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  • 2016.01.22

    • アジア
    • 法令等
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    • 制度動向
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    • その他
    韓国における営業秘密にかかる紛争解決

    「営業秘密流出対応マニュアル(韓国)」(2015年3月、日本貿易振興機構)第4編では、韓国における営業秘密にかかる紛争解決について、証拠資料の確保から各種紛争解決手続までの手順とロードマップ、民事的解決方法、刑事的解決方法、調停や仲裁の手続、公正取引委員会または貿易委員会への申告や調査要請の手続等について、詳細に紹介されている。また、営業秘密保護法の最近の改正動向も紹介されている。

  • 2016.01.22

    • アジア
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    • 特許・実用新案
    タイにおける特許審査ハイウェイ(PPH)の利用

    「海外での早期権利取得を支援する特許審査の運用に関する調査研究報告書」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)III-3【タイ】では、タイにおけるPPH(特許審査ハイウェイ)の利用について、利用可能なPPHの種類、申請要件、申請書類、申請後の取扱い等について説明されている。また、国内ユーザーのPPHの利用について実施したアンケートおよび調査の結果も紹介されている。

  • 2016.01.22

    • アジア
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    中国改正商標法と現行制度の審査業務フローの比較および改正後の法執行の概要

    「中国・改正商標法マニュアル」(2015年3月、日本貿易振興機構 進出企業支援・知的財産部 知的財産課)二では、中国における商標法の改正前と改正後の商標出願フローの比較と、補正手続きの変化や分割出願の追加、異議申立手続きの変化等の法改正による主な変化についての説明が、三では、商標法改正後の法執行の変化と法執行の最近の傾向について、それぞれ紹介されている。

  • 2016.01.19

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    台湾における特許審査基準関連資料

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部7では、台湾における特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.01.19

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    中国改正商標法関連規定の主な改正点

    「中国・改正商標法マニュアル」(2015年3月、日本貿易振興機構 進出企業支援・知的財産部 知的財産課)一の3、4、5、6および7では、中国において2014年5月1日より施行された改正商標法に伴い改正、施行された馳名商標認定保護規定等の関連法令等について、主な改正点が詳細に紹介されている。また、参考資料として、馳名商標認定保護規定等の関連法令等の全文和訳も掲載されている。

  • 2016.01.19

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    • 特許・実用新案
    シンガポールにおける特許審査ハイウェイ(PPH)の利用

    「海外での早期権利取得を支援する特許審査の運用に関する調査研究報告書」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)III-3【シンガポール】では、シンガポールにおけるPPH(特許審査ハイウェイ)の利用について、利用可能なPPHの種類、申請要件、申請書類、申請後の取扱い等について説明されている。また、国内ユーザーのPPHの利用について実施したアンケートおよび調査の結果も紹介されている。

  • 2016.01.15

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    韓国における営業秘密流出の実態と事前防止策

    「営業秘密流出対応マニュアル(韓国)」(2015年3月、日本貿易振興機構)第2編では、韓国における営業秘密の流出実態に関する統計や営業秘密保護法上における営業秘密侵害行為類型の事例について、第3編では、韓国における営業秘密の保護措置、営業秘密流出後の被害を最小化するための事前措置、企業間取引や退職者による営業秘密の流出実態や事前防止策について、それぞれ紹介されている。

  • 2016.01.15

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    • 特許・実用新案
    インドネシアにおける特許審査ハイウェイ(PPH)の利用

    「海外での早期権利取得を支援する特許審査の運用に関する調査研究報告書」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)III-3【インドネシア】では、インドネシアにおけるPPH(特許審査ハイウェイ)の利用について、利用可能なPPHの種類、申請要件、申請書類、申請後の取扱い等について説明されている。また、国内ユーザーのPPHの利用について実施したアンケートおよび調査の結果も紹介されている。

  • 2016.01.15

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    インドにおける商標制度の運用実態

    「ブラジル・メキシコ・コロンビア・インド・ロシアの産業財産権制度及びその運用実態に関する調査研究報告書」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第2部-IV-Eでは、インドにおける商標制度の運用実態について、商標制度の枠組、商標出願から登録までの手続の流れ、商標出願審査の内容、商標出願や登録に関する統計情報等について、関連条文やフローチャートを交えて紹介されている。

  • 2016.01.12

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    • ライセンス・活用
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    • 商標
    中国改正商標法及び実施条例の主な改正点

    「中国・改正商標法マニュアル」(2015年3月、日本貿易振興機構 進出企業支援・知的財産部 知的財産課)一の1では、中国において2014年5月1日より施行された改正商標法について、一の2ではこれに伴い改正、施行された商標法実施条例について、主な改正点が詳細に紹介されている。また、参考資料として、改正商標法の条文の和訳・対照表、商標法実施条例の全文和訳も掲載されている。