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■ 全188件中、91100件目を表示しています。

  • 2017.12.07

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    中国の商標法における「認証・証明マーク」についての識別性の要件・考え方および地理的表示(GI)の保護制度との関係

    「商標の識別性に関する課題(「認証・証明マークの保護」及び「商標の定義」の観点から)についての調査研究報告書」(平成29年3月、知的財産研究教育財団知的財産研究所)資料編I-1-7では、中国の商標法における「認証・証明マーク」についての識別性の要件・考え方および地理的表示(GI)の保護制度との関係について、海外質問票調査結果の詳細がまとめられており、同資料編I-2-7では、現地からの回答の和訳が紹介されているとともに、中国の地理的表示制度と商標制度が表形式で比較されている。

  • 2017.12.07

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    韓国の商標法における「認証・証明マーク」についての識別性の要件・考え方および地理的表示(GI)の保護制度との関係

    「商標の識別性に関する課題(「認証・証明マークの保護」及び「商標の定義」の観点から)についての調査研究報告書」(平成29年3月、知的財産研究教育財団知的財産研究所)資料編I-1-8では、韓国の商標法における「認証・証明マーク」についての識別性の要件・考え方および地理的表示(GI)の保護制度との関係について、海外質問票調査結果の詳細がまとめられており、同資料編I-2-8では、現地からの回答の和訳が紹介されているとともに、韓国の地理的表示制度と商標制度が表形式で比較されている。

  • 2017.12.07

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 商標
    • その他

    シンガポールの商標法における「認証・証明マーク」についての識別性の要件・考え方および地理的表示(GI)の保護制度との関係

    「商標の識別性に関する課題(「認証・証明マークの保護」及び「商標の定義」の観点から)についての調査研究報告書」(平成29年3月、知的財産研究教育財団知的財産研究所)資料編I-1-9では、シンガポールの商標法における「認証・証明マーク」についての識別性の要件・考え方および地理的表示(GI)の保護制度との関係について、海外質問票調査結果の詳細がまとめられており、同資料編I-2-9では、現地からの回答の和訳が紹介されているとともに、シンガポールの地理的表示制度と商標制度が表形式で比較されている。

  • 2017.06.20

    • アジア
    • 統計
    • 審判・訴訟実務
    • 制度動向
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標

    インドネシアにおける模倣対策および概論

    「インドネシアの模倣品対策に関する調査」(2016年8月、日本貿易振興機構(JETRO)ジャカルタ事務所)では、インドネシアにおける模倣対策および概論について、知的財産権侵害関連機関と権限の整理、各機関による取締実績、直近3年間程度における関連規定の改正や通知等の要点、民事訴訟手続と刑事訴訟手続の比較結果等が紹介されている。

  • 2015.11.27

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    日本と香港における意匠の新規性喪失の例外に関する比較

    香港における意匠出願の新規性喪失の例外規定の適用要件は意匠条例第9条に規定されている。日本の規定とは異なっており、意匠登録を受ける権利を有する者の行為に基づいた公開に対しては、例外規定は適用されない。ただし、公式博覧会での展示に関しては、開催後6ヵ月以内に出願することを条件として、新規性喪失の例外を主張することが可能であるが、その場合は開示情報を含めた陳述書の提出が必要である。

  • 2015.11.20

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本と香港における特許分割出願に関する時期的要件の比較

    日本においては、所定の期間、特許出願について分割出願を行うことができる。香港における標準特許出願は、香港特許庁に直接出願するものでなく、指定特許庁に出願された特許出願(指定特許出願)に基づき香港特許庁へ記録請求手続きをするものである。したがって、香港の標準特許出願については直接分割出願を行うことはできないが、標準特許出願に対応する指定特許出願が指定特許庁で分割された場合に、所定の期間、その分割された指定特許出願を香港特許庁に記録請求することができる。

  • 2015.11.20

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    日本と香港における特許出願書類の比較

     主に日本で出願された特許出願を前提として、香港にて特許を取得する際に必要となる出願書類についてまとめた。香港における標準特許出願は、香港特許庁に直接出願するものでなく、指定特許庁に出願された特許出願(指定特許出願)に基づき香港特許庁へ記録請求手続きをするものである。香港の標準特許出願について日本の特許出願から直接、優先権主張をともなう特許出願を行うことはできないが、指定特許出願に基づき香港知的財産局に記録請求することができる。

  • 2015.11.20

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    日本と香港の意匠出願における実体審査制度の有無に関する比較

    日本における意匠出願の審査では、意匠登録のために方式審査と実体審査が行われる。一方、香港における意匠登録のためには、方式審査のみが行われる。

  • 2015.11.13

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    日本とベトナムにおける特許分割出願に関する時期的要件の比較

    (本記事は、2024/1/16に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/38063/

    日本およびベトナムにおいては、それぞれ所定の期間、特許出願について分割出願を行うことができる。ベトナムにおいては、拒絶査定または特許査定の発行日より前であればいつでも分割出願を行うことができる。

  • 2015.11.13

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠

    日本とベトナムにおける意匠の新規性喪失の例外に関する比較

    ベトナムにおける新規性喪失の例外規定は非常に限定的であり、日本のような活用は難しい。意匠の公開日から6ヶ月以内に出願する期間要件は同じであるが、当該例外規定の要件として、学術的発表形態またはベトナム国内博覧会または公式もしくは公認の国際博覧会での展示行為に限定されている。