用

    「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」(平成25年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部および第Ⅳ部では、インドにおける意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、インドの意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠公報に掲載された意匠の表現例、判例等について、海外アンケートと海外ヒアリングの結果と共に紹介されている。

  • 2016.02.02

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    インドネシアにおける特許審査基準関連資料

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部2では、インドネシアにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.02

    • オセアニア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    オーストラリアにおける意匠の表現に関する制度・運用

    「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」(平成25年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部では、オーストラリアにおける意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、オーストラリアの意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠の表現例等について、海外アンケートの結果と共に紹介されている。

  • 2016.01.29

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    ベトナムにおける特許審査基準関連資料

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部4では、ベトナムにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.01.29

    • 中南米
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    ブラジルにおける商標制度の運用実態

    「ブラジル・メキシコ・コロンビア・インド・ロシアの産業財産権制度及びその運用実態に関する調査研究報告書」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第2部-Ⅰ-Eでは、ブラジルにおける商標制度の運用実態について、商標制度の枠組、商標出願から登録までの手続の流れ、商標出願審査の内容、商標出願や登録に関する統計情報等について、関連条文やフローチャートを交えて紹介されている。

  • 2016.01.26

    • 欧州
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    ロシアにおける商標制度の運用実態

    「ブラジル・メキシコ・コロンビア・インド・ロシアの産業財産権制度及びその運用実態に関する調査研究報告書」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第2部-V-Eでは、ロシアにおける商標制度の運用実態について、商標制度の枠組、商標出願から登録までの手続の流れ、商標出願審査の内容、商標出願や登録に関する統計情報等について、関連条文やフローチャートを交えて紹介されている。

  • 2016.01.26

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • 意匠

    香港における意匠の表現に関する制度・運用

    「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」(平成25年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部では、香港における意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、香港の意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠公報に掲載された意匠の表現例等について、海外アンケートの結果と共に紹介されている。

  • 2016.01.19

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    台湾における特許審査基準関連資料

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部7では、台湾における特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.01.15

    • アジア
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 商標

    インドにおける商標制度の運用実態

    「ブラジル・メキシコ・コロンビア・インド・ロシアの産業財産権制度及びその運用実態に関する調査研究報告書」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第2部-IV-Eでは、インドにおける商標制度の運用実態について、商標制度の枠組、商標出願から登録までの手続の流れ、商標出願審査の内容、商標出願や登録に関する統計情報等について、関連条文やフローチャートを交えて紹介されている。