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2016.03.15
ケニアにおける知的財産権関連制度の概要「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」（平成26年2月、日本国際知的財産保護協会）3-2-(3)では、ケニアにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、実用新案、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。
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2016.03.11
エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」（平成26年2月、日本国際知的財産保護協会）4-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態について、エジプトの一般情報、知的財産権関連制度（特許・意匠・商標）の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約／海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。
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2016.03.08
エジプトにおける知的財産権関連制度の概要「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」（平成26年2月、日本国際知的財産保護協会）3-2-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、実用新案、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。
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2016.02.26
インドにおける意匠制度の運用実態「ブラジル・メキシコ・コロンビア・インド・ロシアの産業財産権制度及びその運用実態に関する調査研究報告書」（平成27年3月、日本国際知的財産保護協会）第2部-IV-Dでは、インドにおける意匠制度の運用実態について、意匠制度の枠組、意匠出願から登録までの手続の流れ、意匠審査の内容、意匠出願や登録に関する統計情報、ハーグ協定ジュネーブ改正協定に関する整合状況等について、関連条文やフローチャートを交えて紹介されている。
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2016.02.26
ロシアにおける意匠制度の運用実態「ブラジル・メキシコ・コロンビア・インド・ロシアの産業財産権制度及びその運用実態に関する調査研究報告書」（平成27年3月、日本国際知的財産保護協会）第2部-V-Dでは、ロシアにおける意匠制度の運用実態について、意匠制度の枠組、意匠出願から登録までの手続の流れ、意匠審査の内容、意匠出願や登録に関する統計情報、ハーグ協定ジュネーブ改正協定に関する整合状況等について、関連条文やフローチャートを交えて紹介されている。
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2016.02.23
ブラジルにおける意匠制度の運用実態「ブラジル・メキシコ・コロンビア・インド・ロシアの産業財産権制度及びその運用実態に関する調査研究報告書」（平成27年3月、日本国際知的財産保護協会）第2部-Ⅰ-Dでは、ブラジルにおける意匠制度の運用実態について、意匠制度の枠組、意匠出願から登録までの手続の流れ、意匠審査の内容、意匠出願や登録に関する統計情報、ハーグ協定ジュネーブ改正協定に関する整合状況等について、関連条文やフローチャートを交えて紹介されている。
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2016.02.16
フィリピンにおける特許審査基準関連資料「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」（平成27年3月、日本国際知的財産保護協会）第Ⅲ部3では、フィリピンにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。
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2016.02.12
タイにおける特許審査基準関連資料「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」（平成27年3月、日本国際知的財産保護協会）第Ⅲ部5では、タイにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。
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2016.02.09
シンガポールにおける特許審査基準関連資料「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」（平成27年3月、日本国際知的財産保護協会）第Ⅲ部1では、シンガポールにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。
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2016.02.09
韓国におけるデザイン（意匠）の登録要件韓国におけるデザイン（意匠）の登録要件として、デザイン保護法第33条に基づき、i）新規性、ii）創作性、iii）工業上の利用可能性を満たさなければならず、iv）拡大された先出願主義に違反してはならない。また、v）上記要件を満たしたデザインまたはこれと類似のデザインが2以上出願された場合には、一番先に出願した者のみが登録を受けることができる。