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2012.07.31
台湾における特許出願制度概要（本記事は、2022/7/26に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/24167/特許出願（中国語「發明專利」）手続は、一般的に、方式審査、出願公開、審査請求、実体審査、特許査定、公告の順で進められる。
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2012.07.31
韓国における商標出願制度概要（本記事は、2018/10/25に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/16045/韓国商標出願制度の概要
出願手続きは、主に出願、方式審査、実体審査、出願公告、登録査定の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に何度でも更新可能である。 -
2012.07.31
韓国における特許・実用新案出願制度概要（本記事は、2017/7/20、2021/5/13に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/13908/（2017/7/20）
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/19854/（2021/5/13）特許及び実用新案の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)実体審査、（5）登録の手順で進められる。両者の手続の違いは、審査請求期間が特許の場合出願から5年であるのに対し実用新案の場合3年であり、特許件の存続期間が出願日から20年であるのに対し実用新案の存続期間は出願日から10年である点である。
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2012.07.30
中国における実用新案出願制度概要（本記事は、2021/11/30に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/21210/中国実用新案出願の流れ
実用新案の出願手続きは、主に、(i)出願、(ii)方式審査、(iii)登録・公告の手順で進められる。実体審査は行われず、登録後の無効請求により対応される。実用新案特許権の存続期間は出願日から10年。 -
2012.07.30
中国における商標出願制度概要（本記事は、2020/4/16に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18449/中国における商標出願の流れ
出願は、国家工商行政管理局に属する商標局に対して行い、出願手続きは、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)実体審査、(4)出願公告、(5)登録公告の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に何度でも更新可能である。 -
2012.07.30
中国における意匠出願制度概要（本記事は、2020/4/28に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18532/中国意匠出願の流れ
意匠の出願手続は、主に、(i)出願、(ii)方式審査、(iii)登録・公告の手順で進められる。実体審査は行われず、登録後の無効請求により対応される。意匠特許権の存続期間は出願日から10年。 -
2012.07.30
韓国における意匠（韓国語「デザイン」）出願制度概要（本記事は、2020/3/19に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18372/韓国意匠出願制度の概要
韓国意匠登録は、実体審査を経るものと経ないもの（方式審査のみ）に分かれている。
無審査登録の対象物品は指定されており、出願後、実体審査なしに登録されるが、異議申立制度がある。
審査登録出願は、実体審査、登録、年金納付等の順序で行われ、異議申立制度はない。 -
2012.07.30
中国における特許出願制度概要（本記事は、2020/3/17に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18370/中国特許出願の流れ
特許の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)実体審査、(5)登録・公告の手順で進められる。特許権の存続期間は出願日から20年。