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  • 2016.04.13

    • アジア
    • ライセンス・活用
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠

    中国における職務発明条例(草案)と科学技術成果転化促進法(改正)の解説

    中国において、修正が重ねられてきた職務発明規程(草案)が2015年中国国務院に提出されたが、その公布・施行の時期は未だ不明である。一方、2015年に改正され、同年10月1日に施行された「科学技術成果転化促進法」には、科学技術成果の実施に関し、職務発明条例(草案)と同様な趣旨の規定が設けられている。

    本稿では、中国における職務発明条例(草案)と科学技術成果転化促進法(改正)について、天達共和法律事務所 張青華 弁護士が解説している。

  • 2016.04.12

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 商標

    インドネシアにおける指定商品または役務に関わる留意事項

    (本記事は、2021/6/24に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20279/

    インドネシアにおいては現在、単一区分出願と多区分出願の双方が可能である。一区分においてカバーされる商品の数、または一出願における区分の数に制限はないが、一区分において、商品10件毎に追加の法定出願手数料が課される。類見出し(クラスヘディング)の指定も認められているが、不使用取消を受けるリスクも考え、使用意図のある商品または役務を出願することを推奨する。

  • 2016.04.12

    • 中南米
    • ライセンス・活用
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 商標

    メキシコにおけるTMマークおよびRマーク「Ⓡ」の使用

    (本記事は、2024/5/23に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/license/39156/

    メキシコでは、登録商標の使用を開始する場合、「Marca Registrada」(登録商標を意味するスペイン語)、またはその略称である「M.R.」、またはRマーク「Ⓡ」を商品やパッケージに表示する必要がある。これらのマークが表示されていない場合、商標登録の有効性自身には悪影響が生じることはないものの、商標権者が民事訴訟、刑事訴訟またはその他の権利行使を行う際に悪影響が生ずる。

  • 2016.04.12

    • アフリカ
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • 商標

    南アフリカにおける商標異議申立制度

    南アフリカにおける商標異議申立制度は、1993年法律第194号の商標法第21条および商標規則第19条に規定されている。商標出願が登録官によって認可された後に、公報に出願公告され、公告日から3ヵ月以内に異議申立が可能である。直接の利害関係人であれば誰でも、異議申立を提起することができる。

  • 2016.04.12

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    タイにおける特許分割出願

    タイ特許法B.E. 2522(1979)は、出願人が自発的に分割出願を行うことを認めていない。出願人が分割出願を行うことができるのは、審査官が拒絶理由通知により出願を分割するよう指示した場合に限られる。審査官が分割を指示した場合、出願人はその拒絶理由通知の受領から180日以内に分割出願を行わなければならない。特許法B.E. 2522(1979)第26条に従い、分割出願は最初の出願の出願日になされたものと見なされる。

  • 2016.04.11

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    インドにおける特許異議申立制度-付与前異議と付与後異議

    (本記事は、2023/2/14に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/33767/

    インド特許制度には、付与前と付与後の異議申立制度が設けられている。これら異議申立制度の詳細は、インド特許法第25条に具体的に規定されている。なお、「利害関係人」の場合、インド特許法第64条に基づき特許の取消を求めることができる。取消手続は、知的財産審判部(IPAB)または侵害の訴えに対する反訴として高裁に提訴することができる。

  • 2016.04.11

    • 中南米
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    メキシコにおける指令書への応答期間と期間延長

    (本記事は、2024/4/30に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/38757/

    メキシコ特許出願における指令書(方式審査指令書、実体審査指令書および認可通知)への応答期間と期間延長について説明する。指令書への応答期間は、方式審査指令書、実体審査指令書ともに、通常2ヶ月で、一回のみ2ヶ月の期間延長が可能である。期間延長は自動的に与えられ、事前の申請は必要ない。

  • 2016.04.11

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標

    シンガポールにおける証明標章制度

    証明標章は、それが付されている商品またはサービスの性質または出所を証明するものである。そのような対象として、地域、場所もしくは原産地、製造もしくは提供の方法もしくは方式、品質保証、商品もしくはサービスの精度、または商品もしくはサービスの定義可能な特性が含まれる。また、組合その他の組織のメンバーによる製造またはサービスの提供が一定の水準であるという証明にもなる。

  • 2016.04.08

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    インド国内で生まれた発明の取扱い―インド国外への特許出願に対する制限

    (本記事は、2019/9/26に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17745/

     インド国内で生まれた発明をインド国外へ特許出願する場合、インド特許法第39条の規定を順守する必要がある。この規定によれば、インド国外出願の6週間以上前にインドで出願され、かつ同出願に対する秘密保持の指示が出されなかった場合、または事前に外国出願許可を得ている場合を除き、インド居住者によるインド国外への特許出願が制限される。

  • 2016.04.08

    • 中南米
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • アーカイブ
    • 商標

    メキシコにおける「商標の使用」と使用証拠

    (本記事は、2019/10/3に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17771/

    メキシコの産業財産法(商標法を含む)では、商標の使用は登録の要件ではない。したがって、メキシコにおいては、世界中のどこにおいても使用されていない商標であっても、登録可能である。しかし、出願日以前にメキシコで使用されている商標については、願書においてその使用開始日を記載することが重要である。願書を提出した後に使用開始日を追記することはできない。