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2014.05.09
ブラジル特許出願の期日管理の留意点（本記事は、2022/7/26に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/etc/24174/ブラジルでは、特許出願から登録まで、審査請求期間、拒絶理由通知対応期間、拒絶査定を受けたときの応答期間又は拒絶査定不服審判請求可能期間をはじめ、手続上多くの定められた期日がある。延長が可能なものと不可のものがあるので、十分注意して期日管理を行う必要がある。
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2014.05.07
中国・韓国を含む海外の特許微生物寄託機関の運用状況「特許微生物寄託機関の業務運用の在り方に関する調査研究報告書」（2012年2月、一般財団法人 知的財産研究所）「V． 海外の特許微生物寄託機関の運用状況」では、特許微生物寄託機関の運用状況について紹介されている。具体的には、中、韓、仏、独、英、米の特許微生物寄託機関の国際寄託当局に対する、組織概要、秘密保持、安全性の確保及び分譲業務等についての調査結果が紹介されている。
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2014.05.02
ロシアにおけるコンピュータプログラムの保護ロシアでは、コンピュータプログラムそのものは、著作権の保護対象であるが、特許の保護対象ではない。従って、コンピュータプログラムに関する発明に係る特許出願をする場合は、プログラムクレームではなく、装置クレーム、方法クレーム、又は記録媒体（コンピュータプログラムを格納した記録媒体）クレームを作成する必要がある。
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2014.04.28
サウジアラビアにおける知的財産権のエンフォースメント本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。
「模倣対策マニュアル 中東編」（2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課）第２部第３章では、サウジアラビアにおける知的財産権のエンフォースメントについて紹介されている。サウジアラビア政府は、模倣品等の防止として、無作為に実施する摘発の回数を増やし、摘発を担当する商業詐欺防止部（ACFD）を設置する等の対策を講じていることに加え、民事訴訟、刑事訴訟、水際対策等を整備している。
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2014.04.25
サウジアラビアにおける技術移転の現状本コンテンツは、2009年3月時点の情報に基づくものである。
「模倣対策マニュアル 中東編」（2009年3月、日本貿易振興機構 在外企業支援・知的財産部 知的財産課）第２部第２章第７節では、サウジアラビアにおける技術移転の現状について紹介されている。技術移転の契約を扱う法律は特に存在せず、一般に、基本的な契約法により規律される。契約当事者は、サウジ法、規則及びイスラム法に反しない限り、いかなる条件も合意できる。本節では、送金及びロイヤルティー等への課税について紹介されている。
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2014.04.25
韓国における特許権取得後の訂正審判及び訂正請求制度「諸外国における特許権利化後の補正・訂正制度に関する調査研究」（2011年3月、日本国際知的財産保護協会）第２章VIでは、韓国における特許権取得後の訂正審判及び訂正請求制度について紹介されている。具体的には、訂正審判等の要件、訂正拒絶理由通知及び審決等について紹介されている。
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2014.04.15
中国における模倣品対応事例「模倣品海外拡散防止マニュアル」（2012年3月、日本貿易振興機構上海事務所知識産権部）第五章では、中国における模倣品対応事例について紹介されている。具体的には、実際にあった事例として、展示会の調査・取締事例、インターネットの調査・削除事例、税関での調査・差止事例、外国人バイヤーの摘発事例が、写真等を用いて紹介され、救済を受けるために必要な事前登録（工商登記、税関登録）等についても紹介されている。
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2014.04.15
シンガポール特許のライセンス・オブ・ライト（実施許諾用意）制度シンガポールでも特許をライセンス許諾することができるが、ライセンス・オブ・ライト制度（実施許諾用意制度）を利用すれば、更新手数料を半額にすることができる。
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2014.04.11
ブラジルの特許・実用新案の存続期間満了の調べ方ブラジルでは、特許権の存続期間は出願日から20年又は特許付与日から10年のいずれか長い方であり、実用新案の存続期間は出願日から15年又は付与日から7年のいずれか長い方となる（産業財産権法第40条）。存続期間の延長は原則として不可能であり、存続期間満了後で特許権又は実用新案権の対象技術がパブリックドメインに入るので、どの技術についていつ存続期間が満了するかを簡易に調べることができるように、ブラジル知財庁（INPI）は存続期間満了検索サイトを導入している。
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2014.04.08
シンガポールにおける特許出願公開制度（2022年9月26日訂正：
本記事のソース「シンガポール知的財産庁ウェブサイト」｢早期公開申請フォーム（様式9）｣｢取下書フォーマット（様式CM9）｣のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）シンガポールでは、特許出願後18ヶ月経過後に出願内容が公開されるが、早期公開制度もある。特許出願の公開を止めるためには、公開準備完了前に出願を取り下げる必要があるが、公開準備が完了する時期は厳密に決まっているわけではないため、出願後、可及的速やかに出願を取り下げるのが望ましい。