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  • 2016.02.05

    • アジア
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    • その他
    韓国における医薬品等の特許権の延長登録制度と関連制度

    「医薬品等の特許権の存続期間の延長登録制度及びその運用の在り方に関する調査研究報告書」(平成27年2月、知的財産研究所)Ⅳ-3では、韓国における医薬品等の特許権の延長登録制度と関連制度について、延長登録の対象製品や手続き、医薬品の販売承認の流れ等について紹介されている。また、米国、欧州、韓国の特許権の延長制度の比較一覧、韓国関係機関や代理人事務所に対する質問事項と回答も掲載されている。

  • 2016.02.05

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    インドにおける意匠の表現に関する制度・運用

    「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」(平成25年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部および第Ⅳ部では、インドにおける意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、インドの意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠公報に掲載された意匠の表現例、判例等について、海外アンケートと海外ヒアリングの結果と共に紹介されている。

  • 2016.02.05

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    中国における技術常識(中国語:「公知常識」)の立証責任の所在

    中国特許審査実務において、発明の進歩性を評価する際、「引用文献の『技術常識(中国語:「公知常識」)』を組み合わせることにより、本発明の請求項に記載されている技術的特徴を導くことができる」という論理により、発明の進歩性が否定される事例が数多く見受けられる。公知常識に関する立証責任は、実体審査段階、無効審判段階、行政訴訟段階においてそれぞれ異なり、本稿では立証責任の所在に関して説明する。

  • 2016.02.02

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    中国改正商標法について留意すべき点

    「中国・改正商標法マニュアル」(2015年3月、日本貿易振興機構 進出企業支援・知的財産部 知的財産課)四では、中国における第三次商標法改正による変化に伴う留意すべき点について、具体的には、音声商標の導入や商標登録更新期間の変更、商標権譲渡手続きの変化等の申請案件の変化に伴う留意点、審査・審理期限の明文化や未登録商標に対する保護の強化、懲罰的賠償制度の導入等の商標権利保護に関する変化に伴う留意点等について紹介されている。

  • 2016.02.02

    • アジア
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    • 特許・実用新案
    インドネシアにおける特許審査基準関連資料

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部2では、インドネシアにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.02

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    台湾における特許関連番号フォーマット

    台湾における特許関連の公報等に用いられる出願番号および公開番号には年度が含まれているが、出願番号には台湾暦が用いられ、公開番号には西暦が用いられており、注意が必要である。台湾暦に1911を加えると西暦年となり、逆に、西暦から1911を引くと台湾暦になる。なお、登録番号には年度は含まれない。台湾における各種番号フォーマットおよび欧州特許庁が提供するEspacenetでの番号フォーマットを紹介する。

  • 2016.01.29

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    ベトナムにおける特許審査基準関連資料

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部4では、ベトナムにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.01.29

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    フィリピンにおける特許審査ハイウェイ(PPH)の利用

    「海外での早期権利取得を支援する特許審査の運用に関する調査研究報告書」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)III-3【フィリピン】では、フィリピンにおけるPPH(特許審査ハイウェイ)の利用について、利用可能なPPHの種類、申請要件、申請書類、申請後の取扱い等について説明されている。また、国内ユーザーのPPHの利用について実施したアンケートおよび調査の結果も紹介されている。

  • 2016.01.26

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    • 特許・実用新案
    中国における特許審査ハイウェイ(PPH)の利用

    「海外での早期権利取得を支援する特許審査の運用に関する調査研究報告書」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)III-3【中国】では、中国におけるPPH(特許審査ハイウェイ)の利用について、利用可能なPPHの種類、申請要件、申請書類、申請後の取扱い等について説明されている。また、国内ユーザーのPPHの利用および法律事務所によるPPHの利用について実施したアンケートおよび調査の結果も紹介されている。

  • 2016.01.26

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    香港における意匠の表現に関する制度・運用

    「各国における意匠の表現に関する調査研究報告書」(平成25年2月、日本国際知的財産保護協会)第II部、第III部では、香港における意匠の表現に関する制度について紹介されている。具体的には、香港の意匠制度概要、意匠の保護客体、意匠の開示方法、意匠の特定・認定・補正の考え方、意匠公報に掲載された意匠の表現例等について、海外アンケートの結果と共に紹介されている。