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2022.09.20
中国におけるインターネット法院の現状と知財案件動向について「中国インターネット法院の現状と知財案件動向調査」（2021年3月、日本貿易振興機構 広州事務所）では、中国における知財司法保護状況、インターネット法院の概要、インターネット法院とその他の機関との連携などについて紹介している。また、インターネット法院における実務の解説、インターネット法院における判決の紹介を通して、訴訟の方向性や日系企業の運用状況と注意点などを提示している。
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2022.09.20
インドにおける特許データベースについて「インド特許意匠商標総局が提供する産業財産権データベースの調査報告」（2021年10月、日本貿易振興機構 ニューデリー事務所（知的財産権部））では、インドの特許データベースの概要、検索の操作手順、Official Journal（公報）の入手手順を説明している。また、データベースに収録されている情報から出願件数、技術分野別ランキング、処理期間の統計情報、テキスト情報の収録状況などを紹介している。さらに、ホームページ上の有用な情報（Dynamic Utilities）について説明している。
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2022.08.25
タイにおける模倣品流通動向調査「タイにおける模倣品流通動向調査」（2022年3月、日本貿易振興機構バンコク事務所（知的財産部））では、タイ市場における模倣品の実態、模倣品の流通に影響を与える要因、タイ人消費者の侵害品に対する意識に関するアンケートの調査結果を紹介している。
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2022.08.25
ベトナムにおける知的財産に関する下位法令等について「ベトナムにおける知的財産に関する下位法令等の調査」（2021年3月、日本貿易振興機構 バンコク事務所（知的財産部））では、ベトナムにおける法体系、知的財産に関する法律および下位法令ならびに4件の判例を紹介している。
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2022.08.23
タイにおける模倣対策マニュアル「タイ模倣対策マニュアル」（2022年3月、日本貿易振興機構バンコク事務所（知的財産権部））では、タイにおける権利取得、管轄機関、エンフォースメント（救済手段）、政府の模倣品対策、模倣品に対する企業の対策事例、オンライン上での模倣品対策等について解説している。また、参考資料として、特許、小特許（実用新案）、意匠および商標の、出願書から登録証までの12種類の書類を紹介している。
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2022.08.23
シンガポールにおける職務発明・発明報奨制度について「シンガポール及びマレーシアにおける職務発明・発明報奨制度に関する調査報告書」（2022年3月、日本貿易振興機構シンガポール事務所知的財産部）の第2章 職務発明・発明報奨制度の概要 1.シンガポールでは、シンガポールにおける職務発明および職務報奨制度について、特許権、意匠権および著作権の関連規定ならびに判例を解説している。また、ヒアリングおよびアンケート調査を行い、実務的な情報を取集した結果を紹介している。
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2022.08.02
フィリピンにおける商標制度のまとめ－手続編（2024年6月10日訂正：
本記事の第5-3項の「関連情報」のURLおよびソース「知的財産に関する事件の手続規則（2020年改正）」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。）フィリピンの商標制度は、フィリピン知的財産法（2013年法律第10372号により改正された法律第8293号2013年3月4日施行2015年版）、フィリピン知的財産施行規則（特許・実用新案・意匠に関する施行規則2017年8月1日施行）、フィリピン商標規則（商標、サービスマーク、商号およびマーキングされた容器に関する規則2017年7月7日版）によって規定されている。
本稿では、フィリピンにおける商標制度の手続面について紹介する。 -
2022.07.28
ブルネイにおける主な知的財産関連サイトのリンク情報（その１）ブルネイの主な知的財産関連サイトであるブルネイ知的財産庁に関する情報について、掲載されているリンク情報を一覧にして示した。
なお、日本貿易振興機構（JETRO）のブルネイの知的財産に関する情報については、（その２）を参照されたい。
その２：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/link/24181/ -
2022.07.28
ブルネイにおける主な知的財産関連サイトのリンク情報（その２）ブルネイの主な知的財産関連サイトである日本貿易振興機構（JETRO）のブルネイの知的財産に関する情報について、掲載されているリンク情報を一覧にして示した。
なお、ブルネイ知的財産庁に関する情報については、（その１）を参照されたい。
その１：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/link/24176/ -
2022.07.26
台湾における特許出願制度概要特許出願（中国語「發明專利申請」）手続は、一般的に、方式審査、出願公開、審査請求、実体審査、特許査定、公告の順で進められる。
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