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  • 2019.07.16

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    ラオスにおける特許出願制度概要

    ラオスにおける特許出願の手続は主に、出願、方式審査、出願公開、実体審査請求または外国審査結果の提出、登録の順に進行する。特許の存続期間は、ラオスにおける出願日から20年である。不特許事由を有する特許出願は、拒絶されるか、または、特許発明の実施が制限される。

  • 2019.07.16

    • アジア
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    • 特許・実用新案
    ラオスにおける実用新案（小特許）制度概要

    ラオスにおける実用新案（小特許）出願の手続は主に、出願、方式審査、出願公開、実体審査請求または外国審査結果の提出、そして登録の順に進行する。小特許の存続期間は、ラオスにおける出願日から10年である。不特許事由を有する小特許出願は、拒絶されるか、または実施が制限される。

  • 2019.07.16

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠
    ラオスにおける意匠出願制度概要

    ラオスにおける意匠出願の手続は主に、出願、方式審査、出願公開、実体審査、登録の順に進行する。また、意匠権の存続期間は、ラオスにおける出願日から15年である。優先期間は最先の優先日から6月である。不登録事由を有する意匠は登録が受けられない。国際分類の単一クラスにある複数の意匠は、多意匠出願制度が利用可能である。

  • 2019.07.11

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    • 特許・実用新案
    カンボジアにおける実用新案出願制度概要

    カンボジアにおける実用新案出願の手続は主に、出願、方式審査、実体審査請求または外国審査結果の提出、実体審査、登録の順に進行する。実用新案権の存続期間は、カンボジアにおける出願日から7年である。工業手工芸省（MIH：Ministry of Industry and Handicrafts）の工業財産局（DIP: Department of Industrial Property）は、特許、実用新案証および意匠に関する法律（以下、「特許法」という。）に従い、特許、実用新案および意匠を含むすべての産業財産関連事項を担当する。

  • 2019.07.11

    • アジア
    • 統計
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    韓国の知的財産権関連統計へのアクセス方法―取締関係

    韓国の知的財産権に係る取締関係の統計において、模倣品に対する取締関係の統計は韓国の国政モニタリング指標ウェブサイトで閲覧することができる。また、不法複製物に対する取締関係の統計は韓国の韓国著作権委員会ウェブサイトで閲覧することができる。

  • 2019.07.11

    • アジア
    • 統計
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    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    韓国における知財訴訟関連の統計情報のアクセス方法（韓国の法院ウェブサイト）

    韓国の知的財産訴訟関連の統計情報は、韓国の法院ウェブサイトで閲覧することができる。

  • 2019.07.09

    • アジア
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    • 特許・実用新案
    カンボジアにおける特許出願制度概要

    カンボジアにおける特許出願の手続は主に、出願、方式審査、実体審査請求または外国審査結果の提出、実体審査、登録の順に進行する。特許権の存続期間は、カンボジアにおける出願日から20年である。工業手工芸省（MIH：Ministry of Industry and Handicrafts）の工業財産局（DIP: Department of Industrial Property）は、特許、実用新案証および意匠に関する法律（以下、「特許法」という。）に従い、特許、実用新案および意匠を含むすべての産業財産関連事項を担当する。

  • 2019.07.09

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    • 商標
    インドにおける商標出願制度概要

    インドにおける商標出願制度での出願人の要件、所轄庁、商標の種類、商標出願の種類、出願に必要な書類、出願の流れ、審査、審判等を紹介する。インドの商標権の存続期間は出願日から10年であり、更新手数料を納付することにより、10年ごとに半永久的に延長できる。更新手続は、存続期間が満了する前の1年間に行うことができる。商標登録が抹消されても存続期間満了後1年間は回復できるが、満了後1年以上経過すると回復できなくなる。
    (2020年2月6日訂正：
    本記事の概要欄において当初「インドの商標権の存続期間は登録日から10年」と記載しておりましたが、正しくは「インドの商標権の存続期間は出願日から10年」でした。お詫びして訂正いたします。なお、記事本文における「●商標権の存続期間」に訂正箇所はございません。)

  • 2019.07.09

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    • 商標
    インドネシアにおける商標出願制度概要

    インドネシアにおける商標出願手続は、主に出願、方式審査、出願公告、実体審査、登録の手順で進められる。商標権の存続期間は出願日から10年であり、10年ごとに何度でも更新可能である。インドネシアにおける商標出願制度は、2016年11月の法改正により、非伝統的商標の保護が可能になり、公告時期が実体審査前になる等、従前からは大きく変貌している。

  • 2019.07.04

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    • 商標
    香港における商標出願制度概要

    香港における商標登録出願審査は、主に出願の提出、出願書類の不備審査（方式審査）、実体審査、公告、登録の手順で進められる。権利が登録になった場合、存続期間は、出願日から10年で、更新することができる。