新興国等知財情報データバンク 公式サイト

2014.09.22

• アジア
• ライセンス・活用
• アーカイブ
• その他参考情報
• その他

（本記事は、2021/9/7に更新しています。）
　URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20830/

「韓国ライセンスマニュアル」（2011年3月、日本貿易振興機構）第４編では、韓国における交渉の準備と実施、契約の履行と管理について紹介されている。具体的には、ライセンス交渉で事前に準備すべき事項、交渉における協議事項、ライセンスの実行及び管理等について説明されている。

2014.09.22

• アジア
• 法令等
• その他

特許・実用新案、意匠、商標を除き、その他台湾の知的財産関連の法律、規則、審査基準等を示す。

2014.09.19

• アジア
• 出願実務
• 審判・訴訟実務
• 審決例・判例
• 意匠

「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」（2013年2月、日本国際知的財産保護協会）第II部、第III部では、台湾における意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、台湾の意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠の表現例等について、海外アンケートと海外ヒアリングの結果と共に紹介されている。

2014.09.19

• アジア
• 審判・訴訟実務
• 特許・実用新案

「実用新案活用法と他社権利行使への対応に関する調査報告書」（2012年3月、日本貿易振興機構上海事務所知的財産部）第2章2.3では、中国における実用新案権の無効宣告請求と訴訟対応の留意点について紹介されている。具体的には、新規性、進歩性等の無効理由、無効宣告段階の修正、無効宣告段階の口頭審理、訴訟提起時の評価報告書提出の要否等について紹介されている。

2014.09.19

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• その他参考情報
• 意匠

シンガポールにおける意匠権の存続期間は出願日から5年であるが、2度の延長申請（各5年ずつ）によって、最長で出願日から（優先権主張を伴う出願の場合には優先日から）15年間有効に存続することが可能である。

2014.09.16

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• 特許・実用新案
• 商標
• その他

（本記事は、2021/9/7に更新しています。）
　URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/20830/

「韓国ライセンスマニュアル」（2011年3月、日本貿易振興機構）第６編では、韓国における契約書の作成について紹介されている。具体的には、ライセンス契約書全体の構成を前文、本文及び後文にわけ、前文については、導入部、説明部及び約因部、本文については、定義条項、実施許諾条項及び技術指導条項等、各項目に含まれる具体的な条項を列挙し、それぞれの内容について紹介されている。

2014.09.16

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• 出願実務
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• 特許・実用新案

（本記事は、2020/3/31に更新しています。）
　URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/application/18396/

ベトナムでは、出願日（優先日）から42ヶ月以内に実体審査請求を行わなければならず、実体審査請求の後18ヶ月以内に実体審査がなされることとなっている。

2014.09.16

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• その他

「台湾模倣対策マニュアル」（2013年3月、交流協会）四、（四）では、台湾における商号の登録手続の概要（必要書類、費用等）、商号に係る紛争における商標法、公平交易法及び会社法による規制、救済手段等について説明されている。

2014.09.12

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• 特許・実用新案
• 意匠

「中国専利無効審判請求・訴訟における注意点に関する調査報告書」（2012年3月、日本貿易振興機構上海事務所知識産権部）第三章では、中国における無効審判請求と特許訴訟との関係について紹介されている。具体的には、侵害訴訟への対抗措置、答弁期間、無効審判による侵害訴訟の中止、裁判管轄、裁判の延期方法、無効審判中の権利行使、警告状等について、Q&A形式で紹介されている。

2014.09.12

• アジア
• 法令等
• アーカイブ
• 商標

（本記事は、2020/6/11に更新しています。）
　URL：https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/18631/

台湾の商標関連の法律、規則、審査基準等を示す。