ホーム サイト内検索

■ 全143件中、101110件目を表示しています。

  • 2015.03.31

    • アジア
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおけるパリ条約ルートおよびPCTルートの特許出願の差異

    (本記事は、2019/10/15に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17808/

    シンガポールにおいては、2014年2月14日に施行された改正特許法により、パリ条約ルートおよびPCTルートの特許出願審査手続きの大部分が統一された。審査請求に関する重要な期限は両ルートとも同一である。しかしならが、両ルートの手続きには、依然として留意すべき差異が存在する。

  • 2015.03.31

    • アジア
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    シンガポールにおける特許審査迅速化の方法

    (本記事は、2019/10/17、2023/2/14に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/17822/(2019.10.17)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/33773/(2023.2.14)

    シンガポール特許出願、またはシンガポールに国内移行したPCT出願において、特許を早期に取得するためにはいくつかの方法がある。これらの方法について2014年2月14日に施行された改正特許法により導入された3種類の審査オプションに基づき説明する。

  • 2015.03.27

    • アジア
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    インドネシアにおける特許の早期権利化

    (本記事は、2021/6/22に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/20273/

    インドネシアでは、特許法に基づき、特許庁が出願人による実体審査請求を受領した日から特許については36ヶ月、小特許(日本における実用新案に相当。)については24ヶ月で特許付与または拒絶査定を下すこととなっているが、滞貨案件が理由で、通常は登録まで3~6年を要する。審査手続を促進させるには、方式要件を満たした出願を行い、早期公開請求および実体審査請求とともに、特許審査ハイウェイ(Patent Prosecution Highway : PPH)プログラムとASEAN特許審査協力(ASEAN Patent Examination Co-operation : ASPEC)プログラムを活用することが考えられる。その他、修正実体審査請求を活用することも審査手続の促進に有用である。

  • 2015.03.26

    • アジア
    • 出願実務
    • 制度動向
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    インドにおけるPCT出願国内移行時の補正

    (本記事は、2020/3/31に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18399/

    インド特許庁は、PCT出願の国内段階移行手続き簡素化に関する公示(CG/Public Notice/PO/2012/15)を2012年7月2日に行い、同日施行した。公示の中で、国内段階移行時(国内書面提出時)における明細書やクレーム等の補正が認められないと定めた。従来は、補正された明細書やクレーム等を国内段階への移行時に自発補正して提出することを認めていたが、PCT出願に係る補正は、国内段階への移行後でないと認められないとされた。

  • 2015.03.18

    • アジア
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    中国における早期審査のための「特許審査ハイウェイ(PPH)」活用

    (本記事は、2018/7/24に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/15548/

    中国における特許出願の早期審査を請求する方法として、「特許審査ハイウェイ(Patent Prosecution Highway: PPH)」の活用が挙げられる。出願に含まれる少なくとも一以上のクレームが第一出願庁(Office of First Filing: OFF)により登録可能であると判断された場合、一定の申請条件を満たしていれば、中国知識産権局を第二出願庁(Office of Second Filing: OSF)として、必要書類とともに「特許審査ハイウェイ」に基づく早期審査を請求することができる。

  • 2015.03.04

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    台湾における特許管理実務と中国の実務との比較

    「台湾における先使用権と公証制度 中国出願との差異を事例としての台湾出願のポイント」(2014年3月、公益財団法人交流協会)B.第五章では、台湾における特許管理実務の比較について、大陸と台湾両岸における出願ルート、書面出願と電子出願ならびに外国語出願と中国語出願に係る出願時の実務の相違点、および中間処理実務の相違点が説明されている。

  • 2015.01.14

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他

    タイにおける産業財産権の取得に関する概要

    「模倣対策マニュアル タイ編」(2008年3月、日本貿易振興機構)第1編第1章では、タイの知的財産関連法の一覧、主な国際条約への加盟状況一覧、署名済みのFTA/EPA における知的財産の取り扱い状況、知的財産権取得に関わる政府機関名が紹介されている。

  • 2014.12.24

    • アジア
    • 法令等
    • 審決例・判例
    • 特許・実用新案

    インドにおける特許判決・審決の分析

    「インド知財判決・審決分析集(2014年第3版)」(2014年6月、日本貿易振興機構ニューデリー事務所知的財産部)1では、インドにおける特許分野の論点ごとに、各論点の概要、成文法の規定、審決及び判決の分析及び分析に基づく結論が紹介されている。

  • 2014.12.22

    • アジア
    • 法令等
    • 統計
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    インドネシアにおける特許の取得

    (本記事は、2018/11/15に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/16141/

    「模倣対策マニュアル インドネシア編」(2008年3月、日本貿易振興機構)2(3)では、インドネシアにおける特許の取得について、特許法の概要、出願に必要な書類、特許権の効力、出願費用、出願・登録状況に関する統計等について紹介され、出願から登録までの手続きがフローチャートを交えて説明されている。また、添付資料として特許法全文及び特許出願様式も紹介されている。

  • 2014.12.17

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • ライセンス・活用
    • 特許・実用新案

    フィリピンにおける発明の特許と実用新案の登録

    「模倣対策マニュアル フィリピン編」(2010年3月、日本貿易振興機構)Ⅱ-2では、フィリピンにおける発明の特許と実用新案の登録について、特許出願の方式要件、特許出願手続、実用新案の方式審査と公告、職務発明の規定、特許強制実施許諾、侵害事件における立証責任の転換、発明特許の譲渡およびライセンシング等について説明されている。また、付属資料として特許出願に関する各種書式やフローチャートも紹介されている。