新着情報

ホーム 新着情報
  • 2022.02.01

    • アジア
    • 法令等
    • その他
    インドのその他の法律、規則、審査基準等

    特許・実用新案、意匠、商標を除く、その他のインドの知的財産関連の法律、規則、審査基準等を示す。

  • 2022.02.01

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    タイにおける特許審査基準(2019年版)について

    タイ知的財産局ウェブサイト上に2019年6月に2019年版「発明特許出願および小特許出願の審査マニュアル」が公開された。2012年版審査基準から約7年ぶりに改訂された。本稿では、同審査マニュアルの概要および日本の実務との違いによるタイの実務上留意すべき点を説明する。

  • 2022.01.27

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 意匠
    日本と中国における意匠権の存続期間およびその維持に関する比較

    (2024年6月10日訂正:
    本記事のソース「専利審査指南」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)

    日本における意匠権の存続期間は、出願日から25年をもって終了する。一方、中国における意匠権の存続期間は、出願日から15年をもって終了する。

  • 2022.01.27

    • アジア
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 商標
    中国における商標権侵害判断基準の解説

    2019年12月18日、中華人民共和国国家知識産権局は、『商標権侵害判断基準』(以下「基準」という)の意見募集稿を公表し、2020年6月15日、正式公布し同日から施行した。基準は、全38条から構成され、商標の使用、同一または類似商品または役務の判断、同一または類似商標の判断、需要者の混同、販売者の法的責任の免除、商標権者の抗弁などの内容について細かく規定している。本稿では、基準の一部の内容について説明する。

  • 2022.01.27

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    インドネシアにおける特許制度のまとめ-手続編

    インドネシアの特許付与プロセスは、特許法2016年(雇用創出法2020年第11号により改正された特許法2016年第13号)と、特許規則2018年(特許出願に関する法務人権省規則2021年第13号により改正された特許規則2018年第38号)によって規定されている。手続きに関連するインドネシアの特許制度を以下に紹介する。

  • 2022.01.25

    • アジア
    • 制度動向
    • 意匠
    韓国におけるデザイン一部審査登録制度および対象物品の拡大

    韓国ではデザイン(意匠)出願に対して、新規性等の実体的要件を審査してデザイン権を付与する審査主義を採用していたが、出願件数の増加に伴い、迅速に権利化できない問題が生じたため、一部の物品については審査をせず登録する「無審査登録制度」を1998年3月1日付で導入した。しかし、制度上の様々な問題が生じたために2014年7月1日付で「一部審査登録制度」へと名称を変更し、登録基本要件を審査することになった。また、2020年12月にデザイン一部審査登録出願の対象物品の分類区分が拡大された。

  • 2022.01.25

    • アジア
    • 出願実務
    • 制度動向
    • その他参考情報
    • 意匠
    台湾意匠審査基準の改訂ポイント(前編)

    台湾知的財産局は、科学技術の進歩を踏まえ、デジタルイノベーション経済の発展を推進するとともに、近年の台湾の意匠(中国語(台湾語)「設計専利」)制度を改めて見直し、2020年9月29日に「専利審査基準-第三篇設計専利実体審査」の一部の改訂案を公告し、同年11月1日より施行した。本稿では前編、後編に分けで審査基準の改正ポイントについて解説する。
    前編では、画像デザインに関する基準の改訂、建築物と室内デザインを意匠登録の保護対象とすることの明文化について説明する。
     後編:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/21976/

  • 2022.01.25

    • アジア
    • 出願実務
    • 制度動向
    • その他参考情報
    • 意匠
    台湾意匠審査基準の改訂ポイント(後編)

    台湾知的財産局は、科学技術の進歩を踏まえ、デジタルイノベーション経済の発展を推進するとともに、近年の台湾の意匠(中国語「設計専利」)制度を改めて見直し、2020年9月29日に「専利審査基準-第三篇設計専利実体審査」の一部の改訂案を公告し、同年11月1日より施行した。本稿では前編、後編に分けで審査基準の改正ポイントについて解説する。
    後編では、明細書と図面の開示要件を緩和、分割出願に対する制限の緩和について説明する。
     前編:https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/21973/

  • 2022.01.20

    • アジア
    • その他参考情報
    • その他
    中国の最高人民法院知的財産権法廷裁判要旨の解説

    2019年1月1日に日本の最高裁にあたる中国の最高人民法院の中に、技術類知的財産権訴訟(専利権、プログラム著作権、植物新品種、技術的ノウハウ(不正競争)などの専門技術性が比較的高い知的財産権訴訟)の第二審を専門に管轄する法廷(最高人民法院知的財産権法廷、以下「最高知財法廷」という。)が設置されることになった。2021年2月26日に最高知財法廷は、「最高人民法院知的財産権法廷裁判要旨(2020)」(以下、「裁判要旨2020」という。)を公布した。「裁判要旨2020」は、2020年に最高知財法廷が結審した2787件の技術類知的財産権案件の中から選出した55件の典型的判例および46条の裁判規則を収録し、知的財産権分野における審理時の考え方、裁判方法を示している。

  • 2022.01.20

    • アジア
    • 法令等
    • その他
    香港のその他の法律、規則、審査基準等

    特許・実用新案、意匠、商標を除く、その他の香港の知的財産関連の法律、規則、指針等を示す。