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2025.03.13
韓国における特許権侵害の判例「韓国の知的財産権侵害判例・事例集」（2024年3月、日本貿易振興機構）（以下、「本判例集」という。）の特許法の章では、韓国における特許権侵害についての大法院判決5件、特許法院判決12件を紹介している。
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2025.03.13
韓国における知的財産基礎情報について「韓国知的財産基礎情報」（2024年2月、日本貿易振興機構 ソウル事務所）では、韓国における知的財産に関連する法令、基礎情報、統計情報（出願件数、外国出願件数、審査・審判処理件数、処理期間、登録件数等）、取締りおよび権利紛争状況、韓国特許庁の組織図を紹介している。
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2025.03.11
韓国における職務発明制度韓国における職務発明制度は、従前（2006年9月2日以前）は特許法と発明振興法でそれぞれ規定されていたが、現在は発明振興法においてのみ規定されている。韓国に籍を置く会社は、韓国発明振興法に定められている規定により職務発明を管理する必要がある。2024年に発明振興法および発明振興法施行令の職務発明関連規程が改正されたので、それを反映させた関連法条文および留意事項を説明する。
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2025.03.11
台湾における商標の権利取得手続（「台湾知的財産保護マニュアル」より）「台湾知的財産保護マニュアル（旧 台湾模倣対策マニュアル）」（2022年3月、日本台湾交流協会）（以下「本マニュアル」という。）では、台湾の知的財産制度および模倣対策について紹介している。本稿では、本マニュアル中の、台湾における商標の権利取得手続、その他の商標に関連する項目について、概要を紹介する。
なお、本マニュアル全般に関しては、2023年8月24日公開記事「台湾における知的財産保護マニュアル」において、全概要を紹介しているので、必要に応じ参照されたい。
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/34700/ -
2025.03.11
台湾における著作権保護について（「台湾知的財産保護マニュアル」より）「台湾知的財産保護マニュアル（旧 台湾模倣対策マニュアル）」（2022年3月、日本台湾交流協会）（以下「本マニュアル」という。）では、台湾の知的財産制度および模倣対策について紹介している。本稿では、本マニュアル中の、台湾における著作権保護に関連する項目について、概要を紹介する。
なお、本マニュアル全般に関しては、2023年8月24日公開記事「台湾における知的財産保護マニュアル」において、全概要を紹介しているので、必要に応じ参照されたい。
https://www.globalipdb.inpit.go.jp/laws/34700/ -
2025.03.06
中国における意匠出願の補正意匠の出願人は、出願日から2か月以内に意匠出願書類を自発補正することができる。また、出願人は、拒絶理由通知または補正指令を受けた場合、それらに応答する際にも出願書類を補正することができる。ただし、いずれの場合にも、出願時に提出した図面に現れた範囲を超えてはならない。2021年6月1日施行の改正中国専利法において、部分意匠が導入されたため、部分意匠に関連した補正についても本稿で説明する。
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2025.03.06
中国における商標の審決の調べ方中国国家知識産権局商標局のウェブサイト「中国商標網」には2016年3月17日から現在までの商標の審決が掲載されている。本稿では、中国商標網における審決の閲覧方法を紹介する。
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2025.03.04
香港における産業財産権権利化費用香港知識産権署のサイトには、特許、意匠、商標の出願から権利化までの関連手続の庁費用が掲載されている。2019年12月19日から、香港特別行政区政府は、香港独自に付与する特許制度を施行し、短期特許制度も改正した。また、2024年3月1日から、意匠出願に関する改正が施行された。本稿における手続費用はそれらを反映した内容となっている。本稿では、香港独自に付与する標準特許、再登録による標準特許、短期特許、意匠、商標の出願から権利化にかかる公的費用と一般的な代理人報酬費用の一覧を示す。
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2025.03.04
中国における専利（特許・実用新案・意匠）の存続期間中国の専利（特許・実用新案・意匠）制度では、専利法第42条第1項の規定に基づき、特許権の存続期間は出願日から20年、実用新案権の存続期間は出願日から10年となっており、そして2021年6月に施行となった第4次専利法改正法で意匠権の存続期間が延長され、出願日から15年となった。さらに、同改正により、特許権の存続期間の延長に関する新しい規定も盛り込まれた。特許権の存続期間については、審査によって生じた遅延に対して延長することが可能となり、さらに、医薬品の発売を承認するための審査にかかる時間に対して、最大5年間の存続期間の延長が認められる。
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2025.02.27
シンガポールにおける特許を受けることができる発明と特許を受けることができない発明シンガポール特許法において、「発明」は定義されていない。シンガポール特許法第13条(1)では、特許を受けることができる発明は、(a)発明が新規である、(b)発明に進歩性がある、(c)発明が産業上利用できる、という条件を満たすものであると規定されている。シンガポール特許法では、ごく限られた特許性の具体的例外しか規定されていない。ある種の主題における特許適格性については、不明瞭なままである。その中で、本稿では、ソフトウェアに関連した発明と治療方法に関連した発明の特許適格性を中心に説明する。
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