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  • 2015.03.27

    • アジア
    • 審決例・判例
    • 商標
    中国における商標権侵害判例・事例

    (2025年5月8日訂正:
    本記事のソースに、「中国の知的財産権侵害判例・事例集」(2010年度版~最新版)のダウンロードサイトのURLを追記いたしました。)

    「中国の知的財産権侵害判例・事例集」(2014年3月、日本貿易振興機構)商標権では、中国における商標権に係る判例に関して、事件名、争点、書誌的事項、事実関係及び判決内容等の事件の概要等に加えて、解説及び企業へのメッセージが紹介されている。

  • 2015.03.27

    • アジア
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    • 特許・実用新案
    インドネシアにおける特許の早期権利化

    (本記事は、2021/6/22に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/20273/

    インドネシアでは、特許法に基づき、特許庁が出願人による実体審査請求を受領した日から特許については36ヶ月、小特許(日本における実用新案に相当。)については24ヶ月で特許付与または拒絶査定を下すこととなっているが、滞貨案件が理由で、通常は登録まで3~6年を要する。審査手続を促進させるには、方式要件を満たした出願を行い、早期公開請求および実体審査請求とともに、特許審査ハイウェイ(Patent Prosecution Highway : PPH)プログラムとASEAN特許審査協力(ASEAN Patent Examination Co-operation : ASPEC)プログラムを活用することが考えられる。その他、修正実体審査請求を活用することも審査手続の促進に有用である。

  • 2015.03.27

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    • 商標
    韓国における商標権侵害判例・事例

    (本記事は、2021/10/19に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/precedent/21016/

    「韓国の知的財産権侵害判例・事例集」(2014年3月、日本貿易振興機構)商標法では、韓国における商標権に係る判例に関して、事件の書誌事項、概要、事実関係、判決内容に加えて、専門家からのアドバイスが紹介されている。

  • 2015.03.26

    • アジア
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    • 意匠
    中国における特許権侵害判例・事例

    (2025年5月8日訂正:
    本記事のソースに、「中国の知的財産権侵害判例・事例集」(2010年度版~最新版)のダウンロードサイトのURLを追記いたしました。)

    「中国の知的財産権侵害判例・事例集」(2014年3月、日本貿易振興機構)特許権では、中国における特許権・実用新案特許権・意匠特許権に係る判例に関して、事件名、争点、書誌的事項、事実関係及び判決内容等の事件の概要等に加えて、解説及び企業へのメッセージが紹介されている。

  • 2015.03.26

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    • 特許・実用新案
    インドにおけるPCT出願国内移行時の補正

    (本記事は、2020/3/31に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18399/

    インド特許庁は、PCT出願の国内段階移行手続き簡素化に関する公示(CG/Public Notice/PO/2012/15)を2012年7月2日に行い、同日施行した。公示の中で、国内段階移行時(国内書面提出時)における明細書やクレーム等の補正が認められないと定めた。従来は、補正された明細書やクレーム等を国内段階への移行時に自発補正して提出することを認めていたが、PCT出願に係る補正は、国内段階への移行後でないと認められないとされた。

  • 2015.03.26

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    • 意匠
    インドネシアにおける特許関連主要用語対照表

    インドネシアにおける特許、意匠、小特許(日本における実用新案に相当。)の手続きに関する用語や表現について、日本語、英語、インドネシア語の一覧対照表を紹介する。

  • 2015.03.26

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    • 特許・実用新案
    韓国における特許権侵害判例・事例

    (本記事は、2021/10/21に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/precedent/21024/

    「韓国の知的財産権侵害判例・事例集」(2014年3月、日本貿易振興機構)特許法では、韓国における特許権に係る判例に関して、事件の書誌事項、概要、事実関係、判決内容に加えて、専門家からのアドバイスが紹介されている。

  • 2015.03.25

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    • 商標
    インドネシアにおける商標登録手続きの概要と商標の使用義務

    (本記事は、2018/9/18に更新しています。)
     URL:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/15838/

    インドネシアにおける商標登録は、方式審査、実体審査、異議申立期間を経て、出願から約3年半で登録される。存続期間は出願日から10年で、更新登録出願により10年間ごとに更新することができる。登録日からまたはその後の継続する3年間にわたり商業的に商標を使用することが義務付けられており、これを怠ると不使用取消請求の対象となる。製品に商標を付する際には登録番号を表示することが商標法に基づき要求されるが、実務上はこうした表示は行われおらず、番号の不表示に対する罰則も設けられていない。

  • 2015.03.25

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    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    韓国における特許・実用新案・意匠・商標に関する各種審判制度

    「日中韓における審判・裁判についての制度及び統計分析に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)第5部5.1.4では、韓国における特許・実用新案・意匠・商標に関する各種審判制度について、企業や特許事務所等に対する国内アンケート調査結果を紹介している。

  • 2015.03.24

    • アジア
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    中国における特許・実用新案・意匠・商標に関する各種審判制度

    「日中韓における審判・裁判についての制度及び統計分析に関する調査研究報告書」(平成26年2月、日本国際知的財産保護協会)第5部5.1.3では、中国における特許・実用新案・意匠・商標に関する各種審判制度について、企業や特許事務所等に対する国内アンケート調査結果を紹介している。