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  • 2021.05.20

    • アジア
    • 審判・訴訟実務
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    中国における特許・実用新案・意匠(中国語「専利」)の拒絶査定不服審判制度概要(中国語「専利復審請求制度」)

    (2022年7月15日訂正:
    本記事のソース「中国特許庁(国務院専利行政部門(専利再審、無効))(中国語「国家知识产权局专利复审和无效」)ウェブサイト」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)

    中国特許庁審査部の決定に不服の場合は、国務院専利行政部門(中国語「国务院专利行政部门」)に対して、審判請求をすることができる。審判手続は、主に(1)方式審査、(2)審査部における前置審査、(3)前置審査において拒絶査定を維持しないと判断場合は元の審査部で再審査、前置審査において拒絶査定を維持すると判断した場合は審判合議体による審判の手順で進められる。出願人は、国務院専利行政部門の決定に不服がある場合、人民法院に訴訟を提起することができる。

  • 2021.05.20

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 意匠
    中国の意匠特許における機能性および視認性

    中国では現在、どの程度の機能性が存在すれば意匠特許保護の範囲から除外されるのかをめぐる論争が特許実務者の間で展開されており、その基準はまだ確立されていない。意匠特許保護の範囲の判断にあたって意匠の視認性をどの程度考慮すべきかについても、専利法および同法施行規則には明示規定が存在しない。ただし、機能性と比較した場合、意匠特許における視認性の問題は、中国の特許実務家の中では機能性の問題よりもはるかに統一的なやり方で処理されている。

  • 2021.05.18

    • アジア
    • 出願実務
    • 制度動向
    • 特許・実用新案
    中国における特許制度のまとめ-実体編

    中国における特許制度の運用について、その実体面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

  • 2021.05.18

    • アジア
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    中国における特許制度のまとめ-手続編

    中国における特許制度運用について、その手続き面に関する法令、出願実務を関連記事とともにまとめて紹介する。

  • 2021.05.18

    • アジア
    • 法令等
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他
    中国における知的財産の基礎的情報(全体マップ)-実体編

    (2022年5月27日訂正:
    本記事の「规费清单(料金表)」のURLが、リンク切れとなっていたため、修正いたしました。)

    本記事は、「新興国等知財情報データバンク」に掲載されている中国の知的財産に関連する基礎的な情報へのアクセス性を向上させるために、当該基礎的な情報の全体像をマップ的に示すものである。
    具体的に、「実体編」の本記事では、中国の知的財産に関連する基礎的な情報について、原文およびその翻訳文(英語または日本語でアクセスできるもの)のURLアドレスを掲載し、これらに関連する「新興国等知財情報データバンク」内の記事(関連記事)およびその他の情報(関連情報)の主なものについて、URLを掲載した。

  • 2021.05.13

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標
    韓国における商標出願の拒絶理由通知に対する対応

    韓国特許庁に商標出願して拒絶理由通知を受ける場合、性質表示標章に該当(商標法第33条第1項第3号)、あるいは、引用商標と同一または類似(商標法第34条第1項第7号、第35条第1項)、指定商品に関するものとして、包括名称または不明確に該当(商標法第38条)という内容が多い。拒絶理由通知を受けた場合、通知書の発送日から2か月以内に意見書および補正書を提出することができ、この期間は1か月ずつ4回まで延長が可能である。また、意見書提出期間内に意見書を提出できなかった場合、その期間の満了日から2か月以内に商標に関する手続きを継続して進行することを申請し、拒絶理由に対する意見書を提出することもできる(商標法第55条第3項)。

  • 2021.05.13

    • アジア
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    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    韓国における特許・実用新案出願制度概要

    特許および実用新案の出願手続は、主に(1)出願、(2)方式審査、(3)出願公開、(4)審査請求および実体審査、(5)登録の手順で進められる。2017年3月1日出願からは、審査請求期間が特許および実用新案どちらも出願日(国際出願の場合は国際出願日)より3年に変更された。権利は設定の登録日から生じるが、特許権の存続期間は出願日から20年、実用新案権の存続期間は出願日から10年を越えることはできない。

  • 2021.05.13

    • アジア
    • 法令等
    • 審決例・判例
    • 特許・実用新案
    • 意匠
    • 商標
    • その他
    シンガポールにおける知的財産の基礎的情報(全体マップ)-関連情報編

    本記事は、「新興国等知財情報データバンク」に掲載されているシンガポールの知的財産に関連する基礎的な情報へのアクセス性を向上させるために、当該基礎的な情報の全体像をマップ的に示すものである。
    具体的に、「関連情報編」の本記事では、シンガポールの知的財産に関連する情報として、特許や商標等の公報データベース、審決・判決データベース、出願統計データベース、主な知的財産関係機関のウェブサイトのURLを掲載した。

  • 2021.05.11

    • アジア
    • 法令等
    • 特許・実用新案
    シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等

    シンガポールの特許関連の法律、規則、審査基準等を示す。

  • 2021.05.11

    • アジア
    • 法令等
    • 商標
    シンガポールの商標関連の法律、規則、審査基準等

    シンガポールの商標関連の法律、規則、審査基準等を示す。