ホーム サイト内検索

■ 全177件中、101110件目を表示しています。

  • 2015.10.02

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 意匠

    日本とシンガポールにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較

    (本記事は、2019/10/10に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17783/

    シンガポールにおける意匠出願の新規性喪失の例外規定の適用要件は、意匠法第8条に規定されている。日本の規定とは異なっており、意匠登録を受ける権利を有する者の行為に基づいた公開に対しての例外規定は適用されない。ただし、国際的な博覧会での展示に関しては、開催後6ヵ月以内に出願することを条件として、新規性喪失の例外を主張することが可能である。

  • 2015.10.02

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールにおける特許分割出願に関する時期的要件の比較

    (本記事は、2019/10/10に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17786/

    日本およびシンガポールにおいては、それぞれ所定の期間、特許出願について分割出願を行うことができる。シンガポールにおいては、(i)原出願の登録料の納付、(ii)原出願の拒絶、放棄または取下げのいずれかの前まで分割出願を行うことができる。

  • 2015.10.02

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールにおける特許出願書類の比較

    (本記事は、2019/11/7に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17897/

    主に日本で出願された特許出願を優先権の基礎としてシンガポールに特許出願する際に、必要となる出願書類についてまとめた。日本とシンガポールにおける特許出願について、出願書類と手続言語についての規定および優先権主張に関する要件を比較した。

  • 2015.09.25

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールの特許の実体審査における拒絶理由通知への応答期間と期間の延長に関する比較

    (本記事は、2019/11/7、2020/5/5に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17903/(2019/11/7)
        https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18540/(2020/5/5) 
                                
    日本とシンガポールの実体審査においては、拒絶理由通知への応答期間が異なる。具体的には、実体審査において60日(在外者でない場合)または3ヶ月(在外者の場合)の応答期間が設定されている日本とは異なり、シンガポールにおいては、審査請求のオプションによって応答期間が異なり、シンガポール特許庁に審査を請求するオプションの場合は5ヶ月、シンガポール特許庁に補充審査を請求するオプションの場合は3ヶ月である。また、日本と異なり、シンガポールにおいては応答期間の延長ができない。

  • 2015.09.25

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    日本とシンガポールの意匠出願における実体審査制度の有無に関する比較

    日本における意匠出願の審査では、意匠登録のために方式審査と実体審査が行われる。一方、シンガポールにおける意匠出願の審査では、方式審査のみが行われる。ただし、シンガポールにおいて、審査官が明らかに不登録事由に該当していると判断した場合には、審査官は出願を拒絶することが可能である。

  • 2015.09.25

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    日本とシンガポールにおける特許審査請求期限の比較

    (本記事は、2019/11/7、2020/4/30、2021/6/24に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17900/(2019/11/7)
        https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18538/(2020/4/30)
        https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20283/(2021/6/24)

    日本における特許審査請求の請求期限は、日本出願日(優先権主張の有無にかかわらず)から3年である。シンガポールにおける特許審査請求には4つのオプションがあり、それぞれ審査請求の期限が異なる。費用の支払いにより期限の延長も可能である。審査請求期限の起算日はいずれのオプションも出願日(優先権主張を伴う場合には優先日)である。

  • 2015.08.04

    • アジア
    • 法令等
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    シンガポールにおける知的財産の法的手続にかかる根拠規定と担当機関【その2】

    知的財産に関する紛争の法的手続は、内容に応じてシンガポール知的財産庁商標登録局または高等裁判所に提起する。異議申立は、商標登録局に提起し、取消請求および無効請求は、商標登録局または高等裁判所に提起する。高等裁判所では、情報技術紛争に関して、その専門知識と経験を備えた裁判官を特定する専門家リストを策定している。さらに高等裁判所は、知的財産紛争に関して、事件管理要点と専門家実務を定める知的財産裁判所便覧もまとめている。

    本稿では、シンガポールにおける知的財産の法的手続にかかる根拠規定と担当機関について、Drew & Napier LLC の弁護士 Lim Siau Wen氏が全2回のシリーズにて解説しており、本稿は【その2】続編である。

  • 2015.07.28

    • アジア
    • 法令等
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    シンガポールにおける知的財産の法的手続にかかる根拠規定と担当機関【その1】

    知的財産に関する紛争の法的手続は、内容に応じてシンガポール知的財産庁商標登録局または高等裁判所に提起する。異議申立は、商標登録局に提起し、取消請求および無効請求は、商標登録局または高等裁判所に提起する。高等裁判所では、情報技術紛争に関して、その専門知識と経験を備えた裁判官を特定する専門家リストを策定している。さらに高等裁判所は、知的財産紛争に関して、事件管理要点と専門家実務を定める知的財産裁判所便覧もまとめている。

    本稿では、シンガポールにおける知的財産の法的手続にかかる根拠規定と担当機関【その1】について、Drew & Napier LLC 弁護士 Lim Siau Wen氏が全2回のシリーズにて解説している。

  • 2015.06.09

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • 商標

    シンガポールにおける商標権に基づく権利行使【その2】

    商標権者は自己の登録商標に基づき、侵害者を相手取り侵害訴訟を提起することができる。侵害訴訟において既存の商標登録を根拠とする場合、商標権者は不使用取消のリスクを回避するため、シンガポールにおいて自己の商標が真正に使用されていることを確認する必要がある。

    本稿では、シンガポールにおける商標権に基づく権利行使について、Drew & Napier LLC 弁護士 Lim Siau Wen氏が全2回のシリーズにて解説しており、本稿は【その2】続編である。

  • 2015.06.02

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • 審決例・判例
    • 商標

    シンガポールにおける商標権に基づく権利行使【その1】

    商標権者は自己の登録商標に基づき、侵害者を相手取り侵害訴訟を提起することができる。侵害訴訟において既存の商標登録を根拠とする場合、商標権者は不使用取消のリスクを回避するため、シンガポールにおいて自己の商標が真正に使用されていることを確認する必要がある。

    本稿では、シンガポールにおける商標権に基づく権利行使について、Drew & Napier LLC 弁護士 Lim Siau Wen氏が全2回のシリーズにて解説している。