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2020.03.05
カンボジアにおける模倣品対策「カンボジアにおける模倣品流通実態についての調査」（2017年9月、日本貿易振興機構(JETRO) バンコク事務所 知的財産部）第6章では、カンボジアにおける模倣品対策が紹介されている。
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2020.03.03
カンボジアにおける知的財産権の行使「カンボジアにおける模倣品流通実態についての調査」（2017年9月、日本貿易振興機構(JETRO) バンコク事務所 知的財産部）第3章では、カンボジアにおける知的財産権の行使について紹介されている。
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2020.02.18
韓国における商標法「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「第II編 韓国の知的財産制度と関連法 第5章 商標法」では、韓国における商標法に基づく登録要件、手続の概要、権利取得と維持、異議申立、審判手続、審査基準等が紹介されている。
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2020.02.13
韓国における実用新案法「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「第II編 韓国の知的財産制度と関連法 第3章 実用新案法」では、韓国における実用新案法に基づく登録要件、手続概要、登録取消制度等が紹介されている。
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2020.02.13
韓国におけるデザイン保護法「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「第II編 韓国の知的財産制度と関連法 第4章 デザイン保護法」では、韓国におけるデザイン保護法に基づく登録要件、手続の概要、権利取得と維持、異議申立、審判手続、国際デザイン登録制度等が紹介されている。
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2020.02.13
韓国における特許法「模倣対策マニュアル韓国編」（2019年3月、日本貿易振興機構(ジェトロ)）「第II編 韓国の知的財産制度と関連法 第2章 特許法」では、韓国における特許法に基づく登録要件、手続概要、権利取得と維持、特許取消申請制度、特許審判、PCT出願、PPH申請手続等が紹介されている。
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2020.01.21
フィリピンにおける知的財産権エンフォースメント「フィリピンにおける模倣品流通実態調査」（2019年3月、日本貿易振興機構マニラ事務所）「Ⅲ フィリピンの知的財産権エンフォースメント」では、フィリピンにおける知的財産権侵害者に対する対抗措置が紹介されている。
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2019.12.05
日本とインドネシアにおける特許出願書類・手続の比較日本で出願された特許出願を優先権の基礎としてインドネシアに特許出願する際に、必要となる出願書類および関連する法令についてまとめた。日本とインドネシアにおける特許出願について、出願書類と手続言語についての規定および優先権主張に関する要件を比較した。
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2019.11.21
カンボジアにおける商標出願制度の概要商標出願の手続は主に、出願、方式審査、実体審査、登録の順に進行する。商標権の存続期間は、カンボジアにおける出願日から10年であるが、10年間の更新が可能である。商務省（MOC：Ministry of Commerce）の知的財産局（DIPR：Department of Intellectual Property Rights）は、標章、商号および不正競争行為に関する法律（以下、「商標法」という。）、並びに、標章、商号および不正競争行為に関する法律の施行に関する規則（以下、「商標法施行規則」という。）に従い、カンボジアにおける商標関連事項を所管する。
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2019.11.21
カンボジアにおける意匠出願制度の概要意匠出願の手続きは主に、出願、方式審査、実体審査、登録の順に進行する。意匠権の存続期間は、カンボジアにおける出願日から5年であるが、5年間の更新が2回可能であり、最長の存続期間は15年間である。工業手工芸省（MIH：Ministry of Industry and Handicrafts）の工業財産局（DIP: Department of Industrial Property）は、特許、実用新案証および意匠に関する法律（以下、「特許法」という。）および意匠登録手続に関する省令（以下、「意匠省令」という。）に従い、特許、実用新案および意匠を含むすべての産業財産関連事項を所管する。