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■ 全173件中、91100件目を表示しています。

  • 2017.08.24

    • アジア
    • 出願実務
    • 商標

    中国における登録商標の存続期間の更新申請

    (2021年4月13日訂正:
    本記事のソースにおいて「中国商標局ウェブサイト」のURLを記載しておりましたが、リンク切れとなっていたため、URLを修正いたしました。 )

    中国では、登録商標の存続期間は商標の登録日から10年間で、10年ごとに更新することが可能である。存続期間満了を迎える登録商標を継続して使用したい場合は、存続期間の更新申請手続きを行わなければならない。

  • 2017.07.11

    • 欧州
    • 統計
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    ロシアにおける特許取得-ユーラシア特許制度

    「模倣対策マニュアル ロシア編」(2016年3月、日本貿易振興機構)第1章第1節(2)では、ユーラシア特許制度に基づくロシアにおける特許取得について、ユーラシア特許制度の特徴、出願人適格および特許要件、出願から特許付与までの手続の流れ、審判請求と行政無効手続、手数料、公告等が説明されている。

  • 2016.06.30

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 制度動向
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案

    ペルーにおける特許審査スピードアップのための実務上のヒント

    ペルーにおいて特許の認可を迅速化するためには、明細書、クレーム等のドラフティングに留意すべきである。特許協力条約(PCT)の国内移行手続経由で出願された特許発明には、すべての方式上の文書(すなわち、委任状、発明譲渡証など)を提出するのが得策である。審査官との面接は、技術報告書における当該審査官の所見を明確にするために行うことが認められる。

    本稿では、ペルーにおける特許審査スピードアップのための実務上のヒントについて、Fernández-Dávila & Bueno Abogadoの弁護士Ivette Luque Cárdenas氏が解説している。

  • 2016.06.30

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • その他参考情報
    • 意匠
    • その他

    チリにおける意匠制度の概要

    本論においては、産業財産法によって保護されうる意匠特許について要約して説明する。またチリにおける意匠特許規則の現状を紹介し、特許意匠規則に関して新たな産業意匠法に盛り込まれる可能性がある改正点について説明する。

    本稿では、チリ意匠制度概要について、Mackenna, Irarrázaval, Cuchacovich & Paz の弁護士Rodrigo Marré Grez氏、Virgilio Topasio Maluk氏が解説している。

  • 2016.06.02

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    ペルーにおける特許法の概要

     ペルーでは、アンデス共同体内の共通法規である「アンデス共同体委員会決議第486号」(以下、決議第486号、と記載)が、ペルー国内の知的財産制度に適用されている。また、「工業所有権の共通制度を制定するアンデス共同体委員会決議486の補足規定を承認する法定命令第1075号」が、決議486号の補足規定として制定されている。
     以下、ペルーにおける特許法および特許審査の概要に関して説明する。

  • 2016.05.31

    • アジア
    • 出願実務
    • 審判・訴訟実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    インドにおける特許出願の補正の制限

    (本記事は、2023/1/26に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/27695/

    インドにおいて、特許出願書類の補正は、自発的な補正と非自発的な補正の2つに分類することができる。この2種の補正は特許出願後から特許が有効である間いつでも行うことができる。本稿では、インドにおける補正の制限について考察する。

  • 2016.05.25

    • 中南米
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    チリにおける特許法の概要

    (本記事は、2023/10/17に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/37508/

    チリでは、特許出願がなされると、方式審査、実体審査を経て、新規性、進歩性、及び産業上利用可能性を有する発明に特許権が付与される。チリへの特許出願に際しては、スペイン語の明細書が必要である。
    以下、チリにおける特許法の概要について説明する。

  • 2016.05.24

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    インドネシアにおける特許の分割出願に関する留意点

    (本記事は、2019/9/3に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/17667/

    インドネシアにおいて特許の分割出願を行う場合の留意点を説明する。また、インドネシアにおける特許出願戦略の一環として分割出願を利用する方法を紹介する。

  • 2016.05.18

    • 中南米
    • 出願実務
    • 特許・実用新案

    ブラジルにおけるパリルート出願とPCTルート出願の手続きの相違点

    ブラジルへ特許出願を行う際、パリ優先権を主張して出願する方法(以下、「パリルート出願」という)、PCT出願の国内段階への移行によってブラジルに出願する方法(以下、「PCTルート出願」という)がある。パリルート出願とPCTルート出願の手続き上の相違点を説明する。

  • 2016.05.13

    • 中南米
    • 出願実務
    • アーカイブ
    • 特許・実用新案

    メキシコにおける特許の補正の制限

    (本記事は、2023/5/13に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/33989/

    メキシコ特許および特許出願の補正は、出願人が自発的に、またはメキシコ産業財産庁(Instituto Mexicano de la Propiedad Industrial:IMPI)からの庁指令に応じて行うことのできる手続である。補正は、手続きの時期によって、PCT国内移行の提出時の内容変更、特許付与前および特許付与後補正に分けられ、適用される内容的な制限もそれぞれ異なる。