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■ 全161件中、121130件目を表示しています。

  • 2014.05.27

    • アジア
    • 出願実務
    • 審決例・判例
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    中国における先使用権制度注目コンテンツ

    「先使用権制度に関する調査研究報告書」(2011年3月、日本国際知的財産保護協会)III.1「1」では、中国における先使用権制度について紹介されている。中国専利法(発明、実用新案、意匠)は、特許権侵害との主張に対する抗弁として先使用権を認めている。この先使用権の成立要件、先使用権者が実施できる範囲、再実施許諾の可否及び作成日付等を証明する公証制度等について、Q&Aの形式で解説されている。

  • 2014.05.20

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    韓国におけるロイヤルティ管理と監査の実態注目コンテンツ

    「知的財産のライセンス契約に伴うロイヤルティ監査に関する調査研究報告書」(2011年2月、三菱UFJリサーチ&コンサルティング株式会社)II.7では、韓国におけるライセンス契約、ロイヤルティ管理と監査の実態について紹介されている。また、「韓国ライセンスマニュアル」(2011年3月、日本貿易振興機構)第3編第2章、第3章では、ロイヤルティの分類、算定方法、ロイヤルティに関する税金等について紹介されている。

  • 2014.05.09

    • アジア
    • 法令等
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • その他

    韓国における差止請求権の行使を巡る状況注目コンテンツ

    「権利行使態様の多様化を踏まえた特許権の効力の在り方に関する調査研究報告書」(2011年2月、知的財産研究所)II.6では、韓国における差止請求権の行使を巡る状況について紹介されている。具体的には、特許権者等による差止請求権(侵害事実の立証、行使方法や時期、行使状況等)や、韓国貿易委員会による不公正貿易行為調査及び産業被害救済に関する法律に基づく差止(暫定措置、是正措置、課徴金等)について紹介されている。

  • 2014.04.25

    • 中東
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • その他

    アラブ首長国連邦における技術移転の現状注目コンテンツ

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第1部第2章第7節では、アラブ首長国連邦(UAE)における技術移転の現状について紹介されている。同国では、投資家を誘致するため、フリーゾーン(UAE領土内の一部で、この地域に搬入される商品は、関税地域の外部に存在するものとみなされ、通常の税関手続きと管理の適用を受けずに商業活動又は産業活動が行われる地域)を開設し、同地域への直接投資、合弁事業契約又は実施/使用許諾契約を通じて技術移転が行われている。

  • 2014.04.22

    • 中東
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    サウジアラビアにおける商号、植物品種育成者権、ドメインネーム等の保護制度注目コンテンツ

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第2部第2章第5節~第6節では、サウジアラビアにおける、特許、実用新案、意匠、回路配置、商標及び著作権以外の知的財産関連制度について紹介されている。具体的には、商号、地理的表示、原産地表示、植物品種育成者権、ドメインネーム、営業秘密及びノウハウの保護等について紹介されている。

  • 2014.04.18

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    韓国における先使用権制度注目コンテンツ

    「先使用権制度に関する調査研究報告書」(2011年3月、日本国際知的財産保護協会)III.1「2」では、韓国における発明の先使用権制度について紹介されている。具体的には、先使用権の成立要件、先使用権者が実施できる範囲及び移転等に関して、Q&A形式で紹介されている。

  • 2014.04.15

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • 特許・実用新案

    シンガポール特許のライセンス・オブ・ライト(実施許諾用意)制度注目コンテンツ

    シンガポールでも特許をライセンス許諾することができるが、ライセンス・オブ・ライト制度(実施許諾用意制度)を利用すれば、更新手数料を半額にすることができる。

  • 2014.03.14

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    韓国における審判制度概要注目コンテンツ

    「欧米韓における当事者系審判等の運用実態に関する調査研究」(2012年3月、日本国際知的財産保護協会)第2章VII.2では、産業財産権(特許・実用新案・デザイン・商標)の発生・変更・消滅、及び、その効力範囲に関する紛争を解決するための審判制度として拒絶決定不服審判、無効審判、権利範囲確認審判及び訂正審判等の概要が紹介されている。

  • 2014.03.10

    • アジア
    • 法令等
    • その他

    韓国における知財法と公正取引委員会による規制注目コンテンツ

    「模倣対策マニュアル 韓国編」(2012年3月、日本貿易振興機構)第II編第13章では、韓国における知財法と公正取引委員会による規制が紹介されている。具体的には、知的財産権の不当な権利行使、並行輸入における不公正取引行為、不当な表示・広告行為及び技術奪取行為に対する公正取引法に基づく規制等について紹介されている。

  • 2014.03.07

    • 中東
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 商標

    湾岸諸国協力会議(GCC)注目コンテンツ

    本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。

    「模倣対策マニュアル 中東編」(2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課)第3部では、湾岸諸国協力会議(GCC)における特許制度や商標制度について紹介されている。GCCは共通特許制度(域内出願人及び国際出願人に対し、一度の出願で、GCC加盟国の全ての同盟国における特許保護を付与する制度)を実行しているが、統一GCC商標法は、全てのGCC加盟国が批准しておらず、本マニュアル作成時では、効力を生じていない。