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2020.08.13
香港における商標の判例の調べ方香港では、商標に関する上級審だけでなく、下級審の判決も全て検索可能である。特許や意匠に関する判例と同様に香港特別行政区司法機構のウェブサイトで検索することができる。
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2020.08.13
香港における商標出願・登録に関する統計情報へのアクセス方法香港における商標出願・登録に関する統計情報は、香港知識産権署ウェブサイト（https://www.ipd.gov.hk/sc/home.htm）において確認することが可能である。該当ページにアクセスすると、商標出願件数（国・地域別分布）、商標登録件数（国・地域別分布）をPDF形式で入手することができる。
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2020.08.11
ベトナムにおける特許および実用新案登録を受けることができる発明とできない発明ベトナムでは、知的財産法（以下「知財法」）の第4条第12項において、「発明」とは、自然法則を利用して特定の課題を解決するための、製品または方法の態様に基づく技術的解決手段であると規定している。さらに、知財法第58条に一般的特許要件、そして知財法第59条に特許を受けることのできない発明を規定している。
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2020.08.11
台湾における専利法の一部改正台湾専利法（日本の特許法、実用新案法、意匠法に相当）は、1949年に施行されて以来、業界の要求、国際規範との調和などに応じて、13回の改正がなされた。
2019年11月1日に最新の改正法が施行された。主な改正点5点について旧法（2017年1月18日に改正された専利法）と比較し解説する。 -
2020.08.11
台湾における画像意匠の保護制度台湾における画像意匠の制度は、2013年1月1日に施行された改正専利法（特許法、実用新案法および意匠法を含む）で初めて導入された。同法第121条2項の「物品に応用されるコンピューターアイコン（Icons）およびグラフィカルユーザインターフェイス（Graphical User Interface：GUI）も本法により意匠登録出願をすることができる」との規定により、電子機器やコンピューター、通信機器などの使用と操作に用いられるコンピューターアイコンまたはグラフィカルユーザインターフェイスの意匠の登録出願、すなわち「画像意匠登録出願」をすることが可能となった。
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2020.08.06
中国の外商投資法制定における知的財産の保護に関する事項の紹介中国において、2020年1月1日から「外商投資法」が施行された。「外商投資法」第3章（投資の保護）において、中国企業、外国企業が高い関心を持つ知的財産権の保護に関する規定が設けられており、その保護のレベルがより高まると考えられる。本稿では、知的財産権の保護に関する事項について説明する。
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2020.08.06
OEMにおける中国商標の取り扱いOEM（Original Equipment Manufacture）における中国商標に関して、最高人民法院の「PRETUL」判決（（2014）最高法民提字第38号）および「東風」判決（（2016）最高法民再339号）の後は、中国内でOEM生産された製品に第三者の中国商標権に係る同一または類似の商標が付されたとしても、当該製品が中国内で流通しない場合には商標権侵害が成立しないと考えられていた。しかしながら、2019年9月23日、HONDA商標に関して最高人民法院から再審の判決（（2019）最高法民再138号）が出され、その考えが覆されることになった。本稿ではこの最新判例を紹介しつつ、OEM生産における中国商標の取り扱いについて説明する。
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2020.08.06
中国の技術輸出入管理条例の改正中国の国務院は2019年3月18日、「技術輸出入管理条例」の一部の条項を改正した。この改正は、技術の譲渡側である外国権利者の責務を軽減して、外国権利者が中国企業へ技術をライセンスまたは譲渡する意欲を向上させる効果があると考えられる。本稿では改正の具体的な内容およびその留意点を解説する。
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2020.08.04
中国における専利審査指南の改正（後編）中国において2019年9月23日に改正された「専利審査指南」は、2019年11月1日から実施され、2019年11月1日（当日を含む）以降に受理された新たな専利出願および審査段階にある案件に適用される。本稿では前編、後編に分けて今回の指南の改正の背景、改正内容、および出願人に対する影響について解説を行う。
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2020.08.04
中国における専利出願集中管理弁法（試行）中国において、「専利出願集中審査管理弁法（試行）」が、2019年8月30日から実施された。本稿では本弁法の起草の背景・目的、主要な内容、および実務について解説する。
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