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  • 2016.04.27

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    エジプトにおける遺伝資源の利用と特許制度

    「各国における遺伝資源の利用と特許制度に関する調査研究報告書」(平成28年2月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅰ部16.では、エジプトでの特許出願における遺伝資源の出所開示義務を含む、遺伝資源の利用と特許制度の関係等について説明されている。

  • 2016.04.27

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    南アフリカにおける遺伝資源の利用と特許制度

    「各国における遺伝資源の利用と特許制度に関する調査研究報告書」(平成28年2月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅰ部17.では、南アフリカにおける名古屋議定書の実施状況に関して、遺伝資源を利用した発明の特許出願許可申請制度を含む、遺伝資源の利用と特許制度の関係等について説明されている。

  • 2016.04.21

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    南アフリカにおける特許分割出願に関する留意点

    南アフリカでは、出願が特許庁に提出された後、当該親出願の認可(acceptance)前であれば、新たな出願(「分割出願」)を提出することができる。また、南アフリカ最高裁判所の最近の判決(「Pharma事件」)において、特許の分割出願および分割出願で許容されるクレームの範囲について明確な指針を与えている。

  • 2016.04.15

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    南アフリカ商標制度概要

    南アフリカの商標法は、1993年法律第194号の商標法、施行規則およびコモンローにより規定されている。南アフリカでは、指定する分類ごとに別々の出願をする必要があり、絶対的拒絶理由および相対的拒絶理由の双方について審査される。審査後、異議申立の為に公告され、異議が無ければ登録証発行となる。商標出願が登録へ進むまでには、約24ヵ月を要している。

  • 2016.04.14

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    南アフリカにおける特許権の早期取得、早期審査、審査の迅速化の秘訣

    現在の実務では、通常、南アフリカ特許出願は、方式(文書)要件さえ満たされていれば、9~12ヶ月で特許査定を受ける。その後、2~3ヶ月で特許が登録される。ただし、特許証の発行には大幅な遅延が生じている。政府は数年以内に実体審査を導入する意向を示しているが、現在のところ南アフリカでは特許出願の実体審査は行われていない。

     通常よりも短い時間で特許付与を受ける方法として、早期許可申請(request for early acceptance)を提出し、かつ、早期段階で方式(文書)要件を満たすことが考えられる。PCT出願であれば、早期の国内段階移行手続(early entry into the national phase)をすることが考えられる。

    本稿では、南アフリカにおける特許権の早期取得、早期審査、審査の迅速化の秘訣について、Adams & Adams Attorneys, Pretoria Office の弁護士Louis van der Walt氏が解説している。

  • 2016.04.12

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    南アフリカにおける商標異議申立制度

    南アフリカにおける商標異議申立制度は、1993年法律第194号の商標法第21条および商標規則第19条に規定されている。商標出願が登録官によって認可された後に、公報に出願公告され、公告日から3ヵ月以内に異議申立が可能である。直接の利害関係人であれば誰でも、異議申立を提起することができる。

  • 2016.04.08

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    南アフリカにおけるTMマークおよびRマーク「Ⓡ」の使用

    商標の所有者は、常に自己の商標権を保護し強化する必要があるが、南アフリカでは、商標であることを示すRマーク「Ⓡ」やTMマークを使用することは、法的に要求されていない。ただし、商標が既に登録されていることを示すRマーク「Ⓡ」、または未登録でも商標として使用されていることを示すTMマークを使用することは、公衆への認知、さらには模倣に対する抑止効果として望ましい。

  • 2016.04.06

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    ケニアにおける模倣品に対する知的財産保護制度と機関

    「ケニアにおける模倣品流通に関する調査」(2012年3月、日本貿易振興機構)1~7では、ケニアにおける模倣品に対する知的財産保護制度と機関について、ケニアや周辺地域の経済状況、ケニアにおける知的財産権および模倣品問題、ケニアで保護される知的財産権の種類、模倣品取締法に基づく模倣の定義(侵害の種類と形態)、ケニアにおける知的財産法よび政府の政策、知的財産権に関する政府の保護機関およびエンフォースメント機関等が紹介されている。

  • 2016.04.05

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    エジプトにおける先使用権制度

    「先使用権制度に関する調査研究報告書」(平成23年3月、日本国際知的財産保護協会)Ⅲ-3-「1」では、エジプトにおける先使用権制度について、先使用権制度の有無と条文規則、先使用権の成立要件、基準日、先使用権の対象となる行為、実施と新規性の関係、先使用権者が実施できる範囲、先使用権の移転に関わる問題等が、Q&A形式で説明されている。

  • 2016.04.05

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    ケニアにおける模倣品流通の実態とその対策

    「ケニアにおける模倣品流通に関する調査」(2012年3月、日本貿易振興機構)8~12では、ケニアにおける模倣品流通の実態とその対策について、模倣品流通の概況、模倣品の製造国・流入流通経路、模倣品に対する現行措置(市場や国境税関での措置、民法および刑法による措置および法的手続等)等について説明されているとともに、ケニアにおける模倣品対策にかかる現行および今後の課題等についても紹介されている。