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2012.07.30
(中国)開放形式の記載(例:「~を含む」)と閉鎖形式の記載(例:「~からなる」)の取り違えが誤訳となり得ることを示す例他の要素を含まない閉鎖形式の記載(中国語の例:「由・・・組成」等)と他の要素を含む開放形式の記載(中国語の例:「含有・・・」、「具有・・・」等)を取り違えた誤訳が行われると、クレームの範囲が不必要に狭くなることになる。また、このような誤訳(開放形式の表現を閉鎖形式の表現に誤訳したこと)が発生した後、出願当初明細書中の記載から疑義なく開放形式の記載が導き出せない場合、補正により対応することも難しい。このようなクレームの範囲に影響を与える記載の翻訳については、特に注意が必要である。
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2012.07.30
(中国)単数冠詞の翻訳について英語には冠詞が存在し、単数冠詞「a」を直訳することで、中国語のクレームが必要以上に狭くなることがあり得る。日本語から英語等を介して翻訳する場合にも冠詞には注意する必要があり、単数冠詞をそのまま翻訳することにより、必要以上にクレームが限定されないよう留意する必要がある。
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2012.07.30
(中国)「enclosure」のようないくつかの訳語が考えられる用語を含む技術文献の翻訳に際し、原文の技術的理解が不十分であったと考えられる事例ATMに関する技術文献における「enclosure」を、利用者が入る囲いと考えて、中国語で「亭子」と翻訳することも考えられるが、文献全体からその技術的意味を考えると、この囲いがATMの保守をする者のみが入ることのできるセキュリティ確保のための箱であるような場合には、この「enclosure」に対する訳語としては中国語で「封閉体」又は「外殻」が妥当である。技術文献を翻訳する際には、その文章の技術的意味を良く考えて翻訳するべきである。
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2012.07.30
日中知財ライセンス契約実務対訳用語集(2024年6月10日訂正:
本記事のソース「知っておきたい特許契約の基礎知識」の名称およびURLを修正いたしました。また、「中国ライセンスマニュアル」(2023年版)のURLを追記いたしました。)(2022年5月13日訂正:
本記事のソース「中国ライセンスマニュアル」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。なお、2019年のマニュアルも併記しました。)日中間で知財ライセンス契約等に良く用いられる用語の対訳を示す。用語の対訳を示しているが、訳語は必ずしもここで挙げたものに限られないこと、日中間でも用語は必ずしも一対一で対応していないことに注意を要する。
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2012.07.30
中国における知財侵害刑事訴訟制度概要知財犯罪に該当する場合は、法により刑事責任が追及される(刑法第213条~220条)。情状が軽微である知財犯罪で被害者が犯罪の証拠を持っている場合は、被害者は直接裁判所へ自訴を提起することができる。社会秩序と国家利益に深刻な危害を与える知財犯罪は、検察院により公訴が提起される。裁判所は立件した後、合議廷を設置して開廷審理を行う。
裁判所の一審判決に不服がある場合、被告人と自訴事件の自訴人は、上訴期間以内に上級裁判所に上訴を提出することができ、検察院は、控訴期間以内に上級裁判所に控訴を提出することができる。また、控訴事件の被害者は、検察院に控訴を請求することができる。二審終審制である。 -
2012.07.30
中国知財侵害の民事訴訟制度概要(本記事は、2017/7/27に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/13942/知財権侵害行為に対し、権利者又は利害関係者は裁判所(中国語「人民法院」)に提訴することができる。裁判所は提訴事件を受けた後、7日以内に立件するか否かを決定する。立件した後、合議廷を設置して開廷審理を行なうが、開廷審理を経て、和解が成立しない場合、判決を言い渡して審理を終結する。
裁判所の一審判決に不服がある場合、上訴期間以内に上級裁判所に上訴を提出することができる。二審終審制である。
なお、渉外民事訴訟の場合、管轄、期限などの各方面で特別な規定があり、注意が必要である。 -
2012.07.30
中国における不服系行政訴訟制度概要(本記事は、2022/2/10に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/22297/中国における不服系行政訴訟の流れ
中国特許庁などの行政機関からの決定または審決に不服の場合、その通知を受領した日から3ヶ月以内に裁判所に提訴することができる。
裁判所は提訴後7日以内に当該提訴を受理するか(立件)するか否かを決定する(行政訴訟法第42条)。立件した後、開廷審理を経て、審理を終結した後、判決を言渡す。
裁判所の一審判決に不服がある場合、上訴期間以内に上級裁判所に上訴を提出することができる(行政訴訟法第58条)。二審終審制である。
専利(特許、実用新案、意匠)及び商標に関する審決不服訴訟の第一審は北京市第一中級人民法院であり、第二審は北京市高級人民法院である。 -
2012.07.30
中国における実用新案出願制度概要(本記事は、2021/11/30に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/21210/中国実用新案出願の流れ
実用新案の出願手続きは、主に、(i)出願、(ii)方式審査、(iii)登録・公告の手順で進められる。実体審査は行われず、登録後の無効請求により対応される。実用新案特許権の存続期間は出願日から10年。 -
2012.07.30
韓国の知的財産関連機関・サイト(本記事は、2020/6/2に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/link/18615/韓国の知的財産と関連する公的機関について、各機関の説明とサイトのURLを示す。知的財産に関する各種情報や法律・規則・ガイドラインに関する情報を入手することができる。
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2012.07.30
中国における商標出願制度概要(本記事は、2020/4/16に更新しています。)
URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18449/中国における商標出願の流れ
出願は、国家工商行政管理局に属する商標局に対して行い、出願手続きは、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)実体審査、(4)出願公告、(5)登録公告の手順で進められる。存続期間は登録日から10年であり、10年毎に何度でも更新可能である。