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  • 2016.02.16

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標
    インドネシアにおける商標審査基準関連資料

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【商標編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅱ部2では、インドネシアにおける商標の審査基準関連資料について紹介されているとともに、その内容として、商品および役務の区分にかかる判断方法、自国以外の歴史上の人物名からなる商標登録出願に関する規定、地理的表示・原産地呼称を商標として登録するための規定、登録要件や不登録事由に関する規定が説明されている。

  • 2016.02.16

    • アジア
    • 法令等
    • 審判・訴訟実務
    • 商標
    中国における商標事件の管轄および法適用の問題に関する解釈の公布

    商標事件を正しく審理するために、2014年4月10日、最高人民法院は司法解釈として「最高人民法院による商標法改正の施行後における商標事件の管轄および法適用の問題に関する解釈」(中国語表記:最高人民法院关于商标法修改决定施行后商标案件管辖和法律适用问题的解释)を公布し2014年5月1日より施行された。

  • 2016.02.12

    • アジア
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    • 制度動向
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    • その他
    韓国における知的財産取引ビジネスの関連施策と実態

    「未利用特許等の知的財産取引ビジネスの実態に関する調査研究報告書」(平成27年2月、エヌ・ティ・ティ・データ経営研究所)Ⅱ-6では、韓国における知的財産取引ビジネスの関連施策について、その背景や市場の概況等が、また、Ⅳ-6では韓国における知的財産取引ビジネスの実態について、ビジネスの概況や実績、直面している課題、今後の景況感等がそれぞれ紹介されている。

  • 2016.02.12

    • アジア
    • 法令等
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    • 特許・実用新案
    タイにおける特許審査基準関連資料

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部5では、タイにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.12

    • アジア
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    • 特許・実用新案
    シンガポールにおける特許出願制度

    本稿ではシンガポールにおける特許出願制度について説明する。特に、シンガポールには2014年2月14日に施行された改正特許法において導入された独自の審査オプションが存在する。これらのオプションを踏まえた上で出願から登録までの流れを説明する。

  • 2016.02.09

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    シンガポールにおける特許審査基準関連資料

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部1では、シンガポールにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。

  • 2016.02.09

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 商標
    フィリピンにおける商標審査基準関連資料

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【商標編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅱ部3では、フィリピンにおける商標の審査基準関連資料について紹介されているとともに、その内容として、商品および役務の区分にかかる判断方法、自国以外の歴史上の人物名からなる商標登録出願に関する規定、地理的表示・原産地呼称を商標として登録するための規定、登録要件や不登録事由に関する規定が説明されている。

  • 2016.02.09

    • アジア
    • 統計
    • 出願実務
    • その他参考情報
    • 特許・実用新案
    台湾における特許審査ハイウェイ(PPH)の利用

    「海外での早期権利取得を支援する特許審査の運用に関する調査研究報告書」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)III-3【台湾】では、台湾におけるPPH(特許審査ハイウェイ)の利用について、利用可能なPPHの種類、申請要件、申請書類、申請後の取扱い等について説明されている。また、国内ユーザーのPPHの利用について実施したアンケートおよび調査の結果も紹介されている。

  • 2016.02.09

    • アジア
    • 出願実務
    • 意匠
    韓国におけるデザイン(意匠)の登録要件

    韓国におけるデザイン(意匠)の登録要件として、デザイン保護法第33条に基づき、i)新規性、ii)創作性、iii)工業上の利用可能性を満たさなければならず、iv)拡大された先出願主義に違反してはならない。また、v)上記要件を満たしたデザインまたはこれと類似のデザインが2以上出願された場合には、一番先に出願した者のみが登録を受けることができる。

  • 2016.02.05

    • アジア
    • 法令等
    • 出願実務
    • 特許・実用新案
    マレーシアにおける特許審査基準関連資料

    「ASEAN主要国及び台湾における特許及び商標の審査基準・審査マニュアルに関する調査研究報告書【特許編】」(平成27年3月、日本国際知的財産保護協会)第Ⅲ部6では、マレーシアにおける特許の審査基準関連資料とその内容について説明されている。また、コンピュータ・ソフトウエア関連発明をはじめとする特定技術分野に関する審査基準関連資料についても紹介されている。