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2013.04.05

• アジア
• 審判・訴訟実務
• 審決例・判例
• 特許・実用新案

大法院は、特許発明が公知公用の既存の技術と周知慣用技術を収集・総合して成り立った場合、これを総合するのに格別な困難性があるか、若しくはこれによる作用効果が予測される効果以上の新しい相乗効果があると見られる場合でなければ、その発明の進歩性は認められないと判示した。また、ある周知慣用技術が、訴訟上の公知又は明らかな事実であると思われる程一般に知られていない場合に、その周知慣用の技術は審決取消訴訟においては証明を必要とするが、法院は自由な心証により証拠などの記録に示された資料を通じて周知慣用技術を認めることができると判示した。本件は、原審判決を支持し、上告を棄却した事例である。

2013.04.05

• アジア
• 審決例・判例
• 意匠

意匠権が付与された意匠の類否判断は、出願時提出の図面又は写真に表示された意匠が基準となる。本件では、新規性がないとして無効決定を受けた権利者が、審決取消訴訟において、本件に係る意匠の実施品の写真を提出し、その写真の意匠と引用公知意匠を比較して非類似を主張したが、このような類否判断手法は法的根拠を欠くと否定され、やはり本件意匠と引用意匠を比較しても類似であると判断し、特許庁審判部の無効決定を支持した事案である。

2013.04.04

• アジア
• 審判・訴訟実務
• 審決例・判例
• 特許・実用新案

本件において、中国専利覆審委員会（日本の「審判部」に相当。以下、「審判部」という）合議体は、当業者は証拠1に記載された発明を基に、証拠2及び3に開示された本技術分野の技術常識を組合せて、請求項1に記載された低原子価マンガン酸化物をMn3O4に置替えるのは、実践に基き確定できる自明のものである、として、本件特許権の全てを無効とした。

2013.04.04

• アジア
• 審判・訴訟実務
• 特許・実用新案
• 意匠

特許・意匠出願の査定後、専利法に違反した事由があると認めた場合、台湾特許庁は職権により審査を行い、当該特許査定/登録査定に誤りがなかったか否かを再確認する（旧専利法第67条）。詳細は以下の通りである。なお、この制度は2013年1月1日に施行された改正専利法において廃止され、2012年12月31日までに査定された出願に対して、この職権による取消制度が適用される。

2013.04.02

• アジア
• 出願実務
• 意匠

（本記事は、2020/4/30に更新しています。）
　URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18534/

韓国では一部物品に対して無審査制度を採用しており、これら意匠無審査物品については20個以内の意匠を1出願書で出願することができる。

2013.04.02

• アジア
• 審判・訴訟実務
• 審決例・判例
• 特許・実用新案

中国専利覆審委員会（日本の「審判部」に相当。以下、「審判部」という）合議体は、引用文献には、「CMOS撮像デバイスがブラケットを介して吊るされる。」ことが開示されているが、CMOS撮像デバイスを吊るして配置する目的は、その配置スペース問題を解決するためである。また配置位置は任意であり、本実用新案が挙げる光路遮断問題を解決するものではなく、CMOS撮像デバイスを「斜め上方」に配置する技術的示唆もない。さらに「斜め上方」の特定の撮影目的のために、CMOS撮像デバイスを短焦点広角レンズに置換することも開示されていないため、審判請求の理由は成立しないとして、本実用新案権の全てを維持した。

2013.03.29

• アジア
• 出願実務
• 特許・実用新案
• 意匠

中国大陸に常時居住地又は営業所のない外国人、外国企業又は外国のその他の組織が中国で専利（特許、実用新案、意匠）出願及びその他の専利事務手続きを取り扱う場合等には、法により設立された専利代理機構（パートナ形式又は有限責任公司形式）に委任しなければならない。

2013.03.29

• アジア
• 審判・訴訟実務
• 特許・実用新案
• 意匠
• 商標

（本記事は、2020/11/10に更新しています。）
　URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/judgment/19555/

特許・実用新案、意匠、商標等の産業財産権の紛争があるとき、裁判や審判を通して解決しようとすれば、多くの費用と時間が消耗される。しかし、紛争調停制度を活用すれば少ない費用（申請自体は無料。代理人依頼時には代理人費用は必要。）と短い時間（3ヶ月以内）に紛争を解決することができる。産業財産権紛争調停制度による調停が成立した場合、確定判決と同一の効果をもつことになる。

2013.03.26

• アジア
• 出願実務
• ライセンス・活用
• 商標

台湾商標法は、共有制度に関する規定として第7条、第28条、第46条を設け、商標登録を受ける権利及び商標権の共有について明文化している。

2013.03.26

• アジア
• 出願実務
• ライセンス・活用
• 特許・実用新案

（本記事は、2020/4/28に更新しています。）
　URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18528/

実用新案は、特許と比べると登録期間が短く、権利の安定性も低いものの、実体審査が行われず登録までの期間が短い点、進歩性基準が特許より低い点等の特徴を有することから、中国では、技術開発能力が高くない企業に多く利用されている。また、中国には特許/実用新案同日出願制度があり、この制度を利用して実用新案出願を先に権利化し、後に特許出願が登録要件を満たす場合に実用新案権を放棄することにより特許出願の権利化を図ることもできる。