新興国等知財情報データバンク 公式サイト

2016.03.22

• アジア
• 審決例・判例
• 意匠

インド意匠法には、コモンロー上の概念である詐称通用に対して、権利者を保護する規定が設けられていない。これまで、意匠権に基づく詐称通用に対しての訴訟を提起することができるか否かについて、裁判所は判断の異なる複数の判決を下してきたが、インドのデリー高等裁判所の大法廷は、意匠法に規定されていないものの、意匠権者は詐称通用に対しての訴訟を提起することができるとの判断を下した。

2016.03.18

• アジア
• 出願実務
• 商標

マレーシアにおける証明商標は、1976年商標法第56条XI部の規定に従い、マレーシア知的財産局（Intellectual Property Corporation of Malaysia : MyIPO）に登録することができる。証明商標の登録出願は、通常の商標の場合と同じ書式により提出されるが、出願人は、出願書（フォームTM5）において証明商標である旨を記載するとともに、案件説明書および商標使用管理運用規則案を添付しなければならない。証明商標の登録が認可されると、当該商標の登録要件および証明制度の種類および管理にかかる不備等を根拠とする第三者による異議申立のために公告される。

2016.03.18

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• 出願実務
• 審判・訴訟実務
• ライセンス・活用
• 関連機関リンク
• その他参考情報
• 特許・実用新案
• 意匠
• 商標
• その他

「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」（平成26年2月、日本国際知的財産保護協会）4-(3)では、ケニアにおける知的財産権関連制度の運用実態について、ケニアの一般情報、知的財産権関連制度（特許・意匠・商標）の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約／海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。

2016.03.18

• アジア
• ライセンス・活用
• 審決例・判例
• 特許・実用新案

インドのデリー高等裁判所は、携帯端末用通信規格に関する標準必須特許をめぐる侵害訴訟で、紛争が解決されるまでのロイヤルティを設定する暫定命令を下した。この事例は標準必須特許のライセンスに適用されるFRAND原則をインド裁判所が支持した初の事例である。今回、裁判所が侵害行為に対する迅速な救済措置の姿勢を示したことで、とりわけ携帯端末というインドの巨大市場において、権利行使の動きが活発になることが見込まれる。

2016.03.18

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• 商標

（本記事は、2018/8/23に更新しています。）
　URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/15672/

フィリピンでは、商標出願に際して使用証拠は必要とされないが、フィリピン商標規則の規則204に基づき、出願日から3年以内および登録日から5年目を経過した後、１年以内に商標の実際の使用に関する宣誓書（Declaration of Actual Use : DAU）およびフィリピンにおける当該商標の商業的使用の証拠を提出することが義務づけられている。

2016.03.15

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「モロッコにおける知的財産権利行使マニュアル」（2015年1月、日本貿易振興機構 デュッセルドルフ事務所）5では、モロッコにおける意匠制度について、工業意匠にかかる法規則、工業意匠出願手続きの概要、工業意匠権侵害に対する訴訟手続きの概要等が説明されているとともに、工業意匠権侵害訴訟の事例研究も紹介されている。また、付属書として、工業意匠出願の願書様式（様式D1）も紹介されている。

2016.03.15

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• 制度動向
• 特許・実用新案
• 商標

インドネシアでは、2008年に商標法改正案が、2012年に特許法改正案が公表され、それぞれ政府による改正作業が続けられている。公表された商標法改正案には、出願手続や更新手続の改正や保護対象の拡大などが盛り込まれ、特許法改正案には、電子出願の導入や、簡易特許（日本における「実用新案」に相当。）の定義の改正（組成物の追加）、強制実施権の付与などが盛り込まれている。公表された改正案に対する修正等については明らかにされておらず、最終的にどのような改正が行われるのか、引き続き注視が必要である。

2016.03.15

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• 意匠
• 商標

「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」（平成26年2月、日本国際知的財産保護協会）3-2-(3)では、ケニアにおける知的財産権関連制度の概要について、特許、実用新案、意匠および商標の出願制度の概要が説明されている。

2016.03.15

• アジア
• 法令等
• 出願実務
• 意匠

マレーシアにおける意匠の分割出願は、マレーシア工業意匠法(日本における意匠法に相当。) 第19条に基づく意匠の補正請求が認められ、かつ、当該補正請求が原出願の1つまたは2つ以上の意匠を排除する効果を有する場合にのみ認められる。また分割出願は、原出願の登録前に請求されなければならず、原出願に開示されていない事項を含めてその範囲を拡大することはできない。

2016.03.11

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• 特許・実用新案
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• 商標
• その他

「アフリカ諸国における知的財産権制度運用実態及び域外主要国による知財活動に関する調査研究報告書」（平成26年2月、日本国際知的財産保護協会）4-(2)では、エジプトにおける知的財産権関連制度の運用実態について、エジプトの一般情報、知的財産権関連制度（特許・意匠・商標）の運用実態上の課題・留意点・リスク、さらにエンフォースメント環境や権利取得手続および訴訟手続等に要する時間的・金銭的コスト、ライセンス契約／海外送金等における規制、統計情報等が紹介されている。