-
2020.09.01
タイにおける商標制度のまとめ－手続編タイにおける商標制度の運用について、その手続き面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
-
2020.09.01
インドにおける特許制度のまとめ－手続編インドにおける特許制度運用について、その手続面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。
-
2020.08.27
カンボジアにおける特許および実用新案登録を受けることができる発明とできない発明カンボジアでは、産業手工芸省（the Ministry of Industry and Handicraft：MIH）に特許または実用新案登録出願を行うことで、特許または実用新案を保護することができる。特許・実用新案・意匠法（以下、「特許法」という）第3条により、発明は新規で、進歩性をともない、産業用途に用いられる場合に特許可能である、と規定される。また、特許法第69条により、新規であり、何らかの産業上利用可能な考案は実用新案証を受けることができる、と規定される。
-
2020.08.25
中国において専利権を受けることができる客体とできない客体中国専利法の第2条、第5条および第25条には、専利権（日本の特許権、実用新案権、意匠権に対応する権利を含む）の付与対象である客体について規定されている。専利法第2条では、専利権を受けることができる客体について概括的に規定されており、専利法第5条、第25条では、専利権を受けることができない客体が列挙されている。また、第20条には「専利権を付与しない」場合が規定されている。本稿では、上記条文について解説する。
-
2020.08.25
中国における画像意匠の保護制度（本記事は、2025/1/7に更新しています。）
URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/40409/中国における画像意匠の保護制度について、平面パターンとグラフィカルユーザインターフェース（GUI）に分けて解説する。
平面パターンは中国専利法第2条の規定に基づき意匠専利として申請できる。また、2019年11月1日に改正が施行された『専利審査指南』において、第1部分第3章に「4.4 グラフィカルユーザインタ-フェースに係る製品意匠」という節が新たに設けられた。 -
2020.08.20
韓国における特許および実用新案登録を受けることができない発明韓国では、特許法第32条にて特許を受けることができない発明として“公共の秩序または善良な風俗に反し公衆の衛生を害するおそれがある発明”は第29条第1項柱書き（特許要件、産業上の利用可能性）の要件を満たしていても特許を受けることができないと定められている。
また、実用新案においては特許と同様に公序良俗に反する考案、国旗・勲章と同一または類似する考案、方法に関する考案は、実用新案法第4条第1項の要件を満たしていても登録を受けることができない。 -
2020.08.20
香港における特許を受けることができる発明とできない発明香港では、存続期間が20年の標準特許および8年の短期特許がある。2019年12月19日から改正特許条例が施行されており、特許審査ガイドにも定めがある。本稿では、香港における特許を受けることができる発明とできない発明について、特許条例および特許審査ガイドに基づいて説明する。
-
2020.08.18
タイにおける特許法改正に向けた動きタイの特許法に関しては、近年中に大規模な改正が予定されており、2018年初頭には、改正案が公開され、当該改正案が意見公募に付された経緯がある。
当該改正案は未だ法律として成立していないが、2019年初頭に、特に「伝統的知識」や「遺伝資源」に関する国際的な問題に対応するため、当該改正案に沿った改正を進めていく旨の声明が改めてタイ政府から発表された。
この改正案および声明の内容は、主に出願人・権利者の利便を図り、国際的な特許法の潮流に沿うものとなっている。 -
2020.08.18
韓国での特許出願における優先権主張の手続（外国優先権）韓国での特許出願について条約による優先権主張をする場合には、韓国で特許出願と同時に出願書に趣旨等を記載しなければならない。優先権証明書類は優先日から1年4か月以内に提出しなければならない。適法に優先権を主張する特許出願については、該優先権の基礎となる出願の発明と同一の発明に対する特許要件（特許法第29条および第36条）等の適用において、該特許出願の出願日は、該優先権の基礎となる出願の出願日（優先日）に遡及される。優先権主張が適法でない場合、その特許出願については優先権主張を伴わない通常の出願として審査する。
-
2020.08.13
香港における特許（標準特許）および実用新案（短期特許）の出願・登録に関する統計情報へのアクセス方法香港における特許（標準特許）および実用新案（短期特許）の出願・登録に関する統計情報は、香港知識産権署ウェブサイト（https://www.ipd.gov.hk/sc/home.htm）において確認することが可能である。香港には標準特許と短期特許という2種類の特許があり、後者は日本の実用新案に相当する。当該ページにアクセスすると、当該2種類の特許の出願・登録に関する統計データをPDF形式で入手することができる。
新着情報
ホーム
新着情報